SU1013419A1 - Способ очистки прозрачных материалов,преимущественно стекломассы - Google Patents

Способ очистки прозрачных материалов,преимущественно стекломассы Download PDF

Info

Publication number
SU1013419A1
SU1013419A1 SU803251221A SU3251221A SU1013419A1 SU 1013419 A1 SU1013419 A1 SU 1013419A1 SU 803251221 A SU803251221 A SU 803251221A SU 3251221 A SU3251221 A SU 3251221A SU 1013419 A1 SU1013419 A1 SU 1013419A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
inhomogeneities
transparent materials
glass
laser
radiation
Prior art date
Application number
SU803251221A
Other languages
English (en)
Inventor
Юрий Владимирович Гаврищенко
Original Assignee
Кемеровский государственный университет
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Кемеровский государственный университет filed Critical Кемеровский государственный университет
Priority to SU803251221A priority Critical patent/SU1013419A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1013419A1 publication Critical patent/SU1013419A1/ru

Links

Abstract

СПОСОБ ОЧИСТКИ ПРШРАЗДШС , ШЖИШГЩБеТЮШЮ СШСЛОМACCfii , оугвм уда ешш иеодйор8 нос1 й, о т л   ч а ю щ и с   тем, что, с це мо аоаыт тЛ К9Я№ПЯ изж м за tun yofneaiai 11 ;юэрйшых микронео нсфОДИОстеА, перед : выработкой на рвопш возпействуют гиаертал нэпучеюйм н сАйвстью мовоюстй Вт/см..

Description

S « 1 Изобретение относитс  к промьшшенности строительства и стройматериалов, к стекольному производству, в частности к производству элементов силовой оптики, активных твердотельных рабочих тел лазеров, к области получени  полупроводниковых материалов и твердых неорганических веществ, а именно к производству высококачественногооптического стекла и кварца. Известен способ очистки оптического стекла в расплаве путем удалени  неоднородностей . Способ заключаетс  в пропускании пузырьков газов (двуокись углерода, кислород , азот и вод ные пары), которые прогон ютс  через стекломассу последовательно 1 Недостатком известного способа  вл етс  то, что он не позвол ет производить очистку от объемных поглощающих включений с размерами 10 -5-10 см. К таким микронеоднородност м относ тс  сажные частицы, кластерные и кристаллические металлические образовани  и р д других. Одним из основных недостатков оптических Прозрачных материалов  вл етс  их способность разрушатьс  при действии лазерного излучени  большой мощности в результате теплового взрыва поглощающих неоднородностей . Взрыв поглощающих неоднородностей очень малого размера; (до 10 см) может обеспечить образование макроразрущений с размерами см. Цель изобретени  - повьпуение качества издели  за счет удалени  непрозрачных микронеоднородностей и, как следствие, увеличение их прозрачности и оптической прочности в экстремальных услови х. Поставленна  цель достигаетс  тем, что согласно способу очистки прозрачных материалов , преимущественно стекломассы, путем удалени  неоднородностей. перед выработкой на расплав воздействуют лазерным излу ением плотностью мощности 10-10 Вт/см Действие лазерного излучени  приводит к взрыву, поглощающих неоднородностей и их уничтожению, а полученные после охлаждени  стекло и кварц или выкристаллизованное из раствора вещество не будут иметь поглощающих неоднородностей. Поскольку температура- испарени  больщинства веществ, составл ющих поглощающие неоднородности, значительно ниже .С, то плотность мощности излучени  рубинового лазера Ю Вт/см разрущает неоднородности с размером 5 10 см и меньще. Способ реализуетс  следующим образом. В печь с расплавленным стеклом или на свободную поверхность перед отбором стекла подаетс  лазерный импульс от рубинового генератора с плотностью мощ19 ности не менее 1 О ° Вт/см, в результате действи  которого происходит взрыв и уничтожение поглощающих неоднородностей. Последующий отбор стекл нной массы осуществл етс  обычными приемами. Поскольку предлагаемый способ очистки может быть применен к различным прозрачным материалам и средам, в качестве пд меров рассмотрим способы очистки воды и стекла типа К-8. Пример 1. Металлическа  кювета с водой, содержаща  поглощающие включени , подсвечиваетс  сверху на свободную поверхность лазерными импульсами ультрафиолетового излучени  (лазер ЛГИ-21) (длина вол ны излучени  337,1 нм, длительность импульса 8 10 с, энерги  импульса излучени  Дж) дл  контрол  наличи  поглощающих включений. Контроль осуществл етс  визуально с помощью люминесцентного микроскопа (метод лазерной ультрамикроскопии ) . После измерени  указанным методом концентрации поглощающих .включений на свободную поверхность воды подаетс  гигантский импульс излучени  рубинового лазера (длина волны излучени  693,4 нм, длительность импульса 3-4 -10 с, мощность излучени  10 Вт/см). После воздействи  гигантского импульса повторно измер етс  их концентраци . Выполненные эксперименты позволили установить , что после обработки среды указанным способом микронеоднородности методом лазерной ультрамикроскопии не обнаруживаютс . Пример 2. Стру  расплавленного стекла в процессе разлива в формы облучаетс  гигантским импульсом излучени  рубинового или неодимового лазера с характеристиками импульса (по примеру 1). В св зи с высокой интенсивностью свечени  стекла в состо нии расплаве контроль наличи  .поглощающих неоднородностей можно произвести ,только в готовых элементах оптики. Конкретные режимы способа очистки определ ютс  свойствами материалов и поглощающих неоднородиостей. Прежде всего рассмотрим характеристики излучени  лазеров, которые можно использовать дл  очистки материалов. В основу способа положено существенное различие коэффициентов поглощени  материалов и поглощающих неоднородностей ( см и 10 соответственно)J это условие определ етс  в определенных спектральных област х. Так, дл  стекла типа К-8 коэффициент поглощени  имеет малые величины только в видимой и ближней ИК-обпаст х,
а вода в ближней УФ и видамой области. По этой причине излучение рубинового лазера { Л 693 им) может , быть использовано дл  очистки воды и стекла, а излучение иеодимового лазера (Л 1060 им) только дл  стекла, так как вода в бпижней ИК области имеет большой коэффшшен поглощени .. .
Необходимо отметить, что.при выборе режимов более целесообразно использовать коротковолновое излучение, так как увеличение длины волны может привести к сиижению поглощейи  энергии частицей вследствие фактора Ми.1
Если пренебречь теппоотводом от частиц, а дл  импульсов длитепьностыо с зто вполне допустимо, то температура частшщ после воздействи  лазерного импульса будет составл ть
SM
,-t,
+ 2температу1 а частицы после воз действи  импульса;
I--начальна  температ)фа Частицы; плотность энергии лазерного импульса;
S - площадь частицы;
М - фактор Ми (дл  нашего случа 
М - не менее 10); С - теплоемкость вещества цеодаородности; р - плотность вещества иеодкар10Д
иости.
В зависимости от терюустойчивости вещества иеоднородиостей температура их разрушени  лежит в области от 2 до 5 тыс. градусов (наиболее устЬй швы1«|  ш ютс  сажные частицы, т.е. углерод).
Использование изобретени  позволит существенно повысить качество элементов силовой оптики, снизить расход материалов в оптических системах, повысить выходную : мощность опткческих квантовых гшервл в за увеличени  про шости стекол   кристаллов при экстремальных воздействи х.

Claims (1)

  1. СПОСОБ ОЧИСТКИ ПРОЗРАЧНЫХ МАТЕРИАЛОВ, ПРЕИМУЩЕСТВЕННО СТЕКЛОМАССЫ, цутем удаления неоднородностей, о т л и я а ю щ и й с я тем, что, с целью повышения качества изделия за счет удаления непрозрачных микронеоднородностей, перед выработкой на расплав воздействуют лазерным излучением плотностью мощности 1(Р-> 10“ >
SU803251221A 1980-12-10 1980-12-10 Способ очистки прозрачных материалов,преимущественно стекломассы SU1013419A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU803251221A SU1013419A1 (ru) 1980-12-10 1980-12-10 Способ очистки прозрачных материалов,преимущественно стекломассы

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU803251221A SU1013419A1 (ru) 1980-12-10 1980-12-10 Способ очистки прозрачных материалов,преимущественно стекломассы

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1013419A1 true SU1013419A1 (ru) 1983-04-23

Family

ID=20944203

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU803251221A SU1013419A1 (ru) 1980-12-10 1980-12-10 Способ очистки прозрачных материалов,преимущественно стекломассы

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1013419A1 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1. Патент US Vf 2331052, ки. 65-134. 1964. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Guizard et al. Time-resolved study of laser-induced colour centres in
Kondo et al. Three-dimensional microscopic crystallization in photosensitive glass by femtosecond laser pulses at nonresonant wavelength
Ohtsuka et al. Nonlinear optical property of CdTe microcrystallites doped glasses fabricated by laser evaporation method
Ganeev et al. Laser ablation of GaAs in liquids: structural, optical, and nonlinear optical characteristics of colloidal solutions
Sugioka et al. Multiwavelength excitation by vacuum‐ultraviolet beams coupled with fourth harmonics of a Q‐switched Nd: YAG laser for high‐quality ablation of fused quartz
Ganeev et al. Nonlinear optical properties of CdS and ZnS nanoparticles doped into zirconium oxide films
Sugioka et al. Multiwavelength irradiation effect in fused quartz ablation using vacuum-ultraviolet Raman laser
SU1013419A1 (ru) Способ очистки прозрачных материалов,преимущественно стекломассы
Clementi et al. Cubic optical nonlinearity in nanostructured SnO 2: SiO 2
Ganeev et al. Nonlinear refraction and nonlinear absorption of As 2 S 3 aqueous solution
Mouchovski et al. Growth of ultra-violet grade CaF2 crystals and their application for excimer laser optics
Si et al. Optically encoded second-harmonic generation in germanosilicate glass via a band-to-band excitation
JP4107905B2 (ja) Yagレーザー高調波用合成石英ガラス光学材料
Morimoto et al. Water-associated surface degradation of CsLiB6O10 crystal during harmonic generation in the ultraviolet region
JPS6059177B2 (ja) 無水石英ガラスの製造方法
Ligare et al. Infrared spectroscopy of a dense potassium vapor jet
Jitsuno et al. Laser ablation process of quartz material using F2 laser
Sugawara et al. Surface damage and radiation resistance of lithium tetraborate single crystals
Panahibakhsh et al. Nanostructure formation on the surface of YAG: Nd crystal by ARF laser irradiation
Walser et al. Nonlinear optical absorption and refraction in optical crystals at 355 nm
JP4391163B2 (ja) Yagレーザー高調波用合成石英ガラス光学材料
Zhao et al. Preparation of colloidal Au by a femtosecond laser
Issac et al. Photoacoustic signal saturation and optical limiting in C70-toluene solution
Ehrt et al. Charge transfer transitions and radiation effects in glasses in the deep-UV range
Jiang et al. Laser-controlled precipitation of gold nanoparticles in silicate glasses