SU1191817A1 - Датчик дл измерени парциального давлени кислорода - Google Patents
Датчик дл измерени парциального давлени кислорода Download PDFInfo
- Publication number
- SU1191817A1 SU1191817A1 SU833626938A SU3626938A SU1191817A1 SU 1191817 A1 SU1191817 A1 SU 1191817A1 SU 833626938 A SU833626938 A SU 833626938A SU 3626938 A SU3626938 A SU 3626938A SU 1191817 A1 SU1191817 A1 SU 1191817A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- measuring
- gas
- partial pressure
- semiconductor
- oxygen
- Prior art date
Links
Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
Abstract
1.ДАТЧИК ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ ПАРЦИАЛЬНОГО ДАВЛЕНИЯ КИСЛОРОДА, содержащий расположенные на поверхности пьезоэлектрической подложки измери- .тельньй и компенсирующий тракты распространени поверхностных акустических волн с газочувствительным эле ментом, размещенным в измерительном тракте, отличающийс тем что, с целью повьштени точности измерени парциального давлени кислорода в выхлопных газах двигател внутреннего сгорани , в компенсирующий введен газочувствительньй элемент, выполненньш из металлоокис- ного полупроводника в виде уплотненного керамического сло , а га зочувствительный элемент-В измерительно м тракте выполнен из металлоокисного полупроводника в виде пористого керамического сло , причем оба элемен-. та выполнены с толщиной не менее де- i баевской длины в полупроводнике. 2. Датчик по П.1, отличаю (Л щийс тем, что газочувствитель- ные элементы в измерительном и компенснрующих трактах размещены с воздушным зазором не более длины поверхностной акустической волны но отношению к поверхности подложки.
Description
1И
Изобретение относитс к измерителной технике и может быть использовано дл анализа отработавших газов . ABHraTBJteft внутреннего сгорани ДВС ) транспортных средств, в частности в качестве датчика отношени количества воздуха к количеству топлива в рабочей смеси (в/Т-отношени ).
Цель изобретени - ноньшение точности измерени парциального давле- ни кислорода в выхлопных газах ДВС.
На фиг. 1 представлен предлагаемый датчик; на фиг. 2 - то же, вид сверху.
Датчик содержит пьезоэлектрическу подложку |На поверхности которой выполнены две нары встречно-штыревых преобразователей (ВШИ ) поверхностнЕлх акустических воли (ПЛВ ) 2-3 и 4-5 соответственно , образующих соотпетст- венно измерительный (2-3) и компенсирующи (4-5) тракты распространени ПЛВ. Путем включени каждого из трактов в цепь обратно св зи соответствующих усилителей 6 и 7 обра- зованы ПАВ-ге 1ераторы. Выходные сигналы ИЛВ-генераторов подаютс на сме ситель 8, выход которого нагружен на фильтр низких частот (ФНЧ ) 9.
В изЕЮ.рительном тракте ме сду вход ным 2 и выходным 3 ВШП ПЛВ размещен газочувствительньш элемент из чувст- вительного к кислороду металлоокисно го полупроводника в виде пористого керамического сло 10. Лналогичпым образом в компенсирующем тракте между входным 4 и выходным 5 ВИ1П ПЛВ размещен элемент из такого же метал- лоокисного полупроводника в виде уплотненного керамического сло II. Оба элемента выполнены с толщиной не менее дебаевской длины в полупроводнике . Слои 10 и 11 газочувствитель- ных элементов могут быть размещены с .вoздyщны i зазором 12 не более длины ПЛВ но отношению к поверхности подложки .
Пзмерепие парциального давлени кислорода PQ данным датчиком осуществл етс следуютдим образом.
Возбужденные входным ВШП 2 и нро- шедшие но поверхности нодложки 1 ПЛВ принимшотс выходным ВШП 3. Частота, при которой происходит возбу кдение ПАВ-генератора, образованного усшп1- телем 6 (с коэ45фициентом усилени , достаточным дл компенсации иотерь в звукопроводе )с включенным в цень
8172
его обратной св зи измерительным трактом 2-3, описываетс уравнением
ZTTn -ijjl. +
где U) - частота генерации;
L - рабоча длина звукопровода; Lf - электрический сдвиг фазы
во BlilTI 2 и 3 и усилителе 6. Датчик устанавливаетс в выпускном трубонроводе ДВС и нагреваетс до рабочей температуры отработавшими газами либо с помощью зигзагообразных нагревательных элементов (не показаны ), размещаемых на внешних поверхност х керамических слоев 10 и 11. Воздействию отработавших газов подвергаетс внешн (не обращенна к подложке 1) сторона слоев 10. и 11 KepaMn4ecKt X элементов , поверхность же прдложки 1 может быть при этом }1аделаю зoлиpo-
вана.
Изменение электропроводности по- лшсристаллических металлоокисных полупроводннков при хемосорбции молекул кислорода обусловлено поверхностными влени ми в многочисленных контакт1 ы; област х между структурными зернами. Велич И1а проводимости полупроводника
(2)
NKT
где q - зар д носител ;
М - коэффициент, завис щий от формы барьера;
п,- - концентраци носителей зар да B6jH-i3H барьера ,
N - число барьеров на 1 см длины образп.а;
V - высота барьера;
К - посто5И1на Больцмана,
Т - температура сло 10. При хемосорб1Ц и на поверхности полупроводника п-типа молекул кислорода происходит увеличение потенциальных барьеров в местах контактов между отдельными зернами поликрис- таллической структуры сло 10, что вызовет уменьшение количества электронов нроводимости в полупроводнике и, следовательно, уменьшение нроводимости сло 10. Зависимость электропроводности сло 10 от изменени
копцеитрации кислорода ЛС имеет вид I оЫ-V/ где уЗ - коэффициент, характеризующий вли ние изменени концентрации кислорода на изменение высоты потенциальных барьеров. Дл максимального изменени электропроводности сло 10 и минимального времени установлени равновеси в материале сло (повышени быстродействи датчика ) необходимо иметь возможно большую новерхность сло , на которой происходит контакт с газ вой фазой. Поэтому газочувствитель- ньй элемент выполнен в виде мелко- зернистого высокопористого полупро- водника керамического сло , получае- мого, например, спеканием шихты из мелкодисперсных порошков полупроводниковой керамики при высоких температурах . В качестве металлоокисньк полупро водников , чувствительных к кислороду , используют соединени окислов п-типа или р-типа, в частности Pb(Zr,Ti) M.Oj-ZrO, где ,Yb Y,Sm,Ln,Sn02. Таким образом, при изменении парци.ального давлени кислорода Рр в выхлопных газах ДВС сопротивление ,пористого элемента резко измен етс , например дл TiO более, чем на 3 пор дка, если стехиометрическое значение о смеси измен етс от значени , соответствующего бедной смеси , до значени , соответствующего богатой смеси. Распространение на поверхности пьезоподложки 1 в измерительном трак те ПАВ сопровождаетс распространением св занного с ней электрического пол , примыкающего в полунроводнико- вьй слой 10. Взаимодействие электрического пол ПАВ со свободными носител ми зар да в полупроводниковом слое 10 измен ет фазовую скорость V ПАВ. Следовательно, изменение пар- циального давлени кислорода Рд приводит к изменению проводимости d сло 10, т.е. количества свободных носителей в нем, что в свою очередь- вызывает изменение фазовой скорости V ПАВ, и, как следует из (О, приводит к изменению частоты ПАВ-генератора измерительного тракта. Изменени
1191817.4
параметров распространени ПАВ рассчитываетс на основе выражени К e,(l-fb/i1i) 1 + W/i, 2 --г ,гЬь/ьЬ т ; otbfih . Р ()с) J So+Eptbp где и д/з- посто нна распространени ПАВ и ее измене- ние; Kj- коэффициент электроме- хапическо св зи; диэлектрические посто нные подложки; Z - поверхностный импеданс полупроводникового сло ЕС,- диэлектрическа посто нна свободного пространства; h - величина воздушного зазора 12. Исходньп рабочий диапазон удельной проводимости полупроводникового сло 1.0 выбираетс в пределах от i) О0м сьг (выше которой происходит практически полное закорачивание проникающего в слой 10 электрического пол , сопрово;кдающего ПАВ) и до 6 tniri - - - которой число свободных носителей зар да в полупроводниковом слое 10 настолько мало, что оно практически не вли ет на скорость распространени V ПАВ), Дл подложки 1 из LiNb03 величина относительного изменени скорости ПАВ достигает 2% и вьше при изменении Pj. от значени , соответствующего бедной , (, I МПа)|До значени , соответствующего богатой (Рр-IO -О, МПа) смеси. Исходна электропроводность Ь сло 10 регулируетс путем введени различных легирующих добавок (ZnO, благородные металлы и т.д. ). Врем установлени равновеси в материале газочувствительного сло сильно зависит от пористости керамики . Уплотненна керамика сло 11 в компенсирующем тракте, выполненна из того же металлоокисного полупроводника как и слой 10, имеет
-В несколько раз (3-5) больше зерна и меньшую плотность, чем пориста керс1мика сло 10, что замедл ет установление равновеси при изменении Pjj до такой степени, -что уплотненна керамика становитс не чувствительной к изменени м Рд при частотах регулировани , примен емых в две (-2 Гц). Следовательно, дестабилизирующее вли ние изменений окружающей температуры, одинаковым образом измен ющей проводимость слоев 10 и 11, вызывает идентичные изменени скорости V ПАВ и частоты ПАВ-генераторов в обоих трактах. Изменение же. P(j воздействует только iна частоту ПАВ-геператора в измери- телыюм тракте, котора контролируетс путем смешени частот измерительного 11 компенсирующего ПАВ-генераторов в смесителе 8 и выделени разностной частоты фшьтром 9.
Величипа воздушного зазора ) определ ет 3(1х1)ективность взанмодейс ВИЯ ПАВ с носител ми зар да в сло х 10 и 11, а, так как амплитуда электрического нол ПАВ затухает приблп ,7
зительно экспоненциально с расто нием от поверхности подложки 1 с посто нной затухани пор дка длины волны А ПАВ, то зазор выбирают минимальной величины, ограничиваемой обычно технологическими и конструктивными со- обршкени ми. Звеличение величины зазора h свыше приводит к недопус-
тимому снижению величины электрического пол , проникающего в слои 10 и 1 1 и соответству ощему снилсению вли ни изменений Ро2 на. скорость ПАВ. Внутри слоев 10 и 11 электричес-
кое ноле ПАВ затухает в пределах де- баевской длины от поверхности полупроводниковых слоев 10 и 11. Поэтому дл максималыюго иснользовани всей области взаимодействи ПАВ с полупроводнтнсовыми сло ми 10. и И при измене1пп1 PQ толщина d этих слоев ограничиваетс снизу добаевской -длиной в полупроводнике. Значите1ИзНо уне чичивать толщнну слоеп 10 и 11
сиьпие технологических и конструктивных сообрал ений также нецелесообразно ввиду увеличени времени установлени (т.е. С1гижени быстродействи ).
С, ,:
Claims (2)
1.ДАТЧИК ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ ПАРЦИАЛЬНОГО ДАВЛЕНИЯ КИСЛОРОДА, содержащий расположенные на поверхности пьезоэлектрической подложки измери— .тельный и компенсирующий тракты распространения поверхностных акустических волн с газочувствительным эле ментом, размещенным в измерительном тракте, отличающийся тем что, с целью повышения точности измерения парциального давления кислорода в выхлопных газах двигателя внутреннего сгорания, в компенсирующий тракт введен газочувствительный элемент, выполненный из металлоокис— ного полупроводника в виде уплотненного керамического слоя, а газочувствительный элемент.в измерительном тракте выполнен из металлоокисного полупроводника в виде пористого керамического слоя, причем оба элемен—. та выполнены с толщиной не менее де— р баевской длины в полупроводнике.
2. Датчик по п.1, отличающийся тем, что газочувствитель— ные элементы в измерительном и компенсирующих трактах размещены с воздушным зазором не более длины поверхностной акустической волны по отноше— | нию к поверхности подложки.
S и .,1191817
I
1191
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU833626938A SU1191817A1 (ru) | 1983-07-27 | 1983-07-27 | Датчик дл измерени парциального давлени кислорода |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU833626938A SU1191817A1 (ru) | 1983-07-27 | 1983-07-27 | Датчик дл измерени парциального давлени кислорода |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1191817A1 true SU1191817A1 (ru) | 1985-11-15 |
Family
ID=21076195
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU833626938A SU1191817A1 (ru) | 1983-07-27 | 1983-07-27 | Датчик дл измерени парциального давлени кислорода |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1191817A1 (ru) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1989008336A1 (en) * | 1988-02-29 | 1989-09-08 | The Regents Of The University Of California | Plate-mode ultrasonic sensor |
US5189914A (en) * | 1988-02-29 | 1993-03-02 | The Regents Of The University Of California | Plate-mode ultrasonic sensor |
US5212988A (en) * | 1988-02-29 | 1993-05-25 | The Reagents Of The University Of California | Plate-mode ultrasonic structure including a gel |
-
1983
- 1983-07-27 SU SU833626938A patent/SU1191817A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Макаров В.М. и др. Частотш 1е датчики механических величин на ПАВ-структурах. -Сегнето- и пьезо- : материалы и их применение. М.:ВДНТП, 1978, с.59-62. A.Bryant, D.L.bee and I.F.Vetelino A surface acoustic wave gas detector 1981. Ultrasonics Symposium Proceedings, 1981, p.172, Fig.l. * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1989008336A1 (en) * | 1988-02-29 | 1989-09-08 | The Regents Of The University Of California | Plate-mode ultrasonic sensor |
US5189914A (en) * | 1988-02-29 | 1993-03-02 | The Regents Of The University Of California | Plate-mode ultrasonic sensor |
US5212988A (en) * | 1988-02-29 | 1993-05-25 | The Reagents Of The University Of California | Plate-mode ultrasonic structure including a gel |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Link et al. | Solidly mounted ZnO shear mode film bulk acoustic resonators for sensing applications in liquids | |
D'amico et al. | SAW sensors | |
Ricco et al. | Thin metal film characterization and chemical sensors: monitoring electronic conductivity, mass loading and mechanical properties with surface acoustic wave devices | |
Thiele et al. | High temperature LGS SAW gas sensor | |
US5992215A (en) | Surface acoustic wave mercury vapor sensors | |
US6378370B1 (en) | Temperature compensated surface-launched acoustic wave sensor | |
US4703656A (en) | Temperature independent ultrasound transducer device | |
JP2007524853A (ja) | 層状表面弾性波センサ | |
Caliendo et al. | High-frequency, high-sensitivity acoustic sensor implemented on ALN/Si substrate | |
US20060179918A1 (en) | Gas chromatograph and quartz crystal microbalance sensor apparatus | |
EP0261393A3 (en) | Surface acoustic wave gas flow rate sensor with self-heating feature | |
KR100706561B1 (ko) | 마이크로 음향 센서 장치를 작동시키기 위한 방법 및 장치 | |
SU1191817A1 (ru) | Датчик дл измерени парциального давлени кислорода | |
Vellekoop et al. | Evaluation of liquid properties using a silicon Lamb wave sensor | |
Nomura et al. | SAW humidity sensor using dielectric hygroscopic polymer film | |
JP2002513930A (ja) | 水素センサ | |
Kalantar-Zadeh et al. | A novel Love mode SAW sensor with ZnO layer operating in gas and liquid media | |
US4065734A (en) | Elastic surface wave devices | |
Thiele et al. | High temperature SAW gas sensor on langasite | |
Leidl et al. | Surface acoustic wave devices and applications in liquid sensing | |
Anisimkin et al. | Gas thermal conductivity sensor based on SAW | |
Hejczyk et al. | WO_3-Pd Structure in SAW Sensor for Hydrogen Detection | |
JP2019090742A (ja) | 固体微粒子質量測定装置 | |
Richter et al. | High-temperature gas Sensors | |
Hickernell et al. | Surface acoustic wave characterization of PECVD films on gallium arsenide |