SU1151592A1 - Способ контрол плотности пара в процессе вакуумного нанесени покрытий при нагреве испарител электрическим током - Google Patents

Способ контрол плотности пара в процессе вакуумного нанесени покрытий при нагреве испарител электрическим током Download PDF

Info

Publication number
SU1151592A1
SU1151592A1 SU833622599A SU3622599A SU1151592A1 SU 1151592 A1 SU1151592 A1 SU 1151592A1 SU 833622599 A SU833622599 A SU 833622599A SU 3622599 A SU3622599 A SU 3622599A SU 1151592 A1 SU1151592 A1 SU 1151592A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
vapor
evaporator
radiation
electric current
steam
Prior art date
Application number
SU833622599A
Other languages
English (en)
Inventor
Владимир Николаевич Устименко
Иван Кириллович Майборода
Александр Самуилович Коваленко
Юрий Кузьмич Белов
Анатолий Иосифович Плышевский
Original Assignee
Украинский Научно-Исследовательский Институт Специальных Сталей,Сплавов И Ферросплавов
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Украинский Научно-Исследовательский Институт Специальных Сталей,Сплавов И Ферросплавов filed Critical Украинский Научно-Исследовательский Институт Специальных Сталей,Сплавов И Ферросплавов
Priority to SU833622599A priority Critical patent/SU1151592A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1151592A1 publication Critical patent/SU1151592A1/ru

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

СПОСОБ КОНТРОЛЯ ПЛОТНОСТИ ПАРА В ПРОЦЕССЕ ВАКУУМНОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ПРИ НАГРЕВЕ ИСПАРИТЕЛЯ ЭЛЕКТРИЧЕСКИМ ТОКОМ, основанньй на облучении потока пара электромагнитньм излучением видимого или ультрафиолетового диапазона, измерений интенсивности прошедшего через пар излучени  и сравнении измеренного значени  с зталонньм, о т л и ч акнц и и с   тем, что, с целью повышени  достоверности контрол  путем устранени  вли ни  собственного свечени  пара, в процессе облучени  потока пара электрический ток, нагревающий испаритель, импульсно модулируют , а интенсивность прошедшего излучени  измер ют в паузах, причем частоту модул ции и паузу мбжду импульсами выбирают 7{з выражени  fj,, где f - частота модул ции, Гц; Т - пауса, с; , - посто нна  времени остьтани  испарител , cj о - посто нна  времени затухани  свечени  пара, с.

Description

1
Изобретение относитс  к области нанесени  покрытий путем вакуумного осаждени  паров металлов на подложку в частности к способам контрол  параметров процесса вакуумного нанесени  покрытий, и может быть использовано дл  контрол  плотности паров в процессе вакуумной металлизации при нагреве источника паров электрически током,
Известен селективный способ контрол  плотности паров наносимого материала путем пропускани  паров наносимого материала через зону, в котор пары облучают световым потоком, а в качестве сигнала, информирующего о плотности пара, используют возникающее при этом излучение l .
Недостатком этого способа  вл етс низка  чувствительность контрол , обусловленна  частичным поглощением возникающего излучени  окружающими измерительную зону анализирумыми атомами .
Наиболее близким по технической сущности к изобретению  вл етс  способ контрол  плотности пара в процессе нанесени  покрытий в вакууме при нагреве испарител  электрическим током, основанный на облучеНИИ потока пара электромагнитным излучением видимого или ультрафиолетового диапазона, измерении интенсивности прошедшего через пар излучени  и сравнении измеренного значени  с эталонным. При этом световой поток модулируют с последующим вьщелением из измер емого сигнала переменной составл ющей 2 .
Недостатком известного способа  вл етс  низка  достоверность контрол , обусловленна  тем, что при нагреве источника пара электрическим током, например электронным лучом или световым излучением нагревателей по которым проходит электрический ток, возникает характерное интенсивное излучение наносимых паров и остаточных газов, измерение поглощени  света на фоне которого приводит к ошибкам. Излучение наносимых паров и остаточных газов возникает из-за увеличени  энергии и веро тности соударений вторичных электронов , имитируемых электронной пушкой, испарителем или нагревател ми, тер .моэлектронами, приход щими в спиралеобразное движение при по влении
922
электрического и магнитного полей электрического тока, нагреваюй(его испаритель, с парами наносимого материала и остаточными газами.Использование модул ции светового потока с последующим вьщелением переменной составл йщей не позвол ет избавитьс  от помех, поскольку последн   также имеет переменный компонент.
Целью изобретени   вл етс  повышение достоверности контрол  путем устранени  вли ни  собственного свечени  пара.
Поставленна  цель достигаетс  тем, что согласно способу контрол  плотности пара в процессе вакуумного нанесени  покрытий при нагреве испарител  электрическим током, основанном на облучении потока пара электромагнитным излучением видимого или ультрафиолетового диапазона, измерении интенсивности прошедшего через пар излучени  и сравнении измеренного значени  с эталонным, в процессе облучени  потока пара электрический ток, нагревак ций испаритель импульсно модулируют, а интенсивность прошедшего излучени  измер ют в паузах, причем частоту модул ции и паузу между импульсами выбирают из выражени 
11г, ,
где f - частота модул ции, Гц;
Т - пауза, с;
Ч - посто нна  времени остывани  испарител j с;
посто нна  времени затухани 
свечени  пара, с. Положительньй эффект достигаетс  за счет выбора таких характеристик импульсов модул ции, при которых мешающее контролю собственное свечение успевало бы затухать в паузе между импульсами тока, вызывающего нагрев испарител . Это достигаетс  тогда, когда пауза между импульсами больше, чем посто нна  затухани  свечени , конкретна  величина которой определ етс  конкретными параметрами процесса нанесени  и физическими свойствами наносимого материала . Дл  большинства материалов она составл ет л-Ю с. Кроме того, необходимо, чтобы испаритель не остывал в паузах между импульсами, что может привести к нежелательной модул ции плотности осаждаемого пара и, соответственно, толщины покрыти . Иледовательно, пауза между импульсами должна быть намного меньше, чем посто нна  времени остывани  испарител . Пример. Испаритель, в котор помещен кусковой хром общей массой около 50 кг, нагревают до температуры примерно 1700 К в вакууме при остаточном давлении 0,1-1 Па излуче нием графитового нагревател , по .которому пропускают электрический ток силой 5 кА. Пары хрома осаждают на стальную ленту. Электрический ток через нагреватель модулируют частотой 100 Гц при длительности между импульсами Т ч 10с. При длительности между импульсам менее 10 с не происходит полного затухани  свечени  паров хрома, поэтому применение более коротких импульсов нецелесообразно. При Т и 10J. наблюдаетс  модул ци плотности осаждаемого на ленту пара что приводит к неравномерности поверхностной плотности конденсата на ленте. С одной стороны пар облучают эта лонным электромагнитным излучгнием видимого диапазона (световым потоко 924 с интенсивностью Ig. Дл  этого используют излучение тлеющего разр да с катодом, изготовленным из хрома. С другой стороны пара наблюдают, например, при помощи фоточувствительного устройства и осциллоскопа временные характеристики силы света. В паузах между импульсами модулированного тока измер ют силу света, пропгедшего через пар Ij, по отклонению 1 от IQ контролируют плотность пара. По данным опытной проверки предлагаемого способа установлено, что контроль плотности пара по известному способу обладаетНИЗКОЙ точностью из-за сильного вли ни  свечени  наносимых паров на процесс измерени  поглс цени  света. Предлагаемый способ , в отличие от известного, позвол ет устранить это вли ние и, таким образом, повысить точность контрол  плотности пара и уменьшить неравномерность нанесени  покрыти . Использование способа в вакуумных установках нанесени  покрытий позвол ет повысить равномерность покрытий за счет уменьшени  ошибки при контроле плотности пара и тем самым повысить качество наносимых покрытий.

Claims (1)

  1. СПОСОБ КОНТРОЛЯ ПЛОТНОСТИ ПАРА В ПРОЦЕССЕ ВАКУУМНОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ПРИ НАГРЕВЕ ИСПАРИТЕЛЯ ЭЛЕКТРИЧЕСКИМ ТОКОМ, основанный на облучении потока пара электромагнитным излучением видимого или ультрафиолетового диапазона, измерений интенсивности прошедшего через пар излучения и сравнении измеренного значения с эталонным, отличающ и й с я тем, что, с целью повышения достоверности контроля путем устранения влияния собственного свечения пара, в процессе облучения . потока пара электрический ток, нагревающий испаритель, импульсно модулируют, а интенсивность прошедшего излучения измеряют в паузах, причем частоту модуляции и паузу мбжду импульсами выбирают из выражения где f - частота модуляции, Гц; Т - пауса, с;
    - постоянная времени остывания испарителя, cj
    - постоянная времени затухания свечения пара, с.
    >
SU833622599A 1983-07-13 1983-07-13 Способ контрол плотности пара в процессе вакуумного нанесени покрытий при нагреве испарител электрическим током SU1151592A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU833622599A SU1151592A1 (ru) 1983-07-13 1983-07-13 Способ контрол плотности пара в процессе вакуумного нанесени покрытий при нагреве испарител электрическим током

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU833622599A SU1151592A1 (ru) 1983-07-13 1983-07-13 Способ контрол плотности пара в процессе вакуумного нанесени покрытий при нагреве испарител электрическим током

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1151592A1 true SU1151592A1 (ru) 1985-04-23

Family

ID=21074650

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU833622599A SU1151592A1 (ru) 1983-07-13 1983-07-13 Способ контрол плотности пара в процессе вакуумного нанесени покрытий при нагреве испарител электрическим током

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1151592A1 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1. Патент DE № 2700979, кл. С 23 С 13/08, 1979. 2. Патент FR № 2109887, кл. С 23 С 13/00, 1973 (прототип). *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Harilal et al. Optical emission studies of species in laser-produced plasma from carbon
US3294970A (en) Means comprising a source of coherent radiant energy for the production of ions for mass spectrometry
Harilal et al. Electron density and temperature measurements in a laser produced carbon plasma
ES8201894A1 (es) Aparato para el calentamiento de materiales laminares
Huang et al. Verification of a Maxwellian electron-energy distribution in the ICP
SU1151592A1 (ru) Способ контрол плотности пара в процессе вакуумного нанесени покрытий при нагреве испарител электрическим током
US3373278A (en) Determination of vapor coating rate by x-rays emitted from said vapor
JPH0459747B2 (ru)
Hankins et al. Visible light emission measurements from a dense electrothermal launcher plasma
US3786308A (en) Temperature stabilized spectral source
US3609378A (en) Monitoring of vapor density in vapor deposition furnance by emission spectroscopy
Drake et al. Hydrodynamic expansion of exploding‐foil targets irradiated by 0.53 μm laser light
US4068016A (en) Method for regulating evaporating rate and layer build up in the production of thin layers
US6723974B1 (en) Process for the adaptive beam control of medium-energy laser weapons
Luther-Davies X-ray bremsstrahlung and fast-ion measurements from picosecond laser-produced plasmas
Stober et al. Quantification of X3 absorption for ITER L-mode parameters in ASDEX Upgrade
JPS61104075A (ja) イオン化蒸発速度制御装置
US4597933A (en) Radiative opacity and emissivity measuring device
Engelko et al. Test of divertor materials under simulated plasma disruption conditions at the SOM electron beam facility
DE19605316C1 (de) Verfahren und Einrichtung zur Regelung von plasmagestützten Vakuumbeschichtungsprozessen
Padmaja et al. Spatial and temporal analysis of laser induced plasma from a polymer sample
Morton et al. Investigation of electron-runaway in the slow toroidal θ-Z pinch, LT1
Etcheverry et al. Numerical modeling of materials processing applications of a pulsed cold cathode electron gun
Matsuda et al. Characterization of gaseous carbon plasma in a low-temperature tokamak discharge
Broida Effects of Self‐Absorption on Rotational``Temperatures''of OH in Flames