SU1004485A1 - Method for making thin-film resistors on flexible support - Google Patents

Method for making thin-film resistors on flexible support Download PDF

Info

Publication number
SU1004485A1
SU1004485A1 SU813294604A SU3294604A SU1004485A1 SU 1004485 A1 SU1004485 A1 SU 1004485A1 SU 813294604 A SU813294604 A SU 813294604A SU 3294604 A SU3294604 A SU 3294604A SU 1004485 A1 SU1004485 A1 SU 1004485A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
elements
resistive
film resistors
formation
conductive elements
Prior art date
Application number
SU813294604A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Геннадий Андреевич Блинов
Юрий Никитович Меркушев
Михаил Иванович Чурилов
Original Assignee
Предприятие П/Я А-3791
Предприятие П/Я В-8466
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я А-3791, Предприятие П/Я В-8466 filed Critical Предприятие П/Я А-3791
Priority to SU813294604A priority Critical patent/SU1004485A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU1004485A1 publication Critical patent/SU1004485A1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)

Description

(54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ РЕЗИСТОРОВ НА ГИБКОЙ ПОДЛОЖКЕ(54) METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM RESISTORS ON A FLEXIBLE SUBSTRATE

Изобретение относитс  к микроэлектронике и может быть использовано в производстве радиоэлектронной аппаратуры при изготовлении микросхем частного применени , дискретных тонкопленочных резисторов на гибкой подложке из полиимидной пленки..The invention relates to microelectronics and can be used in the manufacture of electronic equipment in the manufacture of private circuits, discrete thin-film resistors on a flexible substrate made of polyimide film ..

Известен способ изготовлени  тонкопленочных резисторов на пластмассовой пленке из полиимида или фторопласта , при котором пленка покрываетс  с обеих сторон сло ми нихрома толщиной 0,002 мкм, а затем слоем меди толщиной до 20 мкм. Нанесение покрытий осуществл етс  электронным лучом, а травлением создаютс  резистивные элементы и соединени  между ними. Значени  поверхностного сопроIтивлени  лежат в пределах 20-300 Ом на квадрат (Ом/п) C IЭтот способ не позвол ет получать высокоомные резисторы.A known method of manufacturing thin film resistors on a plastic film of polyimide or fluoroplastic, in which the film is covered on both sides with a layer of nichrome 0.002 µm thick, and then a layer of copper up to 20 µm thick. The coating is carried out with an electron beam, and the resistive elements and the connections between them are created by etching. The surface resistance values are in the range of 20-300 ohms per square (ohm / n). CI This method does not allow to obtain high-resistance resistors.

Из известных технических решений наиболее близким к изобретению по технической сущности  вл етс  способ изготовлени  тонкопленочных резисторов на гибкой подложке, в,ключак ций формирование резйстивных элементов, реперных знаков и провод щих элементов r2LOf the known technical solutions, the closest to the invention in its technical essence is a method of manufacturing thin-film resistors on a flexible substrate, in particular, the formation of resistive elements, reference marks and conducting elements r2L

Недостаток этого способа - большой разброс номиналов резисторов.The disadvantage of this method is a large variation of resistor values.

Цель изобретени  - уменыиение разброса номиналов резисторов.The purpose of the invention is to reduce the spread of resistors.

Поставленна  цель достигаетс  тем, что в способе изготовлени  тонкопленочных резисторов на гибкой подложке , включающем формирование резистинных элементов,, реперных знаков и This goal is achieved by the fact that in the method of manufacturing thin film resistors on a flexible substrate, including the formation of resistin elements, reference marks and

10 провод щих элементов, формирование резйстивных элементов и реперных знаков осуществл ют локальным осаждением резистивного материала на подложку, после чего маскируют ре15 перные знаки, а провод щие элементы формируют .методом фотолитографии, причем локальное осаждение резистивного материала на подложку осуществл ют через свободную маску.10 of the conductive elements, the formation of the resistive elements and reference marks is carried out by local deposition of the resistive material on the substrate, after which they are masked by recurring signs, and the conductive elements are formed by the photolithography method, the local deposition of the resistive material on the substrate is carried out through a free mask.

2020

Пример. Через свободную маску на полиимидную подложку нанос т методом вакуумного испарени  резистив ные элементы и реперные знаки. Маска в данном случае, кроме своей ос25 новной функции, играет роль теплового экрана, предохран ющего подложку от перегрева при нанесении.тугоплавких материалов. Затем маскируют реперные знаки и нанос т слошной про30 вод щий слой.Example. Through a free mask, resistive elements and reference signs are applied by vacuum evaporation onto a polyimide substrate. In this case, the mask, besides its main function, plays the role of a heat shield, which prevents the substrate from overheating when applying heat-melting materials. Then the reference marks are masked and a layer of the conducting layer is applied.

nocjje чего методом фотолитографии с использованием селективных травителей , формируют контактные площадки , соединенные между соевой перекичками дл  обрс139вани ; электрической цепи, защищают реэистивные элементы диэлектрической пленкой, производ т гальваническое оса адение металлов, повышающих проводимость и па емость контактных площадок при сборке ГИС и раздел ют гибкуюподпожку на отдельные элементы.nocjje, using the photolithography method using selective etchants, form contact pads connected between soybean perekidik for education; the electrical circuit, protect the resistive elements with a dielectric film, produce galvanic deposition of metals, which increase the conductivity and capacity of the contact pads during the assembly of the GIS and divide the flexible support into separate elements.

Claims (2)

; Способ изготовлени  тонкопленочных резисторов повышает процент выхода годных изделий на гибкой подпожке за счет: снижени  теплового воздействи  на материал гибкой поДложки при алсокотемпературном процессе нанесени  разнстивных элементов, выполнени  контактных площадок и проводников методом фотолитографии, обеспечивающим повышение точности изготовлени  и совмещени  провод щих Элементов с резистивньвда. элементами. j Формула изобретени ; The method of manufacturing thin-film resistors increases the percentage of yield of products on flexible priming due to: reducing the thermal effect on the material of the flexible substrate during the alco-temperature process of applying differential elements, making contact pads and conductors using photolithography, which provides an increase in the accuracy of manufacturing and combining the conductive Elements with resistive elements. elements. j claims 1, Способ изготовлени  тонкопленочныхРезисторов на гибкой подложке1, Method for manufacturing thin-film resistors on a flexible substrate Ъключащий формирование резистивных элементов, реперных знаковой провод щих элементов, отличающийс   тем, что, с целью уменьшени  разброса номиналов резисторов, формирование резистивных элементов и реперных знаков осуществл ют локальным осаждением резистивного материала на ПОДЛОЖКУ, после чего маскируют реперные знаки, а провод щие элементы формируют методом фотолитографии.Including the formation of resistive elements, the reference sign of conductive elements, characterized in that, in order to reduce the variation of resistor values, the formation of resistive elements and reference signs is carried out by localizing the resistive material on the BEDS, after which they mask the reference signs, and the conductive elements are formed by photolithography. 2..Способ по п. 1, отличающийс  тем, что локальное осаж. дение резистивного материала на i подложку осуществл ют через свободную маску.2. The method according to claim 1, wherein the local siege. Resistive material is applied to the i substrate through a free mask. Источники инфомарции, прин тые во внимание при экспертизеSources of information taken into account in the examination 1.Электроника. М., Мир, т.5.1, № 15(541), 1978.1.Electronics. M., Mir, v.5.1, No. 15 (541), 1978. 2.Ермолаев Ю.П. и др. Конструкци  и технологи  микросхем (ГИС и ВГИС). М., Советское радио, 1980, с. 34-38 (прототип).2. Ermolaev Yu.P. and others. Structures and technologists of microcircuits (GIS and VGIS). M., Soviet Radio, 1980, p. 34-38 (prototype).
SU813294604A 1981-05-19 1981-05-19 Method for making thin-film resistors on flexible support SU1004485A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU813294604A SU1004485A1 (en) 1981-05-19 1981-05-19 Method for making thin-film resistors on flexible support

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU813294604A SU1004485A1 (en) 1981-05-19 1981-05-19 Method for making thin-film resistors on flexible support

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1004485A1 true SU1004485A1 (en) 1983-03-15

Family

ID=20960485

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU813294604A SU1004485A1 (en) 1981-05-19 1981-05-19 Method for making thin-film resistors on flexible support

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1004485A1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3973106A (en) Thin film thermal print head
US3061911A (en) Method of making printed circuits
CA2028043C (en) Chip form of surface mounted electrical resistance and its manufacturing method
US4300115A (en) Multilayer via resistors
US3525617A (en) Method of making electrical circuit structure for electrical connections between components
US3423260A (en) Method of making a thin film circuit having a resistor-conductor pattern
GB953058A (en) Semiconductor device and method of making same
US3296574A (en) Film resistors with multilayer terminals
JP2003152383A (en) Wiring circuit board
GB1285525A (en) Masking techniques for use in fabricating microelectronic components and articles produced thereby
US3654580A (en) Resistor structure
US3808680A (en) Continuous processing for substrate manufacture
US3556366A (en) Methods of severing materials employing a thermal shock
US4191938A (en) Cermet resistor trimming method
SU1004485A1 (en) Method for making thin-film resistors on flexible support
US3368116A (en) Thin film circuitry with improved capacitor structure
US5291175A (en) Limiting heat flow in planar, high-density power resistors
US3360688A (en) Thin film resistor composed of chromium and vanadium
US3783056A (en) Technique for the fabrication of an air isolated crossover
US3434940A (en) Process for making thin-film temperature sensors
JP2579458B2 (en) Anisotropic conductive film and method for producing the same
US3447038A (en) Method and apparatus for interconnecting microelectronic circuit wafers
US4506193A (en) Thin film electroluminescent display
US4946709A (en) Method for fabricating hybrid integrated circuit
GB1102832A (en) Improvements in or relating to the manufacture of thin film modules