SU1191817A1 - Датчик дл измерени парциального давлени кислорода - Google Patents

Датчик дл измерени парциального давлени кислорода Download PDF

Info

Publication number
SU1191817A1
SU1191817A1 SU833626938A SU3626938A SU1191817A1 SU 1191817 A1 SU1191817 A1 SU 1191817A1 SU 833626938 A SU833626938 A SU 833626938A SU 3626938 A SU3626938 A SU 3626938A SU 1191817 A1 SU1191817 A1 SU 1191817A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
measuring
gas
partial pressure
semiconductor
oxygen
Prior art date
Application number
SU833626938A
Other languages
English (en)
Inventor
Владимир Михайлович Колешко
Юрий Васильевич Мешков
Original Assignee
Институт электроники АН БССР
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт электроники АН БССР filed Critical Институт электроники АН БССР
Priority to SU833626938A priority Critical patent/SU1191817A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1191817A1 publication Critical patent/SU1191817A1/ru

Links

Landscapes

  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)

Abstract

1.ДАТЧИК ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ ПАРЦИАЛЬНОГО ДАВЛЕНИЯ КИСЛОРОДА, содержащий расположенные на поверхности пьезоэлектрической подложки измери- .тельньй и компенсирующий тракты распространени  поверхностных акустических волн с газочувствительным эле ментом, размещенным в измерительном тракте, отличающийс  тем что, с целью повьштени  точности измерени  парциального давлени  кислорода в выхлопных газах двигател  внутреннего сгорани , в компенсирующий введен газочувствительньй элемент, выполненньш из металлоокис- ного полупроводника в виде уплотненного керамического сло , а га зочувствительный элемент-В измерительно м тракте выполнен из металлоокисного полупроводника в виде пористого керамического сло , причем оба элемен-. та выполнены с толщиной не менее де- i баевской длины в полупроводнике. 2. Датчик по П.1, отличаю (Л щийс  тем, что газочувствитель- ные элементы в измерительном и компенснрующих трактах размещены с воздушным зазором не более длины поверхностной акустической волны но отношению к поверхности подложки.

Description

Изобретение относитс  к измерителной технике и может быть использовано дл  анализа отработавших газов . ABHraTBJteft внутреннего сгорани  ДВС ) транспортных средств, в частности в качестве датчика отношени  количества воздуха к количеству топлива в рабочей смеси (в/Т-отношени  ).
Цель изобретени  - ноньшение точности измерени  парциального давле- ни  кислорода в выхлопных газах ДВС.
На фиг. 1 представлен предлагаемый датчик; на фиг. 2 - то же, вид сверху.
Датчик содержит пьезоэлектрическу подложку |На поверхности которой выполнены две нары встречно-штыревых преобразователей (ВШИ ) поверхностнЕлх акустических воли (ПЛВ ) 2-3 и 4-5 соответственно , образующих соотпетст- венно измерительный (2-3) и компенсирующи (4-5) тракты распространени  ПЛВ. Путем включени  каждого из трактов в цепь обратно св зи соответствующих усилителей 6 и 7 обра- зованы ПАВ-ге 1ераторы. Выходные сигналы ИЛВ-генераторов подаютс  на сме ситель 8, выход которого нагружен на фильтр низких частот (ФНЧ ) 9.
В изЕЮ.рительном тракте ме сду вход ным 2 и выходным 3 ВШП ПЛВ размещен газочувствительньш элемент из чувст- вительного к кислороду металлоокисно го полупроводника в виде пористого керамического сло  10. Лналогичпым образом в компенсирующем тракте между входным 4 и выходным 5 ВИ1П ПЛВ размещен элемент из такого же метал- лоокисного полупроводника в виде уплотненного керамического сло  II. Оба элемента выполнены с толщиной не менее дебаевской длины в полупроводнике . Слои 10 и 11 газочувствитель- ных элементов могут быть размещены с .вoздyщны i зазором 12 не более длины ПЛВ но отношению к поверхности подложки .
Пзмерепие парциального давлени  кислорода PQ данным датчиком осуществл етс  следуютдим образом.
Возбужденные входным ВШП 2 и нро- шедшие но поверхности нодложки 1 ПЛВ принимшотс  выходным ВШП 3. Частота, при которой происходит возбу кдение ПАВ-генератора, образованного усшп1- телем 6 (с коэ45фициентом усилени , достаточным дл  компенсации иотерь в звукопроводе )с включенным в цень
8172
его обратной св зи измерительным трактом 2-3, описываетс  уравнением
ZTTn -ijjl. +
где U) - частота генерации;
L - рабоча  длина звукопровода; Lf - электрический сдвиг фазы
во BlilTI 2 и 3 и усилителе 6. Датчик устанавливаетс  в выпускном трубонроводе ДВС и нагреваетс  до рабочей температуры отработавшими газами либо с помощью зигзагообразных нагревательных элементов (не показаны ), размещаемых на внешних поверхност х керамических слоев 10 и 11. Воздействию отработавших газов подвергаетс  внешн   (не обращенна  к подложке 1) сторона слоев 10. и 11 KepaMn4ecKt X элементов , поверхность же прдложки 1 может быть при этом }1аделаю зoлиpo-
вана.
Изменение электропроводности по- лшсристаллических металлоокисных полупроводннков при хемосорбции молекул кислорода обусловлено поверхностными  влени ми в многочисленных контакт1 ы; област х между структурными зернами. Велич И1а проводимости полупроводника
(2)
NKT
где q - зар д носител ;
М - коэффициент, завис щий от формы барьера;
п,- - концентраци  носителей зар да B6jH-i3H барьера ,
N - число барьеров на 1 см длины образп.а;
V - высота барьера;
К - посто5И1на  Больцмана,
Т - температура сло  10. При хемосорб1Ц и на поверхности полупроводника п-типа молекул кислорода происходит увеличение потенциальных барьеров в местах контактов между отдельными зернами поликрис- таллической структуры сло  10, что вызовет уменьшение количества электронов нроводимости в полупроводнике и, следовательно, уменьшение нроводимости сло  10. Зависимость электропроводности сло  10 от изменени 
копцеитрации кислорода ЛС имеет вид I оЫ-V/ где уЗ - коэффициент, характеризующий вли ние изменени  концентрации кислорода на изменение высоты потенциальных барьеров. Дл  максимального изменени  электропроводности сло  10 и минимального времени установлени  равновеси  в материале сло  (повышени  быстродействи  датчика ) необходимо иметь возможно большую новерхность сло , на которой происходит контакт с газ вой фазой. Поэтому газочувствитель- ньй элемент выполнен в виде мелко- зернистого высокопористого полупро- водника керамического сло , получае- мого, например, спеканием шихты из мелкодисперсных порошков полупроводниковой керамики при высоких температурах . В качестве металлоокисньк полупро водников , чувствительных к кислороду , используют соединени  окислов п-типа или р-типа, в частности Pb(Zr,Ti) M.Oj-ZrO, где ,Yb Y,Sm,Ln,Sn02. Таким образом, при изменении парци.ального давлени  кислорода Рр в выхлопных газах ДВС сопротивление ,пористого элемента резко измен етс , например дл  TiO более, чем на 3 пор дка, если стехиометрическое значение о смеси измен етс  от значени , соответствующего бедной смеси , до значени , соответствующего богатой смеси. Распространение на поверхности пьезоподложки 1 в измерительном трак те ПАВ сопровождаетс  распространением св занного с ней электрического пол , примыкающего в полунроводнико- вьй слой 10. Взаимодействие электрического пол  ПАВ со свободными носител ми зар да в полупроводниковом слое 10 измен ет фазовую скорость V ПАВ. Следовательно, изменение пар- циального давлени  кислорода Рд приводит к изменению проводимости d сло 10, т.е. количества свободных носителей в нем, что в свою очередь- вызывает изменение фазовой скорости V ПАВ, и, как следует из (О, приводит к изменению частоты ПАВ-генератора измерительного тракта. Изменени
1191817.4
параметров распространени  ПАВ рассчитываетс  на основе выражени  К e,(l-fb/i1i) 1 + W/i, 2 --г ,гЬь/ьЬ т ; otbfih . Р ()с) J So+Eptbp где и д/з- посто нна  распространени  ПАВ и ее измене- ние; Kj- коэффициент электроме- хапическо св зи; диэлектрические посто нные подложки; Z - поверхностный импеданс полупроводникового сло  ЕС,- диэлектрическа  посто нна  свободного пространства; h - величина воздушного зазора 12. Исходньп рабочий диапазон удельной проводимости полупроводникового сло  1.0 выбираетс  в пределах от i) О0м сьг (выше которой происходит практически полное закорачивание проникающего в слой 10 электрического пол , сопрово;кдающего ПАВ) и до 6 tniri - - - которой число свободных носителей зар да в полупроводниковом слое 10 настолько мало, что оно практически не вли ет на скорость распространени  V ПАВ), Дл  подложки 1 из LiNb03 величина относительного изменени  скорости ПАВ достигает 2% и вьше при изменении Pj. от значени , соответствующего бедной , (, I МПа)|До значени , соответствующего богатой (Рр-IO -О, МПа) смеси. Исходна  электропроводность Ь сло  10 регулируетс  путем введени  различных легирующих добавок (ZnO, благородные металлы и т.д. ). Врем  установлени  равновеси  в материале газочувствительного сло  сильно зависит от пористости керамики . Уплотненна  керамика сло  11 в компенсирующем тракте, выполненна  из того же металлоокисного полупроводника как и слой 10, имеет
-В несколько раз (3-5) больше зерна и меньшую плотность, чем пориста  керс1мика сло  10, что замедл ет установление равновеси  при изменении Pjj до такой степени, -что уплотненна  керамика становитс  не чувствительной к изменени м Рд при частотах регулировани , примен емых в две (-2 Гц). Следовательно, дестабилизирующее вли ние изменений окружающей температуры, одинаковым образом измен ющей проводимость слоев 10 и 11, вызывает идентичные изменени  скорости V ПАВ и частоты ПАВ-генераторов в обоих трактах. Изменение же. P(j воздействует только iна частоту ПАВ-геператора в измери- телыюм тракте, котора  контролируетс  путем смешени  частот измерительного 11 компенсирующего ПАВ-генераторов в смесителе 8 и выделени  разностной частоты фшьтром 9.
Величипа воздушного зазора ) определ ет 3(1х1)ективность взанмодейс ВИЯ ПАВ с носител ми зар да в сло х 10 и 11, а, так как амплитуда электрического нол  ПАВ затухает приблп ,7
зительно экспоненциально с расто нием от поверхности подложки 1 с посто нной затухани  пор дка длины волны А ПАВ, то зазор выбирают минимальной величины, ограничиваемой обычно технологическими и конструктивными со- обршкени ми. Звеличение величины зазора h свыше приводит к недопус-
тимому снижению величины электрического пол , проникающего в слои 10 и 1 1 и соответству ощему снилсению вли ни  изменений Ро2 на. скорость ПАВ. Внутри слоев 10 и 11 электричес-
кое ноле ПАВ затухает в пределах де- баевской длины от поверхности полупроводниковых слоев 10 и 11. Поэтому дл  максималыюго иснользовани  всей области взаимодействи  ПАВ с полупроводнтнсовыми сло ми 10. и И при измене1пп1 PQ толщина d этих слоев ограничиваетс  снизу добаевской -длиной в полупроводнике. Значите1ИзНо уне чичивать толщнну слоеп 10 и 11
сиьпие технологических и конструктивных сообрал ений также нецелесообразно ввиду увеличени  времени установлени  (т.е. С1гижени  быстродействи ).
С, ,:

Claims (2)

1.ДАТЧИК ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ ПАРЦИАЛЬНОГО ДАВЛЕНИЯ КИСЛОРОДА, содержащий расположенные на поверхности пьезоэлектрической подложки измери— .тельный и компенсирующий тракты распространения поверхностных акустических волн с газочувствительным эле ментом, размещенным в измерительном тракте, отличающийся тем что, с целью повышения точности измерения парциального давления кислорода в выхлопных газах двигателя внутреннего сгорания, в компенсирующий тракт введен газочувствительный элемент, выполненный из металлоокис— ного полупроводника в виде уплотненного керамического слоя, а газочувствительный элемент.в измерительном тракте выполнен из металлоокисного полупроводника в виде пористого керамического слоя, причем оба элемен—. та выполнены с толщиной не менее де— р баевской длины в полупроводнике.
2. Датчик по п.1, отличающийся тем, что газочувствитель— ные элементы в измерительном и компенсирующих трактах размещены с воздушным зазором не более длины поверхностной акустической волны по отноше— | нию к поверхности подложки.
S и .,1191817
I
1191
SU833626938A 1983-07-27 1983-07-27 Датчик дл измерени парциального давлени кислорода SU1191817A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU833626938A SU1191817A1 (ru) 1983-07-27 1983-07-27 Датчик дл измерени парциального давлени кислорода

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU833626938A SU1191817A1 (ru) 1983-07-27 1983-07-27 Датчик дл измерени парциального давлени кислорода

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1191817A1 true SU1191817A1 (ru) 1985-11-15

Family

ID=21076195

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU833626938A SU1191817A1 (ru) 1983-07-27 1983-07-27 Датчик дл измерени парциального давлени кислорода

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1191817A1 (ru)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1989008336A1 (en) * 1988-02-29 1989-09-08 The Regents Of The University Of California Plate-mode ultrasonic sensor
US5189914A (en) * 1988-02-29 1993-03-02 The Regents Of The University Of California Plate-mode ultrasonic sensor
US5212988A (en) * 1988-02-29 1993-05-25 The Reagents Of The University Of California Plate-mode ultrasonic structure including a gel

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Макаров В.М. и др. Частотш 1е датчики механических величин на ПАВ-структурах. -Сегнето- и пьезо- : материалы и их применение. М.:ВДНТП, 1978, с.59-62. A.Bryant, D.L.bee and I.F.Vetelino A surface acoustic wave gas detector 1981. Ultrasonics Symposium Proceedings, 1981, p.172, Fig.l. *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1989008336A1 (en) * 1988-02-29 1989-09-08 The Regents Of The University Of California Plate-mode ultrasonic sensor
US5189914A (en) * 1988-02-29 1993-03-02 The Regents Of The University Of California Plate-mode ultrasonic sensor
US5212988A (en) * 1988-02-29 1993-05-25 The Reagents Of The University Of California Plate-mode ultrasonic structure including a gel

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Link et al. Solidly mounted ZnO shear mode film bulk acoustic resonators for sensing applications in liquids
D'amico et al. SAW sensors
Ricco et al. Thin metal film characterization and chemical sensors: monitoring electronic conductivity, mass loading and mechanical properties with surface acoustic wave devices
Thiele et al. High temperature LGS SAW gas sensor
US5992215A (en) Surface acoustic wave mercury vapor sensors
US6378370B1 (en) Temperature compensated surface-launched acoustic wave sensor
US4703656A (en) Temperature independent ultrasound transducer device
JP2007524853A (ja) 層状表面弾性波センサ
Caliendo et al. High-frequency, high-sensitivity acoustic sensor implemented on ALN/Si substrate
US20060179918A1 (en) Gas chromatograph and quartz crystal microbalance sensor apparatus
EP0261393A3 (en) Surface acoustic wave gas flow rate sensor with self-heating feature
KR100706561B1 (ko) 마이크로 음향 센서 장치를 작동시키기 위한 방법 및 장치
SU1191817A1 (ru) Датчик дл измерени парциального давлени кислорода
Vellekoop et al. Evaluation of liquid properties using a silicon Lamb wave sensor
Nomura et al. SAW humidity sensor using dielectric hygroscopic polymer film
JP2002513930A (ja) 水素センサ
Kalantar-Zadeh et al. A novel Love mode SAW sensor with ZnO layer operating in gas and liquid media
US4065734A (en) Elastic surface wave devices
Thiele et al. High temperature SAW gas sensor on langasite
Leidl et al. Surface acoustic wave devices and applications in liquid sensing
Anisimkin et al. Gas thermal conductivity sensor based on SAW
Hejczyk et al. WO_3-Pd Structure in SAW Sensor for Hydrogen Detection
JP2019090742A (ja) 固体微粒子質量測定装置
Richter et al. High-temperature gas Sensors
Hickernell et al. Surface acoustic wave characterization of PECVD films on gallium arsenide