SU1064805A1 - Способ измерени неоднородности удельного сопротивлени - Google Patents
Способ измерени неоднородности удельного сопротивлени Download PDFInfo
- Publication number
- SU1064805A1 SU1064805A1 SU823448435A SU3448435A SU1064805A1 SU 1064805 A1 SU1064805 A1 SU 1064805A1 SU 823448435 A SU823448435 A SU 823448435A SU 3448435 A SU3448435 A SU 3448435A SU 1064805 A1 SU1064805 A1 SU 1064805A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- light
- probe
- sample
- resistance
- measuring
- Prior art date
Links
Landscapes
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Abstract
СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ НЕОДНОРОДНОСТИ УДЕЛЬНОГО СОПРОТИВЛЕНИЯ ПОЛУ;ПРОВОДНИКОВ , основанный на приложении I tt Г 1.1 , к образцу с помощью контактов электрического напр жени , освещении поверхности образца световым зондом в виде полосы, параллельной лини м тока, поперек которой в произвольном месте располагают затененный участок - теневой зонд, измерении сопротивлени при сканировании поверхности образца теневым зондом, отличающийс тем, что, с целью повышени разрешающей способности и чувствительности, поверхность образца освещают импульсами света, следующими с интервалами превышающими врем релаксации концентрации неравновесньк возбужденных светом носителей зар да, измерение сопротивлени производ т спуст врем t после начала светового импульса , которое больше времени достижени максимальной интенсивности света, но меньше времени жизни неравновесных носителей зар да. - 0
Description
Изобретение относитс к полупроводниковой технике и может быть использовано дл контрол неоднород ности полупроводниковых материалов, испсльзуеьа к дл изготовлени полупроводников . Известен способ измерени неодно родности сопротивлени легированных полупроводников tl, основанный на измерении 4-х зондовым способом сопротивлени во многих точках поверхности полупроводникового плоско го образца. Недостатком этого способа вл ет с его разрзгшающий характер и низка разрешающа способность, обусловлен ные необходимостью приведени в соприкосновении с образцом зондовой головки с определенным межзондовым промежутком. Наиболее близким вл етс способ измерени неоднородности удельного сопротивлени полупроводников Zj , основанньй на приложении к образцу с помощью контактов электрического напр жени , освещении поверхности образца световым зондом в виде поло сы, параллельной лини м тока, поперек которой в произвольном месте располагают затененный участок - те невой зон, измерени сопротивлени при сканировании поверхности образца теневым зондом. Недостатком этого способа вл ет с низка разрешающа способность И чувствительность, обусловленные тем, что вследствие конечного време жизни неосновных носителей зар да происходит их диффузи в область те невого зонда. При этом его сопротив ление уменьшаетс и падает чувствительность . Дл повьшени чувствител ности необходимо увеличивать площадь теневого зонда, но при этом .па дает разрешающа способность определени распределени удельного сопротивлени по площади образца. Цель изобретени - повьш1ение раз решающей способности и чувствительности . Цель достигаетс тем, что в способе измерени неоднородности удель ного сопротивлени полупроводников, основанном на приложении к образцу с помощью контактов электрического напр жени , освещении поверхности. о разца световым зондом в виде полосы параллельной лини м тока, поперек которой в произвольном месте располагают затененный участок - теневой зонд, измерении сопротивлени при сканировании поверхности образца теневым зондом, поверхность образца освещают импульсами света, следующими с интервалами, превышающими врем релаксации концентрации неравновесных возбужденных светом носителей зар да, измерение сопротивлени производ т спуст врем At после начала светового импульса, которое больше времени достижени максимальной интенсивности света, но меньше времени жизни неравновесных носителей зар да. На чертеже представлены зависимости нестационарной фотопроводимости в области теневого зонда в различные моменты времени после импульсного освещени полупроводника.Индексами ut, ui,, ut.. t обозначены распределени носителей зар да в начальньй и последующий моменты времени, вплоть до. времени жизни. Существо способа состоит в следующем . Образец освещаетс короткими импульсами света высокой интенсивности, например, от лампы вспьш1ки, а измерение проводитс спуст Брем ii после начала действи светового импульса , которое больше или равно времени нарастани фронта импульса света до максимальной интенсивности Т но меньше времени жизни неравновесных носителей зар да , ,,. Дл исключени вли ни остаточного -уровн возб ждени образца период Т между двум последовательными световыми импульсами должен более , чем на пор док превьш1ать врем релаксации концентрации инжектированных светом неравновесных носителеи зар да С . Расчеты показали, что распределение неравновесных носителей зар да в области тени дл образца с темновым зондом даетс выражением (3-2х д , ( 3 + 2х П : i-ni4E i H fij, Ар где &РО - начальна неравновесна концентраци дырок, инжектированных светом , D - коэффициент бипол рной диффузии; «3 - ширина теневого зонда, X - текуща координата. При получении условий (1) и (2) в выражении (3) е , во столько раз меньше диффузионной длины во сколько риз , Из чертежа видно, что чем лучше вьшолн етс условие t j тем меньш распределени отличаетс от пр моугольного , т,е. контрастнее зонд и, следовательно, тем меньшие размеры зонда можно использовать. Пример. Предлагаемый спосо измерени неоднородности удельного сопротивлени полупроводников был испытан на различных полупроводник вых материалах, таких, как Si, Ge, .AnBc и AjB. На высокоомном кремни с длиной диффузии пор дка 2 мм ха54 рактеристическа длина диффузии, по-, лученна в установке и определ юща разрешающую способность метода, со-ставила около 21 мкм. Таким образо, предлагаемый способ позвол ет измер ть неоднородность удельного сопротивлени высокоомных полупроводников с высокой чувствительностью и высоким линейньм разрешением , при отсутствии вли ни времени жизни неравновесных носителей зар да на результаты измерений, что недостижимо дл известных методов. Применение предложенного способа в производстве полупроводниковых материалов позволит значительно улучшить контроль за однородностью удельного сопротивлени получаемых материалов и повысить качество выпускаемой продукции. Использование предлагаемого метода в производстве полупроводниковых приборов на операции входного кон- трол неоднородности исходных структур позволит увеличить процент вы- . хода годных приборов и будет способствовать росту производительности труда.,
Claims (1)
- СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ НЕОДНОРОДНОСТИ УДЕЛЬНОГО СОПРОТИВЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВ, основанный на приложении к образцу с помощью контактов электрического напряжения, освещении поверхности образца световым зондом в виде полосы, параллельной линиям тока, поперек которой в произвольном месте располагают затененный участок - теневой зонд, измерении сопротивления при сканировании поверхности образца теневым зондом, отличающийся тем, что, с целью повышения разрешающей способности и чувствительности, по- , верхность образца освещают импульсами света, следующими с интервалами, превышающими время релаксации концентрации неравновесных возбужден- g ных светом носителей заряда, измерение сопротивления производят спустя время после начала светового импульса, которое больше времени достижения максимальной интенсивности света, но меньше времени жизни неравновесных носителей заряда.________Л__________ . г.......I * —*$0УИ>0Г7Т1 1064805 1
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU823448435A SU1064805A1 (ru) | 1982-06-03 | 1982-06-03 | Способ измерени неоднородности удельного сопротивлени |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU823448435A SU1064805A1 (ru) | 1982-06-03 | 1982-06-03 | Способ измерени неоднородности удельного сопротивлени |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1064805A1 true SU1064805A1 (ru) | 1985-01-15 |
Family
ID=21015173
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU823448435A SU1064805A1 (ru) | 1982-06-03 | 1982-06-03 | Способ измерени неоднородности удельного сопротивлени |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1064805A1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5797114A (en) * | 1993-03-23 | 1998-08-18 | The University Of Sheffield | Method and apparatus for mapping of semiconductor materials |
-
1982
- 1982-06-03 SU SU823448435A patent/SU1064805A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
1. Perloff D., Nahl F., Fourpoint shut resistance measurements of semiconductor doping uniformity. J.Electrochem. soc., 1977, 124, 4, 582-590. 2. БЛЮДНИКОВ Л.М. и др. Разре.шающа способность метода теневого сканировани , используемого при изучении однородности полупроводников. Вестник Киевского университета. Физи ка., 1979, № 20, 108-116. * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5797114A (en) * | 1993-03-23 | 1998-08-18 | The University Of Sheffield | Method and apparatus for mapping of semiconductor materials |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69318845D1 (de) | Verfahren zur verkürzten alterungsprüfung von halbleiterbausteinen | |
SU1713448A3 (ru) | Способ определени толщины слоев в полупроводниковых слоистых конструкци х и устройство дл его осуществлени | |
DE3787041D1 (de) | Verfahren zum feststellen und/oder zum identifizieren einer biologischen substanz durch elektrische messungen und vorrichtung zum durchfuehren dieses verfahrens. | |
Heilig | Determination of surface properties by means of large signal photovoltage pulses and the influence of trapping | |
Bousse et al. | Investigation of carrier transport through silicon wafers by photocurrent measurements | |
SU1064805A1 (ru) | Способ измерени неоднородности удельного сопротивлени | |
Maracas et al. | Experimental evaluation of low‐frequency oscillations in undoped GaAs to probe deep level parameters | |
GB2370155A (en) | Surface passivation method and arrangement for measuring the lifetime of minority carriers in semiconductors | |
Toyoda et al. | Conductivity and permittivity of water trees in polyethylene | |
DE2259131A1 (de) | Verfahren zur bestimmung der traegerlebensdauer von halbleiterkristallen | |
JP2004146831A (ja) | 半導体ウェハの荷電キャリア寿命測定方法及び測定装置 | |
KR20230005884A (ko) | 실리콘 태양 전지의 접촉 그리드와 이미터층 사이의 저항 접촉 거동의 개선 방법 | |
GB963214A (en) | Improved apparatus for and method of determining the values of electrical parameters of a semi-conductor crystal | |
EP1363323A3 (en) | Apparatus and method for determining electrical properties of a semiconductor wafer | |
EP0604233A2 (en) | Method and apparatus for measuring high-frequency C-V characteristics of a MIS device | |
Zhu et al. | Applications of DMD-based inhomogeneous illumination photoluminescence imaging for silicon wafers and solar cells | |
JP4729246B2 (ja) | 閾値電圧及びドーパント濃度の高速測定方法 | |
US3097337A (en) | Apparatus and method for electroluminescent non-destructive flaw detection | |
Akamatsu et al. | Diffusion length measurement in InP and GaAs by filtered cathodoluminescence in a scanning electron microscope | |
JPS5761961A (en) | Automatic testing device of power supply | |
Carotta et al. | Minority electron diffusion coefficient from lifetime measurement combination | |
SU550882A1 (ru) | Способ определени эффективной температуры гор чих носителей тока в полупроводнике | |
Soloviev et al. | Correlation between oxide breakdown and defects in SiC wafers | |
SU1442898A1 (ru) | Способ измерени угла наклона поверхностных трещин | |
SU397860A1 (ru) | Фотоэлектрический способ измерения микронеоднородности удельного сопротивления |