SE526746C2 - Implantat applicerbart i tandben med tillhörande mjukvävnad - Google Patents

Description

20 25 30 I enlighet med uppfinningen är det mot tandbenets överkant motställbara partiet åtminstone utefter väsentliga delar av sin perifera sträckning försett med spår eller fördjupningar anordnat eller anordnade att stimulera benledning och beninväxt och medelst beninväxten bilda barriär mot väsentlig eller synlig nedsjunkning kring partiet och detta underliggande delar av implantatet av mjukvävnaden och tandbenet. Det som huvudsakligen kan vara kännetecknande för det nya implantatet är att respektive spår eller fördjupning uppvisar ett djup av 50-100 um, företrädesvis ca 70 um, och en bredd inom omrâdet 70-160 um, företrädesvis ca 110 um.

I en utföringsform kan partiet innefatta mer än ett spår eller fördjupningar som sträcker sig utefier väsentliga delar av, företrädesvis hela, Omkretsen. Ett eller flera av nämnda spår eller fördjupningar kan bestå av ett bågformat eller svängt spår eller fördjupningsuppsättning som följer ett motsvarande bågforrnat eller svängt käkben. I en föredragen utföringsform uppvisar spåret eller fördjupningen ett tvärsnitt med den väsentliga formen av en halvcirkel, halvoval, hyperbol, etc. Nämnda rnotverkan eller förhindrande av nedsjunkningen medför att förbättrad anliggning och kvarhållning av mjukvävnaden mot även nämnda övre delar föreligger. I en föredragen utföringsforrn är partiet anordnat med ett runt om ytterytan sig stråckande spår som är beläget vid partiets övre/yttre delar, vilket spår därvid sträcker sig väsentligen utefter ett tvärsnitt anordnat väsentligen vinkelrätt mot irnplantatets längdaxel. Ytterligare vidareutvecklingar av uppfinningstanken framgår av de efterföljande underkraven.

Genom det i ovanstående föreslagna kan en effektiv barriär åstadkommas medelst beninväxt i spåret eller fördjupningarna. Nedsjunlming av ben och rnjukvävnad undvikes effektivt på så sätt. Exponeringen av irnplantatsdelar som ligger nedanför aktuellt parti av implantatet och/eller implantatsanslutningsdel undvikes effektivt, vilket ger framträdande fördelar av rent estetiska skäl. Dessutom förhindras nedledning av bakterier eller organismer av inflarnmationsbenägen karaktär. Spåren och/eller fördjupningama. kan åstadkommasmed svarvning, fräsning, gravering, etsning, blästring, laserbearbetning, etc.

En för närvarande föreslagen utföringsform av ett implantat enligt uppfinningen skall beskrivas i nedanstående under samtidig hänvisning till bifogade ritningar där 10 15 20 II IQ IQ 0 0 I 0 0 b I 0 O I I I O I to Olin I CI OIOI OO 'QIO OI I O OO 526 746 figur l i vertikalsnitt visar delar av ett förut känt implantat applicerat i en hålupptag- ning i ben i form av käkben samt mjukvävnad, i vertikalsnitt visar delar av det nya implantatet, figur 2 i vertikalsnitt visar ett andra utförande av det nya implantatet applicerat i ett käkben, figur 3 i vertikalsnitt visar en förstoring av spåruppbyggnad vid ett delvis visat implantat och käkben, och figur4 i ytterligare ßrstoring i förhållande till figuren 4 visar uppbyggnaden av ett spår eller en fördjupning som utnyttjas i anslutning till implantaten enligt figu- figur 5 rerna 2 och 3.

I figuren l visas generellt med 1 delar av ett käkben 2 och en detta överliggande mjukvävnad 3. Ett implantat är generellt angivet med 4 och är iskruvat i käkbenet i en hålupptagriing 2a i detta. Hålupptagningen kan vara förgängad eller icke förgängad före iskruvningen av implantatet. Implantatet innefattar i sin tur en yttergänga 4a, medelst vilken implantatet är iskruvbart i hålupptagningen 2a. Implantatet är vid sina övre delar försett med ett parti 4b som initialt är motställbart en överkant 2b på käkbenet 2. Implantatet kan innefatta eller vara anslutet till en påbyggnadsdel 5, t.ex. i form av en distanshylsa. Påbyggnadsdelen skall i sin tur uppbära en i figuren 1 symboliskt visad protetik 6. l figuren I visas fallet där en benresorption 7 inträtt i käkbenet, vilken benresorption medför att mjukvävnaden 3 sjunker efter och att ett framträdande utrymme 8 kan utbildas mellan i detta fall påbyggnadsdelens 5 övre delar Sa och benet. Utrymmet 8 kan sträcka sig utefter väsentliga delar av påbyggnadsdelens eller implantatets övre delar. Utrymmet 8 medßr således i föreliggande utföringsexempel att det övre partiet Sa exponeras, vilket är oacceptabelt fi-ån estetisk syn- punkt. Benresorptionens utsträckning har i figuren 1 angivits med H, som ofia kan anta värden om l mm eller mera. to 0000 O O I I O Q U 00 00 m u m ~a 4:- 0\ n u n o n n . , oo c g g . g g 0 I oo oo ann ny..

I figuren 2 har ett implantat enligt uppfinningen angivits med 4”. lmplantatet i figuren 2 har motsvarande uppbyggnad som implantatet 4 i figuren 1. I enlighet med uppfinníngens idé har implantatets 4' parti 4b° försetts med övre spår 9 som sträcker sig i partiets 4b° perifera rikt- 5 ning. I det visade utföringsexemplet sträcker sig spåret runt hela periferin utefter ett tvär- snittsplan vinkelrätt mot figurplanet i figuren 2. Tvärsnittsplanet kan vara vinkelrätt taget i förhållande till implantatets längdaxel 4e. I en altemativ utföringsfonn kan spåret sträcka sig utefter väsentliga delar av periferin. Spåret 9 är motställt, eller väsentligen motställt, över- kanten 2b på benet 2. Partiets ytteryta har angivits med 4c och käkbenets motställda yta med 10 2c. Spåret 9 är i det illustrerade fallet enligt figuren 2 visat väsentligen förstorat ñr tydlig- hetcns skull. Spåret kan i princip ersättas med en ßrdjupningsuppsättning som är anordnad utefter hela eller väsentliga delar av periferisträckningen. Spåret respektive fördjupningama är i enlighet med uppfinningen av sådan karaktär att väsentlig benledning och beninväxt stimuleras av spåret respektive fördjupningsuppsättriingen i sig självt. Beninväxten som 15 beskrives närmare i nedanstående bildar uppåt en barriär som hindrar att mjukvävnaden 3 sjunker ned i ett benresorptionsfall enligt figuren l. Barriären hindrar således att benet 2 sjunker ned utefier aktuella övre implantatsytterdelar och åtföljes av mjukvävnaden 3 på sätt som visats i figuren 1. Genom uppfinningen möjliggöres att benresorption motverkas och att endast ett mindre eventuellt och ej speciellt visat utrymme 8* kan utbildas mellan mjukväv- 20 naden 3 och partiets övre delar Sa”. Mjukvävnaden 3 kan ges förutsättningar att med sin inneryta 3a i nämnda hålupptagning bibehålla sin anliggning mot påbyggnadsdelens 5 ytter- yta 5b. Barriären motverkar således benresorption och utrymmet 8” för eventuell bakterieansamling minskas väsentligt eller reduceras helt till omfattning och djup. Påbygg- nadsdelen kan vara integrerad med eller applicerbar till implantatet. l figuren 3 är ett andra utförande av implantatet anordnat i käkbenet 2 och mjukvävnaden 3. ' lmplantatuppbyggnaden kan motsvara de i ovanstående angivna, bortsett från att partiet 4b” är svängt eller bågformat för att kunna följa en på motsvarande sätt svängd eller bågformad käkbenskant 2b°. Partiet uppbär eller innefattar i detta fall en påbyggnadsdel 5' som nedtill ansluter sig till det svängda partiet och upptill uppbär en påbyggnad eller protetik 6. Även i gl: 000 I O I CO detta fall är ett spår 9' anordnat vid partiets övre delar. Spåret 9' motställes på motsvarande sätt som spåret 9 i ovanstående käkbensöverkanten 2b'. Även i detta fall kan spåret sträcka sig utefter hela eller väsentliga delar av partiets perifera sträckning. Spåret 9' kan på motsva- rande sätt som i ovanstående altemativt utgöras av en fördjupningsuppsättning anordnad på motsvarande sätt som spåret. Ytterligare spår kan anordnas väsentligen parallellt med spåret 9' på partiet 4b”.

Figuren 4 visar spåruppbyggnaden mera i detalj. Spåret 9 är därvid av det slag som ökar benledning och inväxt av ben i spåret tack vare dessas uppbyggnad. Beninväxten är i figuren 4 symboliserad med 10. Implantatet eller implantatdelen 4d nedanför spåret har bibehållit sin integration med käkbenet 2, dvs. ytoma 2c och 4c är tättslutande. Munhålan år i detta fall representerad med ll.

I enlighet med figuren 5 är spåret 9 skål- eller halvcirkelforrnat i sitt tvärsnitt. Altemativ till den väsentliga halvcírkelformen kan vara olika varianter av hyperboliska, elliptiska eller cirkulära former. Även rektangulära och kvadratiska former kan förekomma. I dessa fall är det dock viktigt att hömen är rundade och inte vassa eller försedda med skarpa kanter. Spåret eller ßrdjupningen har visats med övergångsdelar 9a och 9b och själva skål- eller halvcirkelformen med 9c. Spårets eller fördjupningens bredd är angiven med B och mätes vid ett läge innanför avfasningama 9a och 9b. Spårets djup är angivet med D. Bredden B är företrädesvis ca ll0 um och djupet D är företrädesvis ca 70 pm. Beträffande spårets eller fördjupníngamas sträckningar i omkretsriktningen avses med uttrycket ”väsentligt” att åtminstone 60 % av den runt om sig sträckande ytan på partiet 4 skall vara försedd med spår och/eller fördjupningar. Spåret(-n) eller fördjupningama kan samordnas med motsvarande uppbyggda spår och fördjupningar på andra delar av implantatet.

Uppfinningen är inte begränsad till den i ovanstående såsom exempel visade utföringsformen utan kan underkastas modifikationer inom ramen för efierföljande patentkrav och uppfin- ningstanken.

Claims (6)

10 15 20 25 kr! b _) CA Q -I>~ C\ PATENTKRAV

1. Implantat (1) anordnat applicerbart i hâlupptagning (Za) i tandben (2) med tillhörande mjukvävnad (3) samt innefattande ett mot tandbenets överkant (2b) motställbart parti (4b') vilket utefter åtminstone väsentliga delar av sin perifera sträckning är försett med spår (9, 9*) eller fördjupningar anordnat eller anordnade att stimulera benledning och beninväxt (10) av tandben och medelst beninväxten bilda barriär mot väsentlig nedsjunkning kring partiet (4b, 4b') och detta underliggande delar av implantatet av mjulcvävnaden och tandbenet, k ä n n e- t e c k n at a v att respektive spår eller fördjupning (9, 9') uppvisar ett djup (D) av 50-100 um, företrädesvis ca 70 um, och en bredd (B) inom området 70-160 um, företrädesvis ca 110 IIIB.

2. Implantat enligt patentkravet 1, k ä n n e t e c k n a t därav, att två eller flera, t.ex. väsentligen parallella spår är anordnade motställbart tandbenet vid dess övre kant (2b).

3. Implantat enligt patentkravet 1 eller 2, k ä n n e t e c k n at därav, att respektive spår (9, 9”) eller fördjupning består av ett bågformat eller svängt spår eller fórdjupningsuppsätt- ning som följ er ett motsvarande bågformat eller svängt tandben.

4. Implantat enligt patentkravet l, 2 eller 3, k ä n n e t e c k n at därav, att respektive spår eller fördjupning (9, 9') uppvisar ett skâlat tvärsnitt (9c), t.ex. tvärsnitt med halvcirkelfonn, hyperbolisk form, halvelliptisk förrn eller rektangulärt tvärsnitt med rundade hörn.

5. Implantat enligt något av patentkraven l-4, k ä n n e t e c k n at därav, att partiet är anordnat med ett runt om ytan sig sträckande spår (9, 9”) som är beläget vid partiets övre/yttre delar och sträcker sig väsentligen utefier ett tvärsnitt anordnat väsentligen vinkel- rätt mot ímplantatets längdaxel (4e). I 526 746 'l

6. Implantat enligt något av patentkraven 1-5, k ä n n e t e c k n a t därav, att det yttre/övre partiets spår- och/eller fördjupning är samordnat(-d) respektive samordnade med andra spår och/eller fördjupningar på annat parti eller andra partier av implantatet.