SU1023442A1 - Laser cathod-ray tube thermo-vacuum treatment method - Google Patents

Laser cathod-ray tube thermo-vacuum treatment method Download PDF

Info

Publication number
SU1023442A1
SU1023442A1 SU803227778A SU3227778A SU1023442A1 SU 1023442 A1 SU1023442 A1 SU 1023442A1 SU 803227778 A SU803227778 A SU 803227778A SU 3227778 A SU3227778 A SU 3227778A SU 1023442 A1 SU1023442 A1 SU 1023442A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
laser
tube
ray tube
cathod
heating
Prior art date
Application number
SU803227778A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Геннадий Александрович Меерович
Владимир Николаевич Уласюк
Original Assignee
Предприятие П/Я Г-4937
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я Г-4937 filed Critical Предприятие П/Я Г-4937
Priority to SU803227778A priority Critical patent/SU1023442A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU1023442A1 publication Critical patent/SU1023442A1/en

Links

Landscapes

  • Lasers (AREA)

Description

ЮYU

0000

«"

4ib Ю Изобретение относитс  к элекГронной- технике, в частности к технологи изготовлени  лазерных ;электронно-лучевых трубок. Эти трубки содержат в вакуумированной колбе электронную пушку, систему управлени  электронным пучком и лазерный экран, представл ющий собой тонкую плоскопараллельную пластину из полупроводникового соединени  группы А с широкими гладкими поверхност ми, на которые нанесены отражающие покрыти .одно из которых представл ет собой слой металла, преимущественно серебра, с высоким коэффициентом отражени  света. Известен способ обезгаживани  эле тровакуумных приборов, в том числе электронно-лучевых трубок (ЭЛТ), при их откачке, включающий прогрев трубки при вакууме не хуже до температуры, при которой из материалов оболочки, арматуры и мишени удал ютс  сорбированные на них газы и пары воды. Дл  электровакуумного стекла, из которого в основном изготавливаютс  колбы электроннолучевых трубок, термовакуумна  обработка проводитс  при температуре обезгаживани  f 1 J. Недостаток известного способа применительно к лазерным электроннолучевым трубкам состоит в том, что при такой высокой температуре происходит взаимодействие полупроводникового материала с материалом зеркала (серебром или алюминием) в резуль- тате чего уменьшаетс  коэффициент отражени  зеркала, а полупроводник легируетс  атомами металла зеркала, при этом падает излучательна  эффективность полупроводника, в результате чего снижаютс  КПД и мощность генерации трубки. Известен способ термовакуумной обработки лазерной ЭЛТ, содержащей лазерную мишень в виде пластины из полупроводникового соединени  группы А В с нанесенным на одну сторону пластины слоем металла, преиму щественно серебра, включающий откачку трубки до Па и термо обработку при 150 С в течение 1620 ч Этот способ позвол ет производить обезгаживание стекл нной козпбы ЭЛТ без ухудшени  излучательных свойств лазерной мишени f2}. Однако дл  известного способа характерна недостаточна  эффективность термообработки при обезгаживании, так как температура, при которой она проводитс  () ниже температуры, при которой оканчиваетс  первый пик десорбции паров воды из стекла (155 190°С) и существенно ниже температуры , при которой имеет место второй пик десорбции паров воды из стекла (220t10 c). Вследствие этого процесс обезгаживани  лазерной ЭЛТ по известному способу требует больших затрат времени (20 ч) и не обеспечивает возможности полумени  высокого вакуума в откачиваемой ЭЛТ, что приводит к снижению долговечности и сохран емости ЭЛТ из-за ухудшени  эмиттирующих свойств катода электронной пушкИ. Цель изобретени  - повышение долговечности лазерной электронно-луче вой трубки за счёт более эффективного ее обезгаживани  и увеличени  эффективности лазерной мишени из-за термовакуумной обработки. Указанна  цель достигаетс  тем, что с.о глас но способу термовакуумной обработки лазерной электронно-лучевой трубки, содержащей лазерную мишень в виде пластины из полупроводникового соединени  группы А с нанесением на одну сторону пластины слоем металла, преимущественно серебра , включающему откачку вакуумного объема трубки до давлени , не превышающего 1 10 Па и прогрев, прогрев провод т при температурном диапазоне 155-255 е. Прогрев при такой температуре позвол ет , по сравнению с известным способом более эффективно обезгазить стенки колбы из электровакуумного стекла, в частности, обеспечить высокую степень десорбции паров воды, и благодар  этому в 2-3 раза повысить вакуум е электронно-лучевой трубке , что повышает долговечность и сохран емость электронно-лучевой трубки. Кроме того, прогрев лазерной электронно-лучевой трубки в температурном диапазоне 155-255 С в течении 10-20 ч приводит к повышению эффективности работы мишени лазерной электронно-лучевой трубки в 1,1-1,7 раза. Это обусловлено тем, что прогрев в указанном температурном диапазоне приводит к улучшени1б излучаемых свойств кристалла, так при этом отживаютс  дефекты типа Френкел  (ваканси  на месте атома в решетке и атом в между уз ии решетки), а также происходит очистка кристалла от сверхстехиометрйческйх атомов одного из компонентов .полупроводникового соединени  (преимущественно, металлоида), благо дар  тому, что под воздействием нагрева эти атомы мигрируют из объема кристалла к его поверхности (к грани це кристалла с зеркалом). При этом диэлектрический слой зеркала преп тствует взаимодействию атомов металлоида с серебр ной пленкой зеркала , благодар  чему сохран ютс  высокие : тражательные свойства глухого зеркала, а эффективность работы лазерной мишени после прогрева повышаетс . Прогрев электронно-лучеЁОЙ трубки при более высоких температурах (выше 255°G) привддй т к тсжу, что мигрирующие к поверхности атома металлоида диффундируют через слой диэлек трика и, взаимодейству  с серебр ной пленкой, уменьшают коэффициент отражени  зеркала. Кроме того про .грев при температуре выше при водит к сзбразованию в полупроводниковой пластине собственйых дефектов типа вакансий, что ухудшает излучательные характеристики полупроводника . Поэтому прогрев лазерной электронно-лучевой трубки -при температуре выше указанного диапазона, ухудшает эффективность работы трубки. Пример 1. Лазерна  электрон но-лучева  трубка с мишенью кз сульфоселенида кадми , в которой в качестве диэлектричесЬкого сло  в зеркале используетс  слой SIOjj толщиной 0,055 мкм, откачиваетс  безмасл ными средствами откачки до давлени  5tO мм рт.ст и затем прогреваетс  при 30 5°С.в течение, 10 ч, а затем охлаждаетс  до комнатной, температуры и откачиваетс  до высокого вакуума. По Сравнению с трубкой, прошедший термообработку при 150С, вакуум после отпайки трубки с поста улучшаетс  в 3 раза, а эффективность генерации - в 1,2 раза. Пример 2. Лазерна  электронно-лучева  трубка с мишенью из сульфида кадми J в которой а качестве диэлектрического сло  в глухом зеркале используетс  слой толщиной 0,058 мкм, откачиваетс  безмасленными средствами откачки до давлени  21СР мм рт. ст. и затем про-: греваетс  при в течение 15 ч, а затем охлаждаетс  до комнатной температуры и откачиваетс  до бысокргс вакуума. По сравнению с трубкой, прошедшей термообработку при Т50®С, вакуум после отпайки трубки с поста улучшаетс  в 2 раза, а эффективноеть генерации - в 1,1 раза. По сравнению с известным способом, предлагаемый способ позвбл ет увеличить в 2-3 раза вакуум в приборе, что увеличивает долговечность прибора и его сохран емость, а также уве личить в 1,1-1,8 раза эффективность работы лазерной мишени и прибора в целом, т. е. существенно повысить качество лазерных электррнно-лучёвых трубок. Предлагаемый способ Дает значительный народнохоз йственный эффект. Лазерные электронйо-лу чевые трубки, термообработка которых проведена по. предла гаемому способу , могут найти широкое применение в системах проекционного .отображени  различного рода информации на экранах коллективного пользовани , растровой оптической микроскопии, лазерной дальномерии, осциллографии, локации и тi д.4ib U The invention relates to electronic engineering, in particular, to the technology of manufacturing laser cathode ray tubes. These tubes contain an electron gun in an evacuated flask, an electron beam control system, and a laser screen, which is a thin plane-parallel plate made of a group A semiconductor compound with wide smooth surfaces that are coated with reflective coatings. One of them is a layer of metal, mainly silver, with high light reflectance. A known method of degassing electrovacuum devices, including cathode ray tubes (CRTs), when they are pumped out, includes heating the tube under vacuum to a temperature to which gases and water sorbed on them are removed from the shell materials, fittings and targets. . For electrovac glass, from which tube tubes are mainly manufactured, thermal vacuum processing is carried out at a degassing temperature of f 1 J. A disadvantage of the known method with respect to laser electron tube tubes is that at such a high temperature the semiconductor material interacts with the mirror material (silver or aluminum) as a result of which the reflection coefficient of the mirror is reduced, and the semiconductor is doped with the metal atoms of the mirror, while the The emissivity of the semiconductor is reduced, resulting in a decrease in the efficiency and power generation of the tube. A known method for thermal vacuum treatment of a laser CRT containing a laser target in the form of a plate from a semiconductor compound of group AB with a metal layer deposited on one side of the plate, mainly silver, including pumping the tube to Pa and heat treatment at 150 ° C for 1620 h This method allows It is not possible to degass a glass CRT without deteriorating the radiative properties of a laser target f2}. However, the known method is characterized by insufficient heat treatment efficiency during degassing, since the temperature at which it is conducted () is lower than the temperature at which the first peak of water vapor desorption from glass (155– 190 ° C) ends and is significantly lower than the temperature at which the second peak desorption of water vapor from glass (220t10 c). As a result, the process of degassing a laser CRT by a known method requires a lot of time (20 hours) and does not provide the possibility of a high vacuum half vacuum in the pumped CRT, which leads to a decrease in durability and retention of CRT due to the deterioration of the emitting properties of the electron gun cathode. The purpose of the invention is to increase the durability of a laser electron beam tube due to its more effective outgassing and an increase in the efficiency of the laser target due to thermal vacuum processing. This goal is achieved by the fact that the method of thermal vacuum treatment of a laser cathode ray tube containing a laser target in the form of a plate from a group A semiconductor compound with a metal layer, mainly silver, applied to one side of the plate, including pumping the vacuum volume of the tube to pressure not exceeding 1 10 Pa and warming up, heating is carried out at a temperature range of 155-255 e. Heating at this temperature allows, in comparison with a known method, to more effectively decontaminate the walls The foreheads of electrovac glass, in particular, provide a high degree of desorption of water vapor, and thereby increase the vacuum of the cathode ray tube by a factor of 2-3, which increases the durability and retention of the cathode ray tube. In addition, heating the laser cathode ray tube in the temperature range of 155-255 C for 10–20 h leads to an increase in the efficiency of the target of the laser cathode ray tube by 1.1–1.7 times. This is due to the fact that heating in the specified temperature range leads to an improvement in the emitted properties of the crystal, so that Frenkel-type defects (vacancy at the site of an atom in the lattice and an atom in between the lattice sites) are released, and the crystal is cleaned from superstoichiometric atoms of one of the components of the semiconductor compound (predominantly metalloid), due to the fact that under the influence of heat, these atoms migrate from the bulk of the crystal to its surface (to the boundary of the crystal with a mirror). At the same time, the dielectric layer of the mirror prevents the interaction of the metalloid atoms with the silver film of the mirror, due to which the destructive properties of the deaf mirror remain high, and the efficiency of the laser target after heating increases. Heating an electron-beam tube at higher temperatures (above 255 ° G) means that migrants migrating to the surface of the metalloid atom diffuse through the dielectric layer and, by interacting with the silver film, reduce the reflection coefficient of the mirror. In addition, heating at a higher temperature leads to the formation in the semiconductor plate of its own defects such as vacancies, which impairs the radiative characteristics of the semiconductor. Therefore, heating the laser cathode-ray tube, at a temperature above the specified range, impairs the efficiency of the tube. Example 1. A laser electron tube with a target of cs of cadmium sulfoselenide, in which a 0.055 µm thick layer of SIOjj is used as a dielectric layer in a mirror, is pumped out by means of pumping to a pressure of 5tO mm Hg and then heated at 30-5 ° C for 10 hours and then cooled to room temperature and pumped out to high vacuum. Compared to a tube that has undergone heat treatment at 150 ° C, the vacuum after desoldering the tube from the post is improved by 3 times, and the generation efficiency is 1.2 times. Example 2. A cadmium J sulphide J target laser cathode tube in which a layer with a thickness of 0.058 µm is used as the dielectric layer in a deaf mirror and is pumped out by oil-free pumping means to a pressure of 21 CEP mm Hg. Art. and then it is heated: for 15 hours, and then cooled to room temperature and pumped out under vacuum. Compared to a tube that has undergone heat treatment at T50®С, the vacuum after desoldering the tube from the post is improved by 2 times, and the generation efficiency is 1.1 times. Compared with the known method, the proposed method will increase by 2-3 times the vacuum in the device, which increases the durability of the device and its retention, and also increase the efficiency of the laser target and the device as a whole by 1.1-1.8 times. , i.e., to substantially improve the quality of laser electron beam tubes. The proposed method gives a significant national effect. Laser electron-ray tubes, the heat treatment of which was carried out according to. The proposed method can be widely used in projection imaging systems of various kinds of information on collective use screens, raster optical microscopy, laser ranging, oscillography, location and so on.

Claims (1)

СПОСОБ ТЕРМОВАКУУМНОЙ ОБРАБОТКИ ЛАЗЕРНОЙ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ ТРУБКИ, содержащей лазерную мишень в виде пластины из полупроводникового соединения группы А*' В *’ с нанесенным на одну сторону пластины слоем . металла, преимущественно серебра, л’· в *<METHOD FOR THERMAL VACUUM PROCESSING OF A LASER ELECTRON BEAM TUBE containing a laser target in the form of a plate from a semiconductor compound of group A * 'B * ’with a layer deposited on one side of the plate. metal, mainly silver, l ’· in * < включающий откачку внутреннего объема трубки до давления, не превышающего 1 - КГ5 Па »-';и прогрев, ч а ю щ и й с я тем, что, с целью повышения долговечности трубки, прогрев проводят при температуре 155“ 255°С. * ю ФО фь toincluding pumping of the internal volume of the tube to a pressure not exceeding 1 - KG 5 Pa "- '; and heating, especially since in order to increase the durability of the tube, heating is carried out at a temperature of 155–255 ° С. * u fo ph to
SU803227778A 1980-12-29 1980-12-29 Laser cathod-ray tube thermo-vacuum treatment method SU1023442A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU803227778A SU1023442A1 (en) 1980-12-29 1980-12-29 Laser cathod-ray tube thermo-vacuum treatment method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU803227778A SU1023442A1 (en) 1980-12-29 1980-12-29 Laser cathod-ray tube thermo-vacuum treatment method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1023442A1 true SU1023442A1 (en) 1983-06-15

Family

ID=20935595

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU803227778A SU1023442A1 (en) 1980-12-29 1980-12-29 Laser cathod-ray tube thermo-vacuum treatment method

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1023442A1 (en)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1л Черепни - ttvft. ВаЦУУмйые свойстба матерцалов дл .эпектронных при( М., Советское радио , t9&6 с.;-i2iv/-.. :- -л;.: :.-:..: ;:;;. -.. , 2. NIcoi I F.H xf linentar Pul - , s cds-Laser еИНсйе-г ау tube RCA , Reylem, sept., , p. 379 (пррто -; Т-ип);. , - - . : )57) СПОСОБ ТЕРМОВАКУУШОЙ ОБРАБОТКИ ЛАЗЕРНОЙ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ ТРУБКИ, содержащей лазерную мишень в виде пластины из полупроводникового соединени группы V с нанесенМым на одну сторону пластины слоем мет;алла, лреимущеетвенно серебра, включающий откачку внутреннего объема Tpy6tw до давлени , не Превымаю(чего 1 , и прогрев, о т л и ч а ю щ и И с тем, что, с целью пошсшени долговечности трубки, прогрев П1ровсщ т при температуре 155 255% *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1303119C (en) Method of manufacturing a display device and a display device madeby the method
US4803366A (en) Input screen scintillator for a radiological image intensifier tube and a method of manufacturing such a scintillator
EP0042149B1 (en) Radiation excited phosphor screen and method for manufacturing the same
KR920003717B1 (en) Method for reducing the reflectance of a transparent viewing screen and viewing screen with reduced refledanes
US4465337A (en) Reduced reflectivity member and ion implantation method of fabrication
EP0403802A2 (en) X-ray image intensifier and method of manufacturing input screen
US4195230A (en) Input screen
US7396271B2 (en) Method of making a plasma lamp
EP0322715B1 (en) X-ray image intensifier and method of manufacturing the same
SU1023442A1 (en) Laser cathod-ray tube thermo-vacuum treatment method
US2553289A (en) Method for depositing thin films
EP1160303A2 (en) Preparation of stimulable phosphor sheet
JPS632244A (en) Discharge lamp having covered ceramic emission tube and manufacture thereof
US20040007676A1 (en) Radiation image storage panel
US4940603A (en) Thin film inorganic scintillator and method of making same
US5449535A (en) Light controlled vapor deposition
US6815692B2 (en) Radiation image storage panel
JPS5947428B2 (en) Incandescent light bulb with no heat rays and its manufacturing method
EP0492524B1 (en) Deposition method of anti-doming material of shadow mask
US20040188632A1 (en) Radiation image storage panel
JPH05150100A (en) Radioactive ray image conversion panel
KR20030014086A (en) Multi-layer antistatic/antireflective coating for video display screen with adjustable light transmission
JP2865902B2 (en) Method for manufacturing color cathode ray tube to minimize thermal deformation of shadow mask
Kleinfeld et al. Light‐controlled vapor deposition by light‐induced drift
US6239420B1 (en) Target for laser cathode ray tube and fabrication method thereof