SU1295361A1 - Способ получени тестовых изображений - Google Patents

Abstract

Изобретение может быть использовано при изготовлении оптических клиньев дл  сенситометрических испытаний . Цель изобретени  - расширение области применени  способа за счет получени  тестового изображени  в виа де оптического клина структурного типа . Пропущенное через пол роид 3 излучение лазера 1 преобразуют микро-, объективом 4 в расход щийс  пучок. Ограничивают диаметр прошедшего через рассеиватель 5 пучка посредством круглой диафрагмы 6. Измер ют фотоэлектрическим приемником 9 освещенность в плоскости экспонировани , в которую затем помещают маску 7 с окном . Экспонируют с помощью затвора 2 с посто нной величиной экспозиции различные участки фотоматериала 8, измен   перед каждым последующим экспонированием соотношение диаметра диафрагмы и рассто ни  до фотоматериала 8. Посто нство величины экспозиции обеспечиваетс  путем изменени   ркости источника или времени экспонировани . 3 з.п.ф-лы, 2 ил. S сл N3 СО СП со О5

Description

5 f..nnn

4 i

2D-W

/

Ц.

Фаг.}

Изобретение относитс  к сенситометрии , в частности к способам изготовлени  оптических клиньев дл  сенситометрических испытаний.

Цель изобретени  - расширение области применени  за сч&т получени  тестового изображени  в виде оптического клина структ урного типа.

На фиг,1 изображена схема устройства дл  получени  тестовых изображений клина структурного типа; на фиг.2 - четыре пол  клина структурного типа (с шагом изменени  структуры в два раза).

На схеме (фиг.1) обозначены лазер 1, затвор 2, пол роид 3, микрообъектив 4, матовое стекло (рассеива- тель) 5, диафрагму 6, маску с окном 7, светочувствительный материал 8, фотоэлектрический приемник 9, измерительный прибор 10, электрически св занный с приемником 9.

Сущность изобретени  заключаетс 

в том, что формируют расход щийс  пу- 25 значени . Во втором случае измечок когерентного излучени  лазера, рассеивают его диффузным, матовым рассеивателем, ограничивают размер рассе нного пучка диафрагмой диаметром D и изображение спекловой картины многократно последовательно экспо нируют на разные участки фотоматериала , измен ют соотношени  размера диафрагмы D и рассто ни  L при каждом последующем экспонировании и измен ют услови  экспонировани  дл  обеспечени  посто нства экспозиции.

Способ осуществл ют следующим образом .

Пучок излучени  лазера 1 при открытом затворе 2 пропускают через пол роид 3 и преобразуют в расход щийс  пучок микрообьективом 4. Затем расход щийс  пучок за микрообъективом 4 пропускают через рассеиватель 5, например матовое стекло, и непосредственно за ним ограничивают диаметр D пучка круглой диафрагмой 6. В плоскости предполагаемого экспонировани  на рассто нии L от диафрагмы 6 измер ют освещенность с помощью фотоэлектрического приемника 9, электрически св занного с измерительным прибором 10. Затем помещают в эту плоскость фотоматериал 8 и непосредственно перед ним помещают маску 7 с окном, которое ограничивает размер экспонируемого участка, а затем осуществл ют экспонирование фотоматериала 8 с помощью

Ш

29536Л2

затвора 2. При этом величина экспозиции И пропорциональна величине освещенности Е фотоматериала, создаваемой источником излучени , и времени экспонировани  t, т.е. .

Перед каждым последующим экспонированием измен ют соотношение размера диафрагмы и рассто ние D/h. При этом масщтаб спекловой структуры измен етс  пропорционально этому соотношению , но одновременно измен етс  также и освещенность Е в плоскости фотоматериала 8. Эти изменени  можно компенсировать изменением  ркости излучени  источника или изменением времени экспонировани . Яркость излучени  измен ют разворотом пол роида 3 в своей плоскости. При этом пропускание дл  пол ризованного излучени  лазера мен етс , и при измерении фотоприемником 9 в плоскости предполагаемого экспонировани  добиваютс  восстановлени  на приборе 10 прежне15

20

0

5

0

5

0

5

р ют изменение освещенности и затем компенсируют его соответствующим изменением времени экспонировани  дл  получени  посто нства экспозиции. Затем перемещают фотоматериал 8 или маску 7 на величину, равную размеру окна , и затвором 2 производ т очередное экспонирование на фотоматериал 8 . Число экспонирований определ етс  необходимым числом полей изготавливаемого оптического клина, т.е. требуемой точностью испытаний. После выполнени  заданного числа экспонирований производ т фотохимическую обработку фотоматериала 8.

Оптический структурный клин, изготовленный предлагаемым способом, позвол ет осуществл ть сенситометрические испытани  и исследовани  эффективности структурометрической видеоинформационной аппаратуры. Дл  удобства обработки результатов испытаний целесообразно задавать масштаб изменени  структуры от пол  к полю клина с посто нным шагом или отношением . Это условие выполн етс  при изменении соотношени  D/L с посто нным шагом или отношением.

Claims (4)

1. Способ получени  тестовых изображений , включающий формирование расход щегос  пучка когерентного излучени  лазера, рассеивание его диффузным рассеивателем, ограничение диаметра пучка рассеиваемого излучени  диафрагмой и экспонирование рассе нным излучением расположенного на рас- 5 сто нии от диафрагмы фотоматериала с последующей его фото-химической обработкой , отличающийс  тем, что, с целью расширени  области применени  за счет получени  тестово- 0 го изображени  в виде оптического клина структурного типа, экспонируют различные участки фотоматериала, причем перед каждым последующим экспонированием измен ют соотношение диаметра ди- - афрагмы и рассто ние до фотоматериала , а величину экспозиции поддерживают посто нной.

2.Способ поп.1,отличаю- щ и и с   тем, что величину экспозиции поддерживают посто нной путем изменени   ркости источника.

3.Способ поп.1,отличаю- щ и и с   тем, что величину экспозиции поддерживают посто нной путем изменени  времени экспонировани .

4.Способ ПОП.1, отличающийс  тем, что диаметр диафрагмы и рассто ние до плоскости экспонировани  мен ют с посто нным шагом или отношением.