SU1135817A1 - Способ получени электролитических хромовых покрытий - Google Patents

Abstract

СПОСОБ ПОПУЧЕШ1Я ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКИХ ХРОМОВЫХ ПОКРЫТИЙ, включающий последовательное экранирование участков обрабатываемой.поверхности , отличающийс  тем, что, с целью повышени  пластичности , однородностии равномерности, покрытий на рельефной поверхности, экранирование осзпцествл ют пропусканием через межэлектродный зар д пузырьков газа, размер, которых должен превышать величину межэлектродного зазора.

Description

00

сд

00

f

Изобретение относитс  к гальваностегии , в частности к способам получени  хромовых покрытий в нестационарных услови х.

Известен способ получени  хромовых покрытий, осзпцествл емый(. с использованием пульсирующего тока ij Однако увеличива  скорость отложени  покрытий и способству  получению мелкокристаллических осадков, данный способ не позвол ет улучшить пластические характеристики покрытий . Кроме того, резкий подъем тока , предусмотренный способом, ведет к преимущественному осаждению покрыти  на микровыступы, что увеличивает шероховатость покрыти  и создает услови  дл  роста отдельных дендритов хрома.

Наиболее близким к изобретению  вл етс  способ получени  покрытий, включак ций периодическое экранирование электродной поверхности изол ционными прокладками, передвигаемыми относительно катодной и анодной поверхност ми |Yj ,

Недостатком известного способа  вл ютс  достаточно сложное крнструктивное оформлениеJ а также труд .ности, св занные с экранированием изделий, имеющих сложнопрофилированную поверхность, поскольку прокладки вытесн ют элекролит только с выступающих частей поверхности, при этом не удаетс  создать одинаковые услови  обработки на всех участках рельефной поверхности и получить пластичные однородные по качеству и равномерные по толщине покрыти ,

Цель изобретени  - повышение пластичности, однородности и равномерности покрытий на рельефной поверхности.

Указанна  цель достигаетс  тем, что согласно способу получени  электролитических хромовых покрытий включающему последовательнее экранирование участков обрабатываемой поверхности, экранирование осуществл ют пропусканием через межэлектродный зар д пузырьков газа, размер которых .должен превышать величину межэлектродного . зазора,

Дп  осуществлени  способа в межэлектродный зазор, образованный обрабатываемой деталью и анодом и заполненный электролитом, подают

172

газ, размер пузырьков которого в момент их отрыва превышает величину межэлектродного зазора, пузьфьки перемещаютс  по межэлектродному зазору принудительно протоком электролита или подъемной силой, возникающей в результате разности между плотност ми пузырька и электролита ,

Пу ьфьки газа, в случае горизонтального положени  издели , двигаютс  по наклонной траектории, а в случае вертикального положени  двигаютс  вертикально вверх,

Пузьфьки газа, попада  в зазор между двум  электродами, деформируютс , воспринима  форму ограничивающей их поверхности, в том числе и рельефной, перемещаютс  вдоль

нее и не только экранируют отдельные участки, но и вытесн ют с экранируемой поверхности электролит,Это природит к полному прерыванию тока и прекращению процесса осаждени 

покрыти  на этих участках на врем , соответствующее времени перекрыти . их пузырьками газа, т,е, позвол ет вести процессы в импульсном режиме элеткролиза. Вытесн   с поверхности

электродов электролит, пузьфьки газа интенсифицируют процесс его обмена в приэлектродном пространстве , что ускор ет подвод реагирую- . щих ионов и отвод продуктов реакции и тепла от обрабатываемой поверхности и создает услови  дл  повышени  качества покрыти  и скорое ти его отложени . Так как участок электрода под газовым пузырьг

ком экранируетс  не полностью по периметру пузьфька и часть поверхности электрода ос1:аётс  зан той электролитом за счет смачивани  поверхности, то получаемые режимы электролиза характеризуютс 

плавным изменением величины тока, что положительно сказываетс  на повышении прочности сцеплени  между сло ми хрома и способствует .

осаждению однородных по структуре и равномерных по толщине хромовых покрытий, отличакмцихс  повышенной пластичностью.

Использование газов, вызывающих пассивадаю поверхности, например кислорода или воздуха, при осаждении последующих слоев покрыти  создает благопри тные услови  дл  возникновени  новых центров кристалйизации , что ведет к получению мелкокристаллических беспористых покрытий с высокой твердостью и пластичностью. Измен   размер выходного сопла подвод щей трубки, по которой газ под давлением поступает в электролит , и задава  их расход, можно регулировать размер пузырька и частоту их поступлени  в межэлектродный зазор, т.е. обеспечить создание импульсного режима за счет экра нировани  поверхности с измен ющейс  частотой и длительностью экра нировани . Размер пузырькд, который имеет значение в основном в услови х рабо в стационарных ваннах, определ ютс  размером выходного конца (сопла ) подвод щей трубки и будет приб лизительно равен диаметру этой трубки, так как отрыв пузырька происходит в момент, когда силы, отрывающие пузырек, превыс т силу повер ностного нат жени , удерживающую пузырек на торце сопла. .Пример 1. Процесс хромировани  нарезного канала ствола охотничьей винтовки ведут с вращающимс  HepaciBopHMbiM электродом со спираль ;наложенной центрирующей изол ционной направл ющей. В межэлектродный зазор, составл ющий 1,5 мм, принудительно подают электролит, в поток которого на входе в канал ствола через отверсти  диаметром 10 мм. по дают сжатый воздух от пневмосети, Удавление в которой превышает давление в потоке электролита, пузырьки, размер которых в момент , отрыва от трубки равен 10 мм. Час174 тота образовани  пузырьков составл ет 2 шт/с, а скорость движени  пузырьков воздуха в межэлектродном зазоре определ етс  скоростью движени  электролита и составл ет 100 см/Со Так как электрод вращаетс  со скоростью 8 об/мин, то каждый последующий пузырек воздуха, двига сь вдоль спиральной направл ющей, экранирует новые участки катодной поверхности. Процесс хромировани  ведут из стандартного электролита при 70 С в катодной плотности тока 200 А/дм, использу  серийный источник посто вного тока ВАК 320/12УЧ. В результате получают мелкокристаллическое, равномерное, блест щее, плотное хромовое покрытие толщиной 50 мк, микроструктура которого одинакова как на пол х, так и в нарезах канала, а микротвердость составл ет ПОО-1300 кг/мм. Сравнительные испытани  пластичности электролитических хромовых покрытий методом осаждени  цилиндрического образца с хромом на 1/3 высотыпоказывают , что в случае -применени  пузырьков газа дл  получени  пульсирующего тока количество осьшавшегос  хрома с образцов в 1,5-2,0 раза меньще, чем с образцов с хромом, полученным известным методом. Предлагаемый способ может быть рекомендован дл  использовани  в различных отрасл х машиностроительной промышленности, где требуетс  нанесение равномерного по толщине износостойкого хромового покрыти  на внутреннюю поверхность спожнопрофнлированных цилиндрических полых деталей..

Claims (1)

1. СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКИХ ХРОМОВЫХ ПОКРЫТИЙ, включающий последовательное экранирование участков обрабатываемой.поверхности, отличающийся тем, что, с целью повышения пластичности, однородности'и равномерности, покрытий на рельефной поверхности, экранирование осуществляют пропусканием через межэлектродный заряд пузырьков газа, размер, которых должен превышать величину межэлектродного зазора.

   ί 11