К Soffyyfi/fo y f/acocy
6
i (Л
С Изобретение относитс к устройCTI вам дл осаждени слоев на подложку различными способами, преимущественно при пониженном давлении (эпитакси , диффузи , пиролиз и др.) и может быть использовано в промышленности получени микросхем, счетнорешающей и запоминающей технике. По основному авт. св. 796246 известно устройство дл осаждени слоев на подложку различными способа ми, преимущественно при пониженном давлении, кот.орое содержит вакуумную камеру с зоной демпфировани , состо щую И.З реактора, выполненного в виде двух коаксиально размещенных труб и камеры загрувки -выгрузки, нагреватель , охватываклций вакуумную камеру /подложкодержатель, трубку дл подачи . инертного газа,размещенную в зоне в куумносо демпфировани ,трубки дл no дачи-реагентов в реактор,размещенные под углем к оси внут)енней трубы рёак (жора, один конец которой расположена камере загрузки-разгрузки, Подложкодержатель выполнен ввиде лодочки с подложками и размещен в (центре рабочей зоны камер М . . Недостатками известного устройств вл ютс интенсивное осаждение сло стороны камерн загрузки-выгрузки и подачи газообразных реагентов, его Обеднение, в результате, чего осазкден по.длине неравномерно, осыпание при. вдвижении лодочки с подложкайи и воз никновение дефектности. Все-это приводит к снижению качества осаждаемых слоев. Цель изобретени - повышение качества осаждаемых слоев за счет умень taeHH Ьсаждени на стенках реактора и обеднени газообразных реагентов по его длине. Указанна -цель достигаетс тем, что устройство дл осаждени слоев .снабжено уплотнением,- расположенным между наружной и внутренней трубами со стороны зоны демпфировани , на внутренней трубе по длине подложкодержател выполнены отверсти , а один из концов трубок дл подачи газа разбавител размещен во внутрен ней трубе. На чертеже представлено предлагаемое устройство,общий вид, в разрезе Устройство дл осаждени слоев включает вакуумную камеру 1 с зоной демпфировани , внутри которой раз-. моцена наружна труба 2 и внутренн Труба 3 peakTofeia, Внутренн труба 3 уплотнена по наружной трубе 2 в зоне .демпфирс5вани , а полость между внутренней 3 наружной 2 трубами соединена с камерой 4 загрузки-выгрузки. Наружна труба 2 реактора уплотнена на вакуум в водоохлаждаемом корпусе вакуумной системы 5. Внутренн труба 3 реактора выполнена по длине больше, чем наружна ; и своим концом входит в камеру 4 загрузки-выгрузки. Трубки 6 ввода реагентов направлены под углом к внутренней трубе, а одна из этих трубок 7 дл напуска газаразбавител соединена.с внутренней трубой 3. Труба 3 уплотнена потрубе 2 уплотнением 8 из термостойких материалов , чем предотвращаетс попадание непрореагировавшей парогазовой смеси в вакуумную систему. Подложкодержатель, выполненный в виде лодочки 9 с подложками, размещен в центре-рабочей зоны вакуумной камеры Т. На стенке внутренней трубы 3 вокруг подложнодержател на его длину выполнены отверсти 10. .Устройство работает следующим образом . При разогретой печи до установившегос реж:има работы лодочку 9. помещают в трубу 3 в зону, ограниченную отверсти ми 10, герметизируют камегру .1 и производ т откачку до заданного давлени , затем через трубку 6 подают газы-реагенты, а через трубку 7 - газ-разбавитель и выдерживают устройство в таком режиме -заданное врем процесса осаждени . По окончании процесса пр.оизвод т подачу только газа-разбавител , затем прекращают откачку, заполн ют камеру инертным газом До атмосферного давлени , открывают камеру 1 дл смены одочки, одновременно осуществл етс продувка азотом навстречу, в сторону загрузочного окна. Выполнение отверстий на стенке внутренней трубы вокруг подложкодержател на его длину и соединение полости между внутренней и наружной трубами с камерой загрузки-выгрузки позвол ет подавать реагент непосред:СТ (венно подложкс1ми, а соединение одной из трубок с внутренней трубой позвол ет подавать газ-разбавитель вдоль подложек, в результате происходит лучшее перемешивание реагентов, устран ютс застойные зоны, исключаетс обеднение потока и осаждение реагентов на пути выдвижени лодочки, происходит распределенна подача реагентов . Все это .приводит к более равномерному осажден-ию слоев, устра- . нению дефектности и тем сг№1ым к повышению качества осаждаемых слоев. Уменьшаетс объем подачи парогазовой смеси через отверсти распределенного газового ввода и возможность осаждени продуктов реакции в отверсти х и их сдувани на поверхность обрабатываемых пластин. Известное устройство позвол ет получить равномерность по пластине i5%, равномерность в партии ±5%, рав310590324
номерность от партии, к партии +5%, , равномерность в партии 3-4% а предлагаемое устройство позвол ет и равномерность от партии к партии ролучить равномерность по пластине 3-4%.