SU1224855A1 - Способ количественного послойного анализа твердых веществ - Google Patents

Способ количественного послойного анализа твердых веществ Download PDF

Info

Publication number
SU1224855A1
SU1224855A1 SU843727038A SU3727038A SU1224855A1 SU 1224855 A1 SU1224855 A1 SU 1224855A1 SU 843727038 A SU843727038 A SU 843727038A SU 3727038 A SU3727038 A SU 3727038A SU 1224855 A1 SU1224855 A1 SU 1224855A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
layer
ions
beams
solid
accuracy
Prior art date
Application number
SU843727038A
Other languages
English (en)
Inventor
Михаил Алексеевич Васильев
Дмитрий Геннадиевич Емельянинков
Валерий Михайлович Коляда
Валентин Тихонович Черепин
Original Assignee
Опытное Конструкторско-Технологическое Бюро С Опытным Производством Института Металлофизики Ан Усср
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Опытное Конструкторско-Технологическое Бюро С Опытным Производством Института Металлофизики Ан Усср filed Critical Опытное Конструкторско-Технологическое Бюро С Опытным Производством Института Металлофизики Ан Усср
Priority to SU843727038A priority Critical patent/SU1224855A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1224855A1 publication Critical patent/SU1224855A1/ru

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

Изобретение относитс  к масс- спектрометрии вторичных ионов и может быть использовано дл  элементного и фазового послойного анализа твердьк веществ. Цепь изобретени  - повышение точности количественного послойного анализа, достигаетс  благодар  тому, что твердое вещество бомбардируют и распыл ют двум  пучками первичных ионов. При этом коэффициент распьшени  одного пучка меньше единицы, а другого - больше единицы . Например, чистый А1 бомбардируют ионами энергией 2 кэВ. Коэффициент распылени  ,5,Через каждые 20 с распыл ют монослой твердого вещества при токе Хе 100мкА/см Измерение концентрации элементов и фаз в А1 производ т пучком первичных ионов Аг после сн ти  20 слоев первым пучком, т.е. через каждые 400 с. Коэффициент распылени  . Таким образом, врем  бомбардировки устанавливают меньшим обратного отношени  коэффициентов распылени  твердого вещества этими пучками. Способ позвол ет повысить точность в 2-3 раза, что дает экономический эффект в сфере производства и изготовлени  элементов микроэлектроники и эмиссионной техники. 1 табл. i (Л го ьэ 4;ib 00 ел ел

Description

Изобретение относитс  к области масс-спектрометрии вторичных ионов и может быть использовано дл  элег ментного и фазового послойного анализа твердых веществ.
Послойный анализ заключаетс  в последовательном .распылении тонких слоев твердого вещества первичными ионами, определении концентрации элементов и фаз в каждом слое и глубины залегани  слоев,- отсчитываемой от исходной поверхности, а точность послойного анализа включает точности определений концентраций и глубин залегани .
Цель изобретени  - повьшение точности количественного послойного анализа достигаетс  за счет использовани  дл  распылени  твердого вещества двух пучков первичных ионов с коэф- -фициентами распьшени  меньше и .больш единицы и о концентрации элементов и фаз суд т по значению потока полиатомных ионов.
Использование двух пучков первичных ионов позвол ет провести послойное распьшение и масс-анализ компонент вещества в оптимальном режиме.. Послойное распыление, проводимое при , где S - коэффициент распылени  твердого вещества, позвол ет снизить микрошероховатость поверхности, перегрев ее,, перемешивание атомов в веществе, скорость распылени , что повышает точность послойного анализа В этих услови х образуютс  в основном одноатомные ионы компонент вещества , поток которых сильно зависит от фазового состава поверхности и не обеспечивает достаточно высокой точг ности элементного анализа. Поэтому дл  проведени  анализа в заданные моменты времени распылени  включают другой пучок ионов с , обеспечивающий получение достаточного дл  заданной чувствительности потока полиатомных ионов, который слабо зависит от фазового состава поверхности твердого вещества..
С ростом S растет поток полиатом- ных ионов с все больщим числом атомов и в то же врем  ухудшаютс  услови  распьшени , в св зи с чем необходимо ограничить коэффициент распьшени  второго пучка тем минимальным значением, при котором получают необходимый поток вторичных ионов за,цан ного состава и числа атомов.
С повышением числа атомов в полиатомном ионе чувствительность к фазовому составу снижаетс , а точность элементного анализа возрастает, в
св зи с чем концентраци  элементов суд т по значению потока полиатомных ионов, образуемьгх пучком с , с числом атомов равным или превыщающим заданное.
Поток одноатомных ионов характеризует фазовый состав твердого вещества , однако точность анализа можно повысить, если дл  этих целей использовать отнощение потоков одноатомных
к полиатомным ионам, поскольку частично сократ тс  погрешности, св занные с нестабильностью условий анализа и-, средств измерений.
Бомбардировка твердого вещества
пучками первичньгх ИОНОВ может производитьс  как раздельно (в этом случае дл  суткдени  о концентраци х используют потоки вторичных ионов., создаваемые вторым пучком), так и
совместно (в этом случае используют ротоки вторичных ионов, создаваемые одновременно обоими пучками)..
Распыление твердого вещества пуч- ком первичных ионов с снижает точность послойного анализа ввиду неблагопри тного воздействи  бомбардировки на .состо ние поверхности, в св зи с. чем вли ние этого пучка минимизируют условием,при котором суммар- на  толщина сло , распыленного при
, должна- быть меньшей толщины сло , распыленного при . Это условие можно выразить соотношением.
d() S(). i ()
1
d(s-iiy s().t()
или t;() S(S.1)
fTsTiT sTsTfy ,
где 2 - врем  распьш.ени . d - толп(ина распьшенного сло .
Как видно из данных, приведенных: 3 таблице, с повьппением числа ато- мов .в полиатомном ионе повышаетс  точность измерений.
Способ осуществл етс  следующим образом. -..
Твердое вещество - технически чистый алюминий - бомбардируют пучком первичных ионов с энергией 2 кэВ, в.результате чего осуществл етс  равномерное распьшение поверхности с коэффициентом S-0,5 (первый пучок). При токе ионов Хе 100мкА/см через каждый 20 с распыл етс  монослой твердого вещества. Поток вторичных двухатомных ионов Alj при этом составл ет 0,510 А при давлении кислорода в камере масс-спектрометра .
Измерение концентрации элементов , и фаз в алюминии производ т раздельно вторым пучком первичных ионов Аг после сн ти  20 слаев первым пучком т.е. через каждые 400 с. Если задать поток вторичных ионов Al j равным
10 А, то дл  получени  его необхо- 15 Па концентраци  0%, а при Р
Из таблицы следует, что п ность определени  концентрац мини  при использ овании одно ионов А1 в зависимости от ф 5 состава может составить боле в то врем  как при использов нов Al t соответственно т.е. с увеличением .числа ато решность снижаетс . В то же следует отметить и..снижение трехатомных ионов по сравнен атомными.
Отношение А1 /А характе концентрацию фазы. Если при Р
10
димо обеспечить коэффициент 8-2,что реализуетс  при энергии пучка 10 кэВ. При этом врем  бомбардировки вторым ; пучком должно быть
100%, то в среднем на 1% изм концентрации фазы отношение А измен етс  более чем на 15%, обеспечивает высокую чувствит
-zrcsH)0 ,5400
100 С,
Если в камере масс-спектрометра измен ть давление кислорода от 10 до , то поверхность алюмини , будет покрыватьс  слоем адсорбированного кислорода и концентраци  новой фазы (А1+ О 2 ) будет расти до насьщени  (см. таблицу, где представлены экспериментальные результаты по потокам вторичных ионов А, А1- и А1з , получаемых при бомбардировке алюмини  пучком первичных ионов Аг при различном давлении (кислорода).А1
0,
1,2.10
3 .-10
-(2
3/10
33,3
1,8
) А1()
1,3 . 1,3
АГ
AI
15 Па концентраци  0%, а при Р
224855
Из таблицы следует, что погрешность определени  концентрации алюмини  при использ овании одноатомных ионов А1 в зависимости от фазового 5 состава может составить более 3000%, в то врем  как при использовании йог- нов Al t соответственно 80 и 30%,, т.е. с увеличением .числа атомов пог- решность снижаетс . В то же врем  следует отметить и..снижение потока трехатомных ионов по сравнению сдвухатомными .
Отношение А1 /А характеризует концентрацию фазы. Если при Р
10
100%, то в среднем на 1% изменени  концентрации фазы отношение измен етс  более чем на 15%, что обеспечивает высокую чувствительность
и точность измерений.
Предлагаемое техническое решение, заключаетс  в обеспечении двум  пучками первичных ионов оптимальных условий распылени  твердого вещества
и анализа концентраций элементов и фаз, в измерении потоков одно- и полиатомных ионов, позвол ет по.высить точность анализа в 2-3 раза, что отвечает требовани м элементного и фазового анализа примесей в полупроводниковых и металлических материалах и дает экономический эффект в сфере производства и изготовлени  элементов микроэлектроники и эмиссионной техники.
100
ю
8..10
,-10
1,2.10
1,
г 11
3/10 J 3,6:10
30
3,7
30-10
1,8,-10
1
,-и
1,5
1,3
.1,1
8,3
57
170
S122A8556
Фо рм ул a и 30 бр ет ен и  руют и распыл ют двум  пучками первичных ионов, каждый на которых дл 
Способ количественного послойного г данного вещества предварительно вы- аналиэа твердых веществ, заключаю- бирают из услови  обеспечени  или щийс  в бомбардировке и распыпении коэффициентов распылени  меньших и твердого вещества первичными ионами больших единищ 1, при этом врем  бом- и масс-анализе потоков вторичных по- бардировки вторым и первым пучками лиатомных ионов, отличающий- устанавливают меныпим обратного с   . тем, что, с целью повышени  10 отношени  коэффициентов распыле- точности количественного послойного ни  данного вещества этими пуч- анализа, твердое вещество бомбарди- ками.

Claims (1)

  1. Фо рм ул а изо бр ет ен ия
    Способ количественного послойногог анализа твердых веществ, заключающийся в бомбардировке и распылении твердого вещества первичными ионами и масс-анапизе потоков вторичных полиатомных ионов, отличающийс я . тем, что, с целью повышения точности количественного послойного анализа, твердое вещество бомбардиЬ руют и распыляют двумя пучками первичных ионов, каждый из которых для данного вещества предварительно вы5 бирают из условия обеспечения или коэффициентов распыления меньших и больших единицы, при этом время бомбардировки вторым и первым пучками устанавливают меньшим обратного 10 отношения коэффициентов распыления данного вещества этими пучками.
    • Составитель В. Кудрявцев
SU843727038A 1984-04-13 1984-04-13 Способ количественного послойного анализа твердых веществ SU1224855A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU843727038A SU1224855A1 (ru) 1984-04-13 1984-04-13 Способ количественного послойного анализа твердых веществ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU843727038A SU1224855A1 (ru) 1984-04-13 1984-04-13 Способ количественного послойного анализа твердых веществ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1224855A1 true SU1224855A1 (ru) 1986-04-15

Family

ID=21113752

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU843727038A SU1224855A1 (ru) 1984-04-13 1984-04-13 Способ количественного послойного анализа твердых веществ

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1224855A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110170342A (zh) * 2019-03-28 2019-08-27 东南大学 二硫化钼层层自组装薄膜微流控芯片及制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Векслер В.И. Вторична ионна эмисси металлов. М.гНаука, 1978, с. 60. Журнал технической физики, 1981, т. 51, вып. 1, с. 148. *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110170342A (zh) * 2019-03-28 2019-08-27 东南大学 二硫化钼层层自组装薄膜微流控芯片及制备方法
CN110170342B (zh) * 2019-03-28 2021-07-27 东南大学 二硫化钼层层自组装薄膜微流控芯片及制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Walczyk et al. Stable isotope labels as a tool to determine the iron absorption by Peruvian school children from a breakfast meal
Taylor et al. Validation of the analytical linearity and mass discrimination correction model exhibited by a multiple collector inductively coupled plasma mass spectrometer by means of a set of synthetic uranium isotope mixtures
Shalev et al. Precise determination of δ 88/86 Sr in natural samples by double-spike MC-ICP-MS and its TIMS verification
Frerichs The singlet system of the oxygen arc spectrum and the origin of the green auroral line
SU1224855A1 (ru) Способ количественного послойного анализа твердых веществ
Loh et al. A continuous source for production of cold, mass-selected transition metal-cluster ions
GB2104719A (en) Calibrating ion cyclatron resonance spectrometer
Howorka et al. Laboratory studies of O++ reactions of ionospheric importance
US4529879A (en) Process for the determination of isotopes by mass spectrometry
Berry et al. Hyperfine Structure of 1 s n p P 3 Terms of Li 6, 7 ii
Devillers et al. Absolute isotope abundances of tin
GB2120007A (en) Isotope determination by mass spectrometry
Lamberty et al. An enriched 6Li isotopic reference material
SU1078502A1 (ru) Способ определени относительного значени коэффициентов вторичной ионно-ионной эмиссии компонент-поверхности твердых тел
Shimamura et al. Multi-element and isotopic analyses of iron meteorites using a glow discharge mass spectrometer
US3306112A (en) Method for determining the specific surface of non-uniformly shaped substance by measuring the adsorption of noble gases or inert gases at the specimen to be investigated
Brost et al. Determination of lithium by optically monitored stable isotope dilution
SU1226554A1 (ru) Способ масс-спектрометрического анализа твердых веществ
Matveev et al. The concentration measurements of tellurium donor impurity in lamellar bismuth samples by the time-of-flight mass spectrometry method
Bekov Resonance ionization spectroscopy
Winter The dependence on ion current density of the alignment of HeI 3d1D after beam-foil interaction
Someno et al. Determination of Hydrogen and Deuterium Contents in Metals and Alloys by Ion Microanalyzer
Van Allen et al. Cross Section for the Reaction H 2+ H 2→ H 1+ H 3 With a Gas Target
Khalmanov et al. Study of traces of elements on a universal laser photoionization spectrometer
Austin et al. Analysis of positive ions in CO2 gas laser systems