эоeo
С/5 00C / 5 00
со Изобретение относитс к фототер мопластическим материалам, которые могут быть использованы дл оперативной регистрации информации, в голографии дл быстрого воспроизве деии информации в масштабе реального времени и дл голографической интерферометрии. Известен фототермопластический материал, состо щий из электропровод щей подложки, например полиэтилентерефталатной пленки, металл зированной никелем, и фототермопла тического сло , включающего органи ческий фотопроводник - пoли-N-Bини карбазол (ПВК), термопластическое св зующее - сополимер стирола с ди НИЛОМ и сенсибилизатор - 2j4,7-TpH нитрофлуоренон 11. Этот фототермопластический мате ал обеспечивает дифракционную эффе тивность (ДЭ) 10-12%, но обладает небольшой цикличностью записи (20 циклов) и невысокой светочувст тельностью (8 V 10 -10 см2-/эрг) Наиболее близким техническим решением к изобретению вл етс фо тотермопластический материал С2Т, состо щий из провод щей подложки и фототермопластического сло , вклю|чающего поли-Н-винилкарбазол, сопол мер стирола с дивинилом, 2,4,7-три 1итрофпуоренон-9 и антиоксидант 2 ,6-дитретбутил-4-метилфенол при следующем соотношении компонентов , мае.%: Поли-Ы-винилкарбазол Сенсибилизатор 2,4, 7-тринитро1-10 флуоренон-9 2,6-Дитретбутил2-7 -4-метилфенол Сополимер стироОстальное ла с дивинилом Этот материал имеет цикличность 40-50 циклов, ДЭ 12-15%, однако характеризуетс относительно невысокой светочувствительностью 0,8 к 10 - 2 Ю при использовании его дл записи голограм излучением лазера с длиной волны 633 нм. Материал еще менее чувствителен к излучению лазера с длиной волны 694 им. Целью изобретени вл етс повышение светочувствительности к красной обп сти спектра нри сохран 31 НИИ высокой дифракционной эффективности . Указанна цель достигаетс тем, что фототермопластический материал, состо щий из электропровод щей подложки и фотопровод щего термопластического сло , содержащего органический фотопроводник - поли-Ы-винилкарбазол , термопластическое св зующее - теломер стирола с бутадиеном, сенсибилизатор и антиоксидант 2 ,6-дитретбутил-4-метилфенол (ионол) в фотопр.овод щем термопластическом слое содержит теломер стирола с бутадиеном при соотношении стирола к бутадиену 68-75:25-32, а в качестве сенсибилизатора - 9-дицианометилен-2 ,7-ди- или 2,4,7-тринитрофпуоренон при следующем содержании компонентов, мас.%: Поли-Н-винилкарбазол48 ,0-49,6 Сенсибилизатор 0,8-4,0 Антиоксидант 2,0-5,0 Св зующееОстальное Пример I. Н-а металлизированную никелем полиэтилентерефталатную подложку методом купающего валика из смеси растворителей толуол и тетрагидрофуран (9:1) нанос т слой, содержащий 49 мас.% ПВК, 2 мас.% теломера стирола с бутадиеном (25 мас.% бутадиена, мол.масса 10000), предварительно заправленного 2% ионола. Толщин.а сло после сушки 3 мкм. Пример 2. Аналогично примеру 1 нанос т слой, содержащий 48,7 мас.% ПВК, 2,6 мас.% ДЦМТНФ, 46,7 мас.% теломера стирола с бутадиеном (25 мас.% бутадиена, мол.масса 10000) предварительно заправленного 2 мас.% ионола. Толщина сло после сушки 3 мкм. Пример 3. Аналогично примеру I нанос т слой, содержащий 48,7 мас.% ПВК, 2,6 мас.% ДЦМТНФ, 46,2 мас.% теломера стирола с бутаиеном (28 мас.% бутадиена, мол.маса 10000), предварительно заправенного 2,5 мас.% ионола. Толщина ло после сушки 3 мкм. Пример 4. Аналогично примеу i нанос т слой, содержащий 48 мас.% ПВК, 4 мас.% ЩТЩт, 45 мас.% теломера стирола с бутаиеном (28 мас.% бутадиена, мол.масса 10000), предварительно заправThe invention relates to photothermoplastic materials that can be used for on-line recording of information, in holography for fast reproduction of information in real time and for holographic interferometry. A photothermoplastic material consisting of an electrically conductive substrate, such as a polyethylene terephthalate film, metal-nickel-coated, and a photothermoplastic layer comprising an organic photoconductor, poly-N-Bini Carbazole (PVC), a thermoplastic binder — styrene-di-NIL and a sensitization copolymer are known. - 2j4,7-TpH nitrofluorenone 11. This photothermoplastic material provides a diffraction efficiency (DE) of 10–12%, but has a small recording cycle (20 cycles) and low sensitivity (8 V 10 –10 cm2- / erg) H The closest technical solution to the invention is a C2T photothermoplastic material consisting of a conductive substrate and a photothermoplastic layer comprising poly-H-vinylcarbazole, copolymer of styrene with divinyl, 2,4,7-ti 1 nitrofporenon-9 and antioxidant 2, 6-ditretbutyl-4-methylphenol in the following ratio of components, may.%: Poly-N-vinylcarbazole Sensitizer 2.4, 7-trinitro1-10 fluorenone-9 2,6-Ditretbutyl2-7 -4-methylphenol Styrene Copolymer The Rest with divinyl. This material has a cyclicity of 40-50 cycles, DE 12-15%, however It is affected by a relatively low photosensitivity of 0.8 to 10–2 oh when used to record holographic laser radiation with a wavelength of 633 nm. The material is even less sensitive to laser radiation with a wavelength of 694 them. The aim of the invention is to increase the photosensitivity to the red spectrum of the spectrum at the 31 research institutes of high diffraction efficiency. This goal is achieved by the fact that a photothermoplastic material consisting of an electrically conductive substrate and a photoconductive thermoplastic layer containing an organic photoconductor — poly-N-vinylcarbazole; -methylphenol (ionol) in the photoprongable thermoplastic layer contains styrene telomer with butadiene with a styrene to butadiene ratio of 68-75: 25-32, and 9-dicyanomethylene-2, 7-di- or 2.4 as a sensitizer, 7-trinitrofpu orenone with the following content of components, wt.%: Poly-H-vinylcarbazole 48, 0-49.6 Sensitizer 0.8-4.0 Antioxidant 2.0-5.0 Binder Other Example I. H-a metallized with nickel polyethylene terephthalate substrate by the method a bathing roller from a mixture of solvents toluene and tetrahydrofuran (9: 1) is applied a layer containing 49 wt.% PVC, 2 wt.% telomer of styrene with butadiene (25 wt.% butadiene, mol. mass 10,000), pre-charged with 2% ionol . Thickness of a layer after drying is 3 microns. Example 2. Analogously to example 1, a layer containing 48.7% by weight of PVC, 2.6% by weight of DCMTNF, 46.7% by weight of styrene telomer with butadiene (25% by weight of butadiene, mol. Mass 10000) charged with 2 wt.% ionol. The thickness of the layer after drying is 3 microns. Example 3. In a manner similar to Example I, a layer containing 48.7% by weight of PVC, 2.6% by weight of DCMTNF, 46.2% by weight of styrene telomer with butaiene (28% by weight of butadiene, mol. Masl. 10,000) was applied, pre-charged 2.5 wt.% ionol. The thickness after drying is 3 microns. Example 4. In a similar way, I apply a layer containing 48% by weight of PVC, 4% by weight of CTC, 45% by weight of styrene telomer with butaiene (28% by weight of butadiene, mol. 10,000 mass), pre-dressing