SU1056805A1 - Способ получени пластин лейкосапфира - Google Patents
Способ получени пластин лейкосапфира Download PDFInfo
- Publication number
- SU1056805A1 SU1056805A1 SU823419838A SU3419838A SU1056805A1 SU 1056805 A1 SU1056805 A1 SU 1056805A1 SU 823419838 A SU823419838 A SU 823419838A SU 3419838 A SU3419838 A SU 3419838A SU 1056805 A1 SU1056805 A1 SU 1056805A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- polishing
- plates
- billets
- grinding
- leucosapphire
- Prior art date
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
СПОСОБ ПОШЧЕГОГЯ ПЛАСТИН ЛЕЙКОСАПФИРА , включающий резку ленты лейкосапфира, ориентированной в плоскости (То 12), на квадратные заготовки , шлифовку заготовок до требуемых размеров, вакуумно-термическуго обработку пшифованных гшастин и их полировку , отличаю тем, что, с целью повыше1 11К процента выхода годных хшастиы ггутем снижени уровн остаточиьх напр жений заготовок , перед пиифовкой заготовок провод т отжиг в течеш е 0,5-2 ч при тем-пературе , равной 0,75-0,95 температуры плавлени лейкосапфира. (Л
Description
Изобретение- отнЬситс к области электронной техники сможет быть использовано в производстве подложек дл кремниевых и других псз упроводниковых микросхем.
Известен способ получени лейкосапфира , заключакщийс в том, что объемные кристаллы калибруют (т.е. шлифуют по образующей до требуемого диаметра), разрезаиуг на пластины, а затем подвергают шлифовке и полировке ,; Недостатком известного способа вл ютс большие потери лейкосапфира на опершцси резки. Так, значительные механические усили резани и деформации отрезного диска ввиду чрезвычайно высокой твердости сапфира требуют дл предотвращени раскалывани пластин в процессе резки увеличивать их толщину до 1,0-1,2 мм,
СП хот конечна толщина гшастин должна
ф быть меньше 600 мкм. Кроме того, дл
00 сохранени приемлемой геометрии пласQ тин и достаточной износоустойчивости
ел отрезного диска толщина основы и режущей кромки диска увеличены в 1,52 раза по сравнению с аналогичным инструментом дл кремни , Все это ведет к дополнительным потер м лейкосапфира .
Известен способ получени пластин лейкосапфира, вдшючающнй р зрезание ленты лейкосапфира на квадр.атные заготовки ,, шлифовю/ заготовок до требуемых размеров и полировку. Недостатком известного способа вл етс низкий процент выхода годных на операци х шлифовки (брак от растрескивани пластин) и полировки (брак по царапинам и рискам) . Брак при шлифовании пластин объ сн етс по пери ферии калиброванных пластин густой -т сетки трепцсн. Брак после полировани вызван наличием в приповерхностном нарушенном слое пластин janMasHbtx зе рен, внедренных при шлифовании. В про цессе полировки эти зерна, значитепьно превосход щие по своим размерам полированную фракцию царапают обра ,батываемую поверхность. Наиболее близким по технической сущности и достигаемому результату вл етс способ получени пластин лейкосапфира, включающий резку ленты лейкосапфира, ориентированной в Ш1ос :кости (Г012), на квадратные заготовки , шлифовку заготовок до требуемых размеров, вакуумно-терьмческую обра .ботку шлифованных ппастин и их полировку . Термообработка тхроводитс в вакууме (10-1СГ) мл.рт.ст. при температуре (i500-1800)C в течение 1-2 ч и способствует уменыиению царапин и рнсок на поверхности полированных .пластин, В этом способе по сравнению с объемными кристаллами снижена на норма расход§ лейкосапфира на отрезаемую тшастину. Кроме того, дп разрезани лент лейкосапфира, при равном объеме выпуска пластин с объем ными монокристаллами, требуетс в 20-25 раз меньше отрезшлх станков и в 30-40 раз меньше алмазных отрезных дийков. Однако, как показывает практи ка гфоыьшленного использовани способа-прототипа , его недостатком вл етс низкий выход годных (не более 70% на операции шлифовки. Целью изобретени вл етс повышение процента выхода годных пластин пу тем снижени уровн остаточных напр жений заготовок. Поставленна цель достигаетс тем что в способе получени пластин лейкосапфира , включающем резку ленты лей косапфир а, ориентированной в плоскости (То 12) на квадратные заготовки, калибройку заготовок до требуемого диаметра , шлифовку, вакуумно-термическую об работку шлифованных пластин и их полировку , перед калибровкой зах-отовок провод т отжиг в течение 0,5-2 ч при температуре, равной 0,75-0,95 Tj. лейкосапфира.i Сущность изобретени заключаетс в следукщем. Ленты лейкосапфира, выращенные методом Степанова, отличаютс повышенной .плотностью дислокахщй и высоким уровнем остаточных напр жений. По сравнению с наиболее качественными объемными кристаллами, получаеь11ами методом Киропулоса, в лейкосапфировых лентах плотность дислокаций превышена на 1,5-2 пор дка, а величина остаточных напр жений - в 20-30 раз. Известно, что процессы зфупкого разрушени и развити треЩинв монокристаллах протекают тем интенсивнее, чем вьпие плотность дефектов и уровень остаточМйх напр жений. Как показали исследовани , Щ1и шлифовке кристаллографической плоскости (То 12) трещины в монокристаллах сапфира с уровнем остаточных напр жений 200 кг/см в два раза длиннее, чем в монокристаллах с уровнем напр жений 10 кг/см, Вы вилось что Г1ри калибровке квадратных заготовок, нарезанных из лент лейкосапфира , ориентированных по плоскости (IOI2), происходит интенсивное развитие трещин от кра вглубь пластин. Этот процесс усиливаетс еще и тем, что в пластинах ориентации () к их образующим выход т под углом 90 плоскости спайности (oTl2) и (1120), Можно предположить, :что при калибровке пластин из ленты на их периферии образуетс сеть трещин, понижак дих величину напр жени хрупкого разрушени . Дальнейшее развитие достаточно глубоких трещин при шлифовании пластин дриводит к их растрескиванию. Действительно, в процессе шлифовани развитие трещин, привод щее к растрескиванию , начинаетс с того кра пла1стины , положение которого кристаллографически св зано с взаимным расположением плоскостей спайности, t; ., процессы хрупкого разрушени и развити трепщн при калибровке квадратных заготовок можно ослабить и устранить путем существенного уменьшени уровн остаточных напр жений, снижени плотности дислокаций. Цель достигаетс отжигом квадратных заготовок при температурах, близких к точке плавлени лейкосапфира (Т,,),
за счет протекани пластической деформации .
Верхний предел 0,95 „, (1933 с) в данном интервале температур отжига ограничиваетс по вл ющейс опасностью подппавлени заготовок лейкосапфира за счет возможных скачков температуры . Нижний предел ограничен ско-. ростью протекани пластической деформации . При температуре ниже О, 75 () дл сн ти напр жений требуетс увеличивать врем отжига до 10 и более часов. Нижний предел времени отжига обусловлен необходимостью достаточно полного сн ти остаточных напр женийI а верхний определен практически , и при любых услови х отжига, в рекомендуемых пределах, обеспечивает достижение дели.
Пример. Исходные ленты лейкосап ра , ориентированные в плоскости (Т012), разрезают на квадратные заготовки алмазными дисками с внешней режущей кромкой. Заготовки отжигают в вакууме 4« .рт.ст. при Т , что составл ет 0,83 Т,, в течение I ч. Подъем температуры iipoизвод т со скоростью 20 С/ми , сброс со скоростью 15 с/мин. Затем квадратные заготовки калибруют на круглошлифовальном станке алмазным даском на металлической св зке до диаметра 60 мм. Следукщий процесс шлифовани осуществл етс на ппоскошлифовальномстанке СШ алмазном диском зернистостью алмаза 100/80 на органической
св зке. Шлифованные пластины отжигают при Т в течение 1 ч в вакууме рт.ст. Полирование |, осуществл ют в два этапа: грубое по- I лирование алмазной пастой 10/7 и су- , пер иншиное полирование коллоидальной окисью кремни .
Выход годных на операции шлифовки
составил 98% по сравнению с 42-68Z в способе-прототипе (парти пластин - : 120 шт. D 60 мм).
Пример 2. Исходные ленты лейкосапфира , ориентированные в nnocKOCTtji
(Т012), разрезают на квадратные заготовки , которые отжигают затем при (0,94 Тпд) в течение 0,3 ч. Подъем температуры до осуществл етс в вакууме не хуже
рт.ст. со скоростью 25 С/мин, при достижении температуры производ т напуск инертного газа Не до давлени 460 мм рт.ст. Дальнейший подьем температуры осуществл ют с такой же ско-
ростью -25 С/мин. Скорость сброса температуры -20с/мин. Затем заготовки калибруют до диаметра 76 мм, шлифуют , подвергают вакуумнотермической обработке (режимы которой приведеш
в примере I), полируют.
Выход годных на операции шлифовки составил 99% по сравнению с 4268% в способе-прототипе (партьш пластин - 100 шт, О 76 мм).
Использование предлагаемого способа увеличило выход годных на 30%.
Claims (1)
- СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛАСТИН ЛЕЙКОСАПФИРА. включающий резку ленты лейкосапфира, ориентированной в плоскости (1012), на квадратные заготовки, шлифовку заготовок до требуемых размеров, вакуумно-термическую обработку шлифованных пластин и их полировку, отличающийся тем, что, с целью повышения процента выхода годных пластин путем снижения уровня остаточных напряжений заготовок, перед шлифовкой заготовок проводят отжи1’ в течение 0,5-2 ч при тем-пературе, равной 0, 75-0,95 температуры плавления лейкосапфира.Изобретение· относится к области электронной техники поможет быть использовано в производстве подложек для кремниевых и других полупроводниковых микросхем,
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU823419838A SU1056805A1 (ru) | 1982-04-09 | 1982-04-09 | Способ получени пластин лейкосапфира |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU823419838A SU1056805A1 (ru) | 1982-04-09 | 1982-04-09 | Способ получени пластин лейкосапфира |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1056805A1 true SU1056805A1 (ru) | 1991-02-07 |
Family
ID=21005495
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU823419838A SU1056805A1 (ru) | 1982-04-09 | 1982-04-09 | Способ получени пластин лейкосапфира |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1056805A1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2561511C1 (ru) * | 2014-10-15 | 2015-08-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт Научно-производственное объединение "ЛУЧ" (ФГУП "НИИ НПО "ЛУЧ") | Способ изготовления монокристаллических цилиндрических шайб из тугоплавких соединений |
-
1982
- 1982-04-09 SU SU823419838A patent/SU1056805A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Maurltz J. Problems and Solutions in the preparation of sos wafers. Solid State Technology, 1978, № 4, p. 81. Cullen G. The preparation and properties of Heteroepi ta,xi a1 Silicon. .Heteroepi taxial . Semiconductors fqrj Electronic Devices, 978, pp.)6-1б5 Технологический процесс ETO.035.575, предпри ти -за вител , Москва, К-г482 (прототип). * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2561511C1 (ru) * | 2014-10-15 | 2015-08-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт Научно-производственное объединение "ЛУЧ" (ФГУП "НИИ НПО "ЛУЧ") | Способ изготовления монокристаллических цилиндрических шайб из тугоплавких соединений |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5014737B2 (ja) | SiC単結晶基板の製造方法 | |
CN110468446B (zh) | 倒角的碳化硅衬底以及倒角的方法 | |
KR101439380B1 (ko) | 사파이어 단결정 열처리 방법 및 장치 | |
CN112513348B (zh) | SiC晶片和SiC晶片的制造方法 | |
CN102817083A (zh) | SiC晶片的退火方法 | |
US11652010B2 (en) | Semiconductor substrate crack mitigation systems and related methods | |
JP4054243B2 (ja) | 炭化珪素単結晶ウェハの製造方法、および炭化珪素単結晶ウェハ | |
JP2024038313A (ja) | SiCウエハの製造方法 | |
SU1056805A1 (ru) | Способ получени пластин лейкосапфира | |
JP2015225902A (ja) | サファイア基板、サファイア基板の製造方法 | |
US20120298092A1 (en) | Method for producing gemstones from silicon carbide | |
WO2018216657A1 (ja) | SiCウエハの製造方法、エピタキシャルウエハの製造方法、及びエピタキシャルウエハ | |
US7361219B2 (en) | Method for producing silicon wafer and silicon wafer | |
JP2005255463A (ja) | サファイア基板とその製造方法 | |
JP2014213403A (ja) | 基板の反りの低減方法、基板の製造方法、サファイア基板 | |
JP4655861B2 (ja) | 電子デバイス用基板の製造方法 | |
CN114078690A (zh) | 碳化硅晶片及其制备方法 | |
JP2016007690A (ja) | サファイア基板の製造方法 | |
JP2002226298A (ja) | 単結晶ウエハ及びそれを用いた弾性表面波装置 | |
TWI773368B (zh) | 晶圓治具結構及引起高溫潛變變形的處理設備 | |
KR101876837B1 (ko) | 사파이어 웨이퍼 제조장치 | |
JP2023124031A (ja) | 単結晶基板の製造方法 | |
JPH01242499A (ja) | ZnSe単結晶の転位減少法 | |
JP2023534863A (ja) | ひび割れを低減するための半導体半製品および半導体基板における結晶構造配向、ならびにそれを設定する方法 | |
CN117702277A (zh) | 一种修复蓝宝石晶片面型的方法 |