SU1064805A1 - Способ измерени неоднородности удельного сопротивлени - Google Patents

Способ измерени неоднородности удельного сопротивлени Download PDF

Info

Publication number
SU1064805A1
SU1064805A1 SU823448435A SU3448435A SU1064805A1 SU 1064805 A1 SU1064805 A1 SU 1064805A1 SU 823448435 A SU823448435 A SU 823448435A SU 3448435 A SU3448435 A SU 3448435A SU 1064805 A1 SU1064805 A1 SU 1064805A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
light
probe
sample
resistance
measuring
Prior art date
Application number
SU823448435A
Other languages
English (en)
Inventor
В.А. Бойко
В.Н. Рыбин
Original Assignee
Одесский ордена Трудового Красного Знамени политехнический институт
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Одесский ордена Трудового Красного Знамени политехнический институт filed Critical Одесский ордена Трудового Красного Знамени политехнический институт
Priority to SU823448435A priority Critical patent/SU1064805A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1064805A1 publication Critical patent/SU1064805A1/ru

Links

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)

Abstract

СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ НЕОДНОРОДНОСТИ УДЕЛЬНОГО СОПРОТИВЛЕНИЯ ПОЛУ;ПРОВОДНИКОВ , основанный на приложении I tt Г 1.1 , к образцу с помощью контактов электрического напр жени , освещении поверхности образца световым зондом в виде полосы, параллельной лини м тока, поперек которой в произвольном месте располагают затененный участок - теневой зонд, измерении сопротивлени  при сканировании поверхности образца теневым зондом, отличающийс  тем, что, с целью повышени  разрешающей способности и чувствительности, поверхность образца освещают импульсами света, следующими с интервалами превышающими врем  релаксации концентрации неравновесньк возбужденных светом носителей зар да, измерение сопротивлени  производ т спуст  врем  t после начала светового импульса , которое больше времени достижени  максимальной интенсивности света, но меньше времени жизни неравновесных носителей зар да. - 0

Description

Изобретение относитс  к полупроводниковой технике и может быть использовано дл  контрол  неоднород ности полупроводниковых материалов, испсльзуеьа к дл  изготовлени  полупроводников . Известен способ измерени  неодно родности сопротивлени  легированных полупроводников tl, основанный на измерении 4-х зондовым способом сопротивлени  во многих точках поверхности полупроводникового плоско го образца. Недостатком этого способа  вл ет с  его разрзгшающий характер и низка разрешающа  способность, обусловлен ные необходимостью приведени  в соприкосновении с образцом зондовой головки с определенным межзондовым промежутком. Наиболее близким  вл етс  способ измерени  неоднородности удельного сопротивлени  полупроводников Zj , основанньй на приложении к образцу с помощью контактов электрического напр жени , освещении поверхности образца световым зондом в виде поло сы, параллельной лини м тока, поперек которой в произвольном месте располагают затененный участок - те невой зон, измерени  сопротивлени  при сканировании поверхности образца теневым зондом. Недостатком этого способа  вл ет с  низка  разрешающа  способность И чувствительность, обусловленные тем, что вследствие конечного време жизни неосновных носителей зар да происходит их диффузи  в область те невого зонда. При этом его сопротив ление уменьшаетс  и падает чувствительность . Дл  повьшени  чувствител ности необходимо увеличивать площадь теневого зонда, но при этом .па дает разрешающа  способность определени  распределени  удельного сопротивлени  по площади образца. Цель изобретени  - повьш1ение раз решающей способности и чувствительности . Цель достигаетс  тем, что в способе измерени  неоднородности удель ного сопротивлени  полупроводников, основанном на приложении к образцу с помощью контактов электрического напр жени , освещении поверхности. о разца световым зондом в виде полосы параллельной лини м тока, поперек которой в произвольном месте располагают затененный участок - теневой зонд, измерении сопротивлени  при сканировании поверхности образца теневым зондом, поверхность образца освещают импульсами света, следующими с интервалами, превышающими врем  релаксации концентрации неравновесных возбужденных светом носителей зар да, измерение сопротивлени  производ т спуст  врем  At после начала светового импульса, которое больше времени достижени  максимальной интенсивности света, но меньше времени жизни неравновесных носителей зар да. На чертеже представлены зависимости нестационарной фотопроводимости в области теневого зонда в различные моменты времени после импульсного освещени  полупроводника.Индексами ut, ui,, ut.. t обозначены распределени  носителей зар да в начальньй и последующий моменты времени, вплоть до. времени жизни. Существо способа состоит в следующем . Образец освещаетс  короткими импульсами света высокой интенсивности, например, от лампы вспьш1ки, а измерение проводитс  спуст  Брем  ii после начала действи  светового импульса , которое больше или равно времени нарастани  фронта импульса света до максимальной интенсивности Т но меньше времени жизни неравновесных носителей зар да , ,,. Дл  исключени  вли ни  остаточного -уровн  возб ждени  образца период Т между двум  последовательными световыми импульсами должен более , чем на пор док превьш1ать врем  релаксации концентрации инжектированных светом неравновесных носителеи зар да С . Расчеты показали, что распределение неравновесных носителей зар да в области тени дл  образца с темновым зондом даетс  выражением (3-2х д , ( 3 + 2х П : i-ni4E i H fij, Ар где &РО - начальна  неравновесна  концентраци  дырок, инжектированных светом , D - коэффициент бипол рной диффузии; «3 - ширина теневого зонда, X - текуща  координата. При получении условий (1) и (2) в выражении (3) е , во столько раз меньше диффузионной длины во сколько риз , Из чертежа видно, что чем лучше вьшолн етс  условие t j тем меньш распределени  отличаетс  от пр моугольного , т,е. контрастнее зонд и, следовательно, тем меньшие размеры зонда можно использовать. Пример. Предлагаемый спосо измерени  неоднородности удельного сопротивлени  полупроводников был испытан на различных полупроводник вых материалах, таких, как Si, Ge, .AnBc и AjB. На высокоомном кремни с длиной диффузии пор дка 2 мм ха54 рактеристическа  длина диффузии, по-, лученна  в установке и определ юща  разрешающую способность метода, со-ставила около 21 мкм. Таким образо, предлагаемый способ позвол ет измер ть неоднородность удельного сопротивлени  высокоомных полупроводников с высокой чувствительностью и высоким линейньм разрешением , при отсутствии вли ни  времени жизни неравновесных носителей зар да на результаты измерений, что недостижимо дл  известных методов. Применение предложенного способа в производстве полупроводниковых материалов позволит значительно улучшить контроль за однородностью удельного сопротивлени  получаемых материалов и повысить качество выпускаемой продукции. Использование предлагаемого метода в производстве полупроводниковых приборов на операции входного кон- трол  неоднородности исходных структур позволит увеличить процент вы- . хода годных приборов и будет способствовать росту производительности труда.,

Claims (1)

  1. СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ НЕОДНОРОДНОСТИ УДЕЛЬНОГО СОПРОТИВЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВ, основанный на приложении к образцу с помощью контактов электрического напряжения, освещении поверхности образца световым зондом в виде полосы, параллельной линиям тока, поперек которой в произвольном месте располагают затененный участок - теневой зонд, измерении сопротивления при сканировании поверхности образца теневым зондом, отличающийся тем, что, с целью повышения разрешающей способности и чувствительности, по- , верхность образца освещают импульсами света, следующими с интервалами, превышающими время релаксации концентрации неравновесных возбужден- g ных светом носителей заряда, измерение сопротивления производят спустя время после начала светового импульса, которое больше времени достижения максимальной интенсивности света, но меньше времени жизни неравновесных носителей заряда.
    ________Л__________ . г.......
    I * *$0УИ>0Г7Т
    1 1064805 1
SU823448435A 1982-06-03 1982-06-03 Способ измерени неоднородности удельного сопротивлени SU1064805A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU823448435A SU1064805A1 (ru) 1982-06-03 1982-06-03 Способ измерени неоднородности удельного сопротивлени

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU823448435A SU1064805A1 (ru) 1982-06-03 1982-06-03 Способ измерени неоднородности удельного сопротивлени

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1064805A1 true SU1064805A1 (ru) 1985-01-15

Family

ID=21015173

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU823448435A SU1064805A1 (ru) 1982-06-03 1982-06-03 Способ измерени неоднородности удельного сопротивлени

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1064805A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5797114A (en) * 1993-03-23 1998-08-18 The University Of Sheffield Method and apparatus for mapping of semiconductor materials

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1. Perloff D., Nahl F., Fourpoint shut resistance measurements of semiconductor doping uniformity. J.Electrochem. soc., 1977, 124, 4, 582-590. 2. БЛЮДНИКОВ Л.М. и др. Разре.шающа способность метода теневого сканировани , используемого при изучении однородности полупроводников. Вестник Киевского университета. Физи ка., 1979, № 20, 108-116. *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5797114A (en) * 1993-03-23 1998-08-18 The University Of Sheffield Method and apparatus for mapping of semiconductor materials

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69318845D1 (de) Verfahren zur verkürzten alterungsprüfung von halbleiterbausteinen
SU1713448A3 (ru) Способ определени толщины слоев в полупроводниковых слоистых конструкци х и устройство дл его осуществлени
DE3787041D1 (de) Verfahren zum feststellen und/oder zum identifizieren einer biologischen substanz durch elektrische messungen und vorrichtung zum durchfuehren dieses verfahrens.
Heilig Determination of surface properties by means of large signal photovoltage pulses and the influence of trapping
Bousse et al. Investigation of carrier transport through silicon wafers by photocurrent measurements
SU1064805A1 (ru) Способ измерени неоднородности удельного сопротивлени
Maracas et al. Experimental evaluation of low‐frequency oscillations in undoped GaAs to probe deep level parameters
GB2370155A (en) Surface passivation method and arrangement for measuring the lifetime of minority carriers in semiconductors
Toyoda et al. Conductivity and permittivity of water trees in polyethylene
DE2259131A1 (de) Verfahren zur bestimmung der traegerlebensdauer von halbleiterkristallen
JP2004146831A (ja) 半導体ウェハの荷電キャリア寿命測定方法及び測定装置
KR20230005884A (ko) 실리콘 태양 전지의 접촉 그리드와 이미터층 사이의 저항 접촉 거동의 개선 방법
GB963214A (en) Improved apparatus for and method of determining the values of electrical parameters of a semi-conductor crystal
EP1363323A3 (en) Apparatus and method for determining electrical properties of a semiconductor wafer
EP0604233A2 (en) Method and apparatus for measuring high-frequency C-V characteristics of a MIS device
Zhu et al. Applications of DMD-based inhomogeneous illumination photoluminescence imaging for silicon wafers and solar cells
JP4729246B2 (ja) 閾値電圧及びドーパント濃度の高速測定方法
US3097337A (en) Apparatus and method for electroluminescent non-destructive flaw detection
Akamatsu et al. Diffusion length measurement in InP and GaAs by filtered cathodoluminescence in a scanning electron microscope
JPS5761961A (en) Automatic testing device of power supply
Carotta et al. Minority electron diffusion coefficient from lifetime measurement combination
SU550882A1 (ru) Способ определени эффективной температуры гор чих носителей тока в полупроводнике
Soloviev et al. Correlation between oxide breakdown and defects in SiC wafers
SU1442898A1 (ru) Способ измерени угла наклона поверхностных трещин
SU397860A1 (ru) Фотоэлектрический способ измерения микронеоднородности удельного сопротивления