Изобретение относитс к области оптики, прежде всего к фотометрии, и может быть применено дл анализа и синтеза цветных изображений и определени цветовых (спектральных ) характеристик световых полей. Известно устройство ( фотометрический клин-; дл ослаблени световых полей, измен ющее пропускание света в рабочем поле по заданному закону, основанное на пол ризационных свойствах света. Устройство содержит установленные последовательно пол ризатор, анализатор и анизотропные кристаллы, взаимные развороты которых относительно их общей оптической оси привод т к калиброванному изменению светового потока Ij . Недостатком этого устройства в л етс экранирование прошедшего че рез него света при наклоне элементов . Наиболее близким по технической сущности к изобретению вл етс фотометрический клин, содержащий последовательно установленные пол ризатор , кристаллическую пластину из анизотропного материала, зак репленную в оправе,, и анализатор. Кристаллическа пластина имеет переменную толщину рабочей области. При вращении анализатора цвет отде ных областей кристаллической пластины мен етс вследствие выделени только тех пол ризованных лучей, дл которых в каждом KcrHKpeTHONr случае выполн ютс соответствующие услрви дл их фаз и пол ризаций Г Недостатком известного устройст ва вл етс трудоемкость его из чэтовлени вследствие сложности формировани профил кристаллической пластинки, что, в свою очередь, не позвол ет обеспечить метрологические свойства клина. Целью изобретени вл етс упро щение изготовлени и повышение точ ности фотометрического клина. Указанна цель достигаетс тем, что в фотометрическом клине, содер жащем последовательно расположенны пол ризатор, кристаллическую пластину из анизотропного материала, з репленную в оправе, и анализатор, опра снабжена фиксирующими упорами, установленными с возможностью обеспе чени наклона и изгиба кристаллической пластины. Ца чертеже изображен предлагаемый фото.метрический клин. Фотометрический клин включает пол ризатор 1, кристаллическую пластину 2 из анизотропного матери ала, анализатор 3, оправу 4 с упорами 5. Устройство работает следук цим образом. . Пол ризатор 1 выдел ет линейно пол ризованную составл ющую света, котора в кристаллической пластине 2 раздел етс на две ортогональные. Толщина h и дву.преломление кристаллической пластины 2 определ ют поворот вектора пол ризации, в зависимости от длины волны Д, света . Анализатор 3 позвол ет выделить заданную линейную пол ризацию из смешанного пол ризационного состо ни . Наклон кристаллической пластины 2 относительно исходного положени , когда она расположена нормально к оптической оси устройства, приводит к увеличению ее эффективной толщины h +сГЬ, а также к изменению положени оптических осей кристаллической пластины 2 относительно вектора электрического пол падающей на нее световой волны. -В свою очередь это приводит к изменению фазы (5lf между двум ортогональными пол ризованными компонентами так, что: f() (1) Таким образом, выбира заданную толщину h + (fh наклоном кристаллической п/Гастины 2 при tp 0,45° или 90°, можно выделить определенную спектральную составл ющую исходного светового потока с длиной волны Д.. Однако дл получени клиновидного пропускани - по поверхности кристаллической пластины 2 необз одимо плавно измен ть ее толщину в небольших пределах. При этом если поверхность пластины деформировать с ростом деформации н.а изгиб от одного ее кра к другому, хроматизм практически отсутствует. Толщина дл падающего на нее светового потока будет расти с увеличением изгиба , а изменение ф пропорционально изменению fc, и мен етс только пропускание составл ющей светового потока с длиной волны JL по полю деформации кристаллической пластины, но на ее цветовой состав. Экспериментально установлено, что при фиксации пластины в оправе 4, в которой установлены фиксирующие упоры 5 дл линейного изгиба кристаллической пластины 2, с линейным изгибом можно получить в рабочем поле 10-20 мм линейное изменение оптической плотности более Д .1,2 единицы . В качестве кристаллической пластины 2 можно использовать слюд ную пластину, обладающую высоким двупреломлением и позвол ющую ее изгибать до 50-60. Практически ис .следованн показали,что наклон слюд ной пластины позвол ет проводить
310138284.
плавную перестройку фотометрическо-0,06 единиц оптической плотности
го клина на заданную длину волны во(мм, что недостижимо другими пут ми, всём оптическом диапазоне, а дефор- Таким образом, изобретение позмаци пластины на изгиб - плавно иэ-волйет упростить изготовление и повымен ть посто нную клина от 0,003 досить точность фотометрического клина.