SE469061B - Anordning foer adsorption av foeroreningar saasom flyktiga loesningsmedel - Google Patents

Description

Jia. _ \ \_C) 10 15 20 25 30 35 ON .<...\ 2 adsorptionsenhet i form av en cylinder, vars geometriska axel A visas med en prickstreckad linje i fig l.

Adsorptionselementet l har en horisontell, cirkel- sektorformig, övre ingångsyta 2 och en horisontell, cir- kelsektorformig, nedre utgångsyta 3. Adsorptionselementet l har en bikakeliknande struktur med ett flertal vertikala kanaler, som sträcker sig mellan ytorna 2 och 3 och defi- nierar en genomgående gasflödesbana. Den bikakeliknande strukturen innehåller ett lämpligt adsorptionsmedel, såsom aktivt kol.

En i förhållande till ingångsytan 2 snedställd, övre ledplåt 4 är anordnad för att avleda ett horisontellt och med avseende på cylinderaxeln A väsentligen radiellt inåt riktat gasflöde, dvs ett i den av en pil Pl i fig l angiv- na riktningen inströmmande gasflöde, mot ingångsytan 2. En i förhållande till utgångsytan 3 snedställd, nedre ledplåt 5 är anordnad för att avleda ett från utgångsytan väsent- ligen vinkelrätt däremot utträdande gasflöde horisontellt och väsentligen radiellt inåt mot cylinderaxeln A, dvs i den av pilen Pl angivna riktningen.

Då anordningen utnyttjas för att rena en gas, som innehåller föroreningar, t ex luft som utsuges från en sprutbox och innehåller flyktiga lösningsmedel, inledes gasen i pilens Pl riktning i anordningen i dennas övre parti för att av den övre ledplåten 4 avledas mot ingångs- ytan 2. Den förorenade gasen strömmar genom adsorptions- elementet l, där föroreningar adsorberas av adsorptions- medlet. Den renade gasen strömmar ut via utgångsytan 3 och avledes radiellt inåt av den nedre ledplåten 5.

Anordningens utformning gör att gasflödets hastighet i adsorptionselementet l är lägst närmast det av den övre ledplåten 4, ingångsytan 2 samt i fig l icke visade, ver- tikala sidoväggar bildade inloppets öppning, dvs till vänster i fig l, och att dess hastighet ökar i riktning bort från inloppsöppningen, dvs åt höger i fig l. Hastig- hetsfördelningen över gasflödesbanans tvärsnitt illustre- ras med pilar P2 i fig l. Denna sneda hastighetsfördelning 10 15 20 25 30 35 469 061 3 medför att de i adsorptionselementet l adsorberade föroreningarna bildar ett skikt, vars tjocklek är minst närmast inloppsmynningen och störst längst bort från denna. Skiktets sneda gränslinje illustreras schematiskt med en linje L i fig l.

Då anordningen ska rengöras, ledes hetgas, såsom vattenånga, "baklänges" genom adsorptionselementet l. Het- gasen ledes i den pilen Pl motsatta och av en streckad pil P3 i fig l angivna riktningen in i anordningen i dennas nedre parti för att av den nedre ledplåten 5 avledas mot utgàngsytan 3 (vilken under rengöringsfasen således funge- rar som ingångsyta). Hetgasen strömmar genom adsorptions- elementet l och för med sig däri ansamlade föroreningar.

Hetgas med hög föroreningskoncentration strömmar ut via ingångsytan 2 (vilken under rengöringsfasen således funge- rar som utgångsyta) och avledes radiellt utåt av den övre ledplåten 4 för efterföljande rening.

Adsorptionsfasen utgör ca 90% av anordningens drifts- tid, medan desorptionsfasen eller rengöringsfasen utgör ca 10% av driftstiden. Benämningarna "ingångsyta" och "ut- gángsyta" har valts för att överensstämma med gasflödes- riktningen under adsorptionsfasen.

Anordningens utformning gör att hetgasens hastighet i adsorptionselementet l är lägst närmast det av den nedre ledplåten 5, utgàngsytan 3 samt i fig 1 icke visade, ver- tikala sidoväggar bildade inloppets öppning, dvs till höger i fig l, och att dess hastighet ökar i riktning bort från denna öppning, dvs åt vänster i fig l. Hetgasens has- tighetsfördelning över gasflödesbanans tvärsnitt illustre- ras med streckade pilar P4 i fig l. Hetgasens hastighet i adsorptionselementet l är således högst där förorenings- skiktet är som tunnast och lägst där skiktet är som tjock- ast. Det omvända förhållandet är naturligtvis önskvärt om en effektiv rengöring ska erhållas.

I ett försök att åstadkomma en jämnare hastighetsför- delning över gasflödesbanans tvärsnitt har man anbringat en perforerad motståndsskiva i gasflödesbanan. Skivan är åk \O CT) 10 15 20 25 30 35 O\ ...à 4 utformad för att ge ett strömningsmotstånd, som är avse- värt större än strömningsmotståndet i anordningen i öv- rigt. Med hjälp av denna skiva har man lyckats uppnå den eftersträvade effekten och erhållit en jämnare hastighets- fördelning över gasflödesbanans tvärsnitt. Skivan ger emellertid ett så stort strömningsmotstånd, att en dras- tisk försämring av driftsekonomin erhålles. Ändamålet med föreliggande uppfinning är därför att åstadkomma en adsorptionsanordning, i vilken en jämnare hastighetsfördelning över gasflödesbanans tvärsnitt åstad- kommes utan att driftsekonomin försämras drastiskt.

Detta ändamål uppnås enligt uppfinningen med en an- ordning, som är av det inledningsvis angivna slaget och kännetecknas därav, att skivan har perforeringar, av vilka åtminstone en del är utformade för att var och en ge olika strömningsmotstånd för ett gasflöde, som är riktat från ingångsytan till utgångsytan, och ett gasflöde, som är riktat från utgångsytan till ingångsytan, och av vilka åt- minstone en del är utformade för att ge olika strömnings- motstånd i en och samma gasflödesriktning, och att skivans perforeringar är så arrangerade inbördes, att skivan ger ett i nämnda första riktning sett ökande strömningsmot- stånd för ett gasflöde, som är riktat från ingångsytan till utgångsytan, och ett i nämnda första riktning sett avtagande strömningsmotstånd för ett gasflöde, som är rik- tat från utgångsytan till ingångsytan.

Uppfinningen ska nu beskrivas närmare under hänvis- ning till bifogade ritning.

Fig l visar den ovan beskrivna anordningen i verti- kalsektion.

Fig 2 motsvarar fig l men visar en anordning enligt uppfinningen.

Den i fig 2 visade anordningen skiljer sig från den i fig l visade anordningen endast därigenom, att en perfore- rad motståndsskiva 6 av speciellt slag anbringats på an- ordningen. Sålunda betecknar även i fig 2 l ett tàrtbits- formigt adsorptionselement, 2 en övre ingångsyta, 3 en 10 15 20 25 30 35 469 061 5 nedre utgångsyta, 4 en övre ledplåt, 5 en nedre ledplåt, A en cylinders geometriska axel och L en gränslinje för ett skikt av adsorberade föroreningar. Liksom i fig l an- ger pilarna Pl och P3 olika gasflödesriktningar och anger pilarna P2 och P4 gasflödenas hastighetsfördelning i ad- sorptionselementet l.

För att förhindra att den i fig l visade sneda has- tighetsfördelningen erhålles och i stället åstadkomma en jämnare hastighetsfördelning över gasflödesbanans tvär- snitt utnyttjas vid den i fig 2 visade anordningen enligt uppfinningen en perforerad motstàndsskiva 6, som är utfor- mad på speciellt sätt. Motståndsskivan 6 har perforeringar 7 och 8, som utgöres av stansade hål. Perforeringarna 7 och 8 visas endast schematiskt och på sådant sätt i fig 2, att uppfinningstanken ska kunna förklaras på ett enkelt Sätt.

Var och en av de visade perforeringarna 7 och 8 har formen av en dysa, som ger olika strömningsmotstånd för en gas i beroende av i vilken riktning gasen strömmar genom dysan. Såsom torde framgå av fig 2, ger de vänstra perfo- reringarna 7 ett lägre strömningsmotstånd för ett nedåt- riktat gasflöde, medan förhållandet är det omvända för de högra perforeringarna 8. Perforeringarna 7 är i det visade exemplet likadana som perforeringarna 8, bortsett från att de är vända åt motsatt håll.

Då den förorenade gasen under adsorptionsfasen ström- mar genom anordningen såsom beskrivits ovan, möter den så- ledes ett lägre motstånd i anordningens vänstra del än i dess högra del, vilket gör att gasflödets hastighetsför- delning över gasflödesbanans tvärsnitt utjämnas i förhål- lande till den i fig l visade, sneda hastighetsfördelning- en (pilarna P2).

Dá hetgasen under rengöringsfasen strömmar genom an- ordningen såsom beskrivits ovan, möter den ett lägre mot- stånd i anordningens högra del än i dess vänstra del, vil- ket gör att hetgasens hastighetsfördelning över gasflödes- banans tvärsnitt utjämnas i förhållande till den i fig l “En Ch \!D 10 15 20 25 30 35 ..._-B 6 visade, sneda hastighetsfördelningen (pilarna P4).

Med enbart de ovan beskrivna perforeringarna 7 och 8 kan de i fig 2 med pilarna P2 och P4 illustrerade, helt jämna hastighetsfördelningarna och den av den horisontella linjen L i fig 2 illustrerade, homogena tjockleken för det i adsorptionselementet 1 adsorberade skiktet av föroren- ingar emellertid inte uppnàs. För att komma närmare det i fig 2 visade helt ideala förhållandet förser man skivan 6 med perforeringar, som skiljer sig från perforeringarna 7 och 8 och ger andra strömningsmotstànd än dessa och som naturligtvis placeras så, att en mer kontinuerlig ökning av strömningsmotstándet erhålles fràn vänster till höger för den förorenade gasen och från höger till vänster för hetgasen.

Claims (4)

10 15 20 25 30 35 469 061 PATENTKRAV

1. Anordning för adsorption av föroreningar, såsom flyktiga lösningsmedel, i ett gasflöde, vilken anordning har ett adsorptionselement (l) med en ingàngsyta (2), som är belägen i ett första plan, en utgångsyta (3), som är belägen i ett med det första planet parallellt andra plan, och en genomgående gasflödesbana, som sträcker sig mellan ingångsytan och utgångsytan väsentligen vinkelrätt mot dessa båda ytor, varvid en i förhållande till ingångsytan (2) snedställd ledplåt (4) är anordnad att avleda ett i en med ingångsytan väsentligen parallell första riktning (Pl) instrommande gasflöde mot ingångsytan och att avleda ett från ingångsytan väsentligen vinkelrätt däremot utträdande gasflöde i en nämnda första riktning motsatt andra rikt- ning (P3), varvid en i förhållande till utgångsytan (3) snedställd ledplåt (5) är anordnad att avleda ett från ut- gångsytan väsentligen vinkelrätt däremot utträdande gas- flöde i nämnda första riktning (Pl) och att avleda ett i nämnda andra riktning (P3) inströmmande gasflöde mot ut- gångsytan, samt varvid åtminstone en med ingångsytan och utgångsytan väsentligen parallell, perforerad motstånds- skiva (6) är anordnad i gasflödesbanan, t e c k n a d därav, att skivan (6) har perforeringar (7, 8), av vilka åtminstone en del är utformade för att var och en ge olika strömningsmotstånd för ett gasflöde, som är riktat från ingångsytan (2) till utgångsytan (3), och ett gasflöde, som är riktat från utgångsytan till ingångs- ytan, och av vilka åtminstone en del är utformade för att ge olika strömningsmotstånd i en och samma gasflödesrikt- ning, och att skivans (6) perforeringar (7, 8) är så arrangerade inbördes, att skivan ger ett i nämnda första riktning (Pl) sett ökande strömningsmotstånd för ett gas- flöde, som är riktat från ingångsytan (2) till utgångs- ytan (3), och ett i nämnda första riktning sett avtagande strömningsmotstånd för ett gasflöde, som är riktat från k ä n n e - .in Qj\ Q? G61 10 15 20 25 30 35 8 utgångsytan till ingàngsytan.

2. Anordning enligt patentkravet l, k ä n n e - t e o k n a d därav, att en perforerad motståndsskiva (6) är anordnad på utgångsytan (3). k ä n - n e t e c k n a d därav, att en perforerad motståndsskiva

3. Anordning enligt patentkravet l eller 2, (6) är anordnad på ingángsytan (2).

4. Anordning enligt något av patentkraven l-3, k ä n n e t e c k n a d därav, att den perforerade mot- ståndsskivan (6) är en plåt, vars perforeringar (7, 8) ut- göres av stansade hål.