SE461980B - PROCEDURES FOR CHEMICAL INDICATION OF VANADINOXIDE FILMS - Google Patents

PROCEDURES FOR CHEMICAL INDICATION OF VANADINOXIDE FILMS

Info

Publication number
SE461980B
SE461980B SE8300497A SE8300497A SE461980B SE 461980 B SE461980 B SE 461980B SE 8300497 A SE8300497 A SE 8300497A SE 8300497 A SE8300497 A SE 8300497A SE 461980 B SE461980 B SE 461980B
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
vanadium
glass
compound
vanadium oxide
glass substrate
Prior art date
Application number
SE8300497A
Other languages
Swedish (sv)
Other versions
SE8300497L (en
SE8300497D0 (en
Inventor
C B Greenberg
J K Scanlon
Original Assignee
Ppg Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US06/344,257 external-priority patent/US4393095A/en
Priority claimed from US06/344,860 external-priority patent/US4400412A/en
Priority claimed from US06/344,906 external-priority patent/US4401690A/en
Application filed by Ppg Industries Inc filed Critical Ppg Industries Inc
Publication of SE8300497D0 publication Critical patent/SE8300497D0/en
Publication of SE8300497L publication Critical patent/SE8300497L/en
Publication of SE461980B publication Critical patent/SE461980B/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/40Oxides
    • C23C16/405Oxides of refractory metals or yttrium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23Oxides
    • C03C17/245Oxides by deposition from the vapour phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23Oxides
    • C03C17/27Oxides by oxidation of a coating previously applied
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/218V2O5, Nb2O5, Ta2O5
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/24Doped oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/11Deposition methods from solutions or suspensions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/11Deposition methods from solutions or suspensions
    • C03C2218/111Deposition methods from solutions or suspensions by dipping, immersion
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/15Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/151Deposition methods from the vapour phase by vacuum evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/15Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/152Deposition methods from the vapour phase by cvd
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/30Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/32After-treatment
    • C03C2218/322Oxidation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/30Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/32After-treatment
    • C03C2218/324De-oxidation

Description

LS 20 IN) 461 980 35 procent på sex millimeter tjockt klart s.k. floatglas. Vana- dinoxidfilmer innehållande V205 kan också framställas genom ke- misk ångavsättning enligt föreliggande uppfinning. Dessa filmer kan därefter reduceras för bildning av termokroma filmer inne- hållande V02. LS 20 IN) 461 980 35 percent of six millimeters thick clear s.k. float glass. Vanadium oxide films containing V 2 O 5 can also be prepared by chemical vapor deposition according to the present invention. These films can then be reduced to form thermochromic films containing V02.

BESKRIVNING AV RITNINGARNA Figur l illustrerar den optiska förändringen för en vana- dinoxid (V02)-film bildad direkt genom kemisk ångavsâttning.DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Figure 1 illustrates the optical change of a vanadium oxide (VO 2) film formed directly by chemical vapor deposition.

Figur 2 illustrerar den elektroresistiva förändring som föl- jer med den optiska förändringen illustrerad i figur 1.Figure 2 illustrates the electoresistive change that accompanies the optical change illustrated in Figure 1.

Figur 3 illustrerar den optiska förändringen för en dopad vanadinoxidfilm genom att solenergitransmittansen för ett belagt glasprov vid rumstemperatur jämföres med transmittansen för provet upphettat över dess övergångstemperatur.Figure 3 illustrates the optical change of a doped vanadium oxide film by comparing the solar energy transmittance of a coated glass sample at room temperature with the transmittance of the sample heated above its transition temperature.

Figur 4 illustrerar övergångstemperaturområdet för en dopad vanadinoxidfilm genom att resistansen visas som en funktion av tem- peraturen.Figure 4 illustrates the transition temperature range of a doped vanadium oxide film by showing the resistance as a function of temperature.

SAMMANFATTNING AV UPPFINNINGEN Föreliggande uppfinning hänför sig närmare bestämt till ett förfarande för kemisk ångavsättning av vanadínoxidfilmer, vilket förfarande utmärkes av att man: a. upphettar ett glassubstrat till tillräcklig temperatur för omvandling av en organovanadinförening till vanadinoxid; b. förångar en flytande organovanadinförening; c. bringar en yta av det upphettade glassubstratet i kontakt med ångan av nämnda vanadinföreníng för avsättning av en vanadin- oxidfilm på glasytan.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates more particularly to a process for the chemical vapor deposition of vanadium oxide films, which process is characterized by: a. Heating a glass substrate to a sufficient temperature to convert an organovanadine compound to vanadium oxide; b. vaporizes a liquid organovanadine compound; c. contacting a surface of the heated glass substrate with the vapor of said vanadium compound to deposit a vanadium oxide film on the glass surface.

Enligt en annan aspekt av uppfinningen avses ett förfarande för framställning av en ledande belagd glasdetalj, vilket förfa- rande utmärkes av att man: a. upphettar ett glassubstrat till en temperatur av minst ca 4oo°c; b. förângar vanadín-n-propylat; c. transporterar det förångade vanadin-n-propylatet till sub- stratet i en ström av kväve; _ d. bríngar en yta av det upphettade glassubstratet i kontakt med det förångade vanadin-n-propylatet för avsättning av en film innehållande V203 därpå; och 10 15 20 25 30 55 461 980 e. kyler den belagda glasdetaljen i en atmosfär som är otill- räckligt oxiderande för att omvandla VZO3 till V02.According to another aspect of the invention, there is provided a process for producing a conductive coated glass part, which process is characterized in that: a. A glass substrate is heated to a temperature of at least about 40 ° C; b. vaporizes vanadium n-propylate; c. transporting the vaporized vanadium n-propylate to the substrate in a stream of nitrogen; d. contacting a surface of the heated glass substrate with the vaporized vanadium n-propylate to deposit a film containing V 2 O 3 thereon; and 10 15 20 25 30 55 461 980 e. cools the coated glass particle in an atmosphere which is insufficiently oxidizing to convert VZO3 to VO2.

DETALJERAD BESKRIVNING AV FUREDRAGNA UTFURINGSFORMER Otaliga metall- och/eller metalloxidbeläggningar är kända för att vara användbara för solenergireglering. Sådana belägg- ningar reflekterar typiskt en stor andel av den infallande sol- energin för att minimera uppvärmningen inuti en konstruktion el- ler byggnad, samtidigt som de tillåter tillräcklig transmission av den synliga delen av spektrumet för att det skall bli ljust inuti nämnda byggnad. Ett speciellt önskvärt arkitektoniskt föns- ter för passiv solenergireglering skulle vara ett fönster med variabel transmittans, vilket skulle minimera transmittansen på sommaren, när temperaturen är hög och den infallande solenergin är. störst, men transmittera solenergi när temperaturen är låg. Varia- bel transmittans i en glasruta kan åstadkommas med hjälp av foto- kromism, vilket innbär att rutan blir mörkare av solens ultravio- letta strålar, varvid man typiskt använder silverhalogenider. Ab- sorption hos glaset av solstrålning över hela spektralområdet re- sulterar dock i uppvärmning och blekning, vilket fördärvar glasets fotokroma egenskaper. Enligt föreliggande uppfinning åstadkommes variabel transmittans med hjälp av en termokrom respons, som är resultatet av en optisk förändring när en vanadinoxídfilm upp- värmes av absorberad solenergi.DETAILED DESCRIPTION OF PURED PAINTED METHODS Numerous metal and / or metal oxide coatings are known to be useful for solar energy control. Such coatings typically reflect a large proportion of the incident solar energy to minimize heating inside a structure or building, while allowing sufficient transmission of the visible part of the spectrum to be bright inside said building. A particularly desirable architectural window for passive solar energy regulation would be a window with variable transmittance, which would minimize the transmittance in summer, when the temperature is high and the incident solar energy is. greatest, but transmit solar energy when the temperature is low. Variable transmittance in a glass pane can be achieved with the help of photochromism, which means that the pane is darkened by the sun's ultraviolet rays, typically using silver halides. However, absorption of solar radiation by the glass over the entire spectral range results in heating and fading, which spoils the photochromic properties of the glass. According to the present invention, variable transmittance is achieved by means of a thermochromic response, which is the result of an optical change when a vanadium oxide film is heated by absorbed solar energy.

Vanadinoxid (V02) undergår en fasövergång från den monokli- na kristallografiska klassen till den tetragonala vid en nominell temperatur av 68°C. Denna fasövergång åtföljes av en snabb omkast- ning eller förändring av den elektriska resistiviteten från halv- ledande uppträdande till metalliskt sådant, en resistivitetsför- ändring av ca 103 till 105-faldigt i en enda kristall. Förutom förändringen av den elektriska ledningsförmågan undergår en vana- dinoxid (V02)-film även väsentlig optisk förändring i det infra- röda spektralområdet, såsom visas i figurerna 1 och 2, tillsammans med en mindre förändring inom spektralområdet för synligt ljus.Vanadium oxide (VO2) undergoes a phase transition from the monoclinic crystallographic class to the tetragonal one at a nominal temperature of 68 ° C. This phase transition is accompanied by a rapid reversal or change of the electrical resistivity from semiconductor behavior to metallic one, a resistivity change of about 103 to 105-fold in a single crystal. In addition to the change in electrical conductivity, a vanadium oxide (VO2) film also undergoes significant optical change in the infrared spectral range, as shown in Figures 1 and 2, along with a minor change in the spectral range of visible light.

Vanadinoxidfilmer framställes sålunda enligt föreliggande uppfinning genom kemisk ångavsättning från organovanadinförening- ar, såsom flytande vanadin-isopropylat och vanadin-n-propylat.Thus, vanadium oxide films are prepared according to the present invention by chemical vapor deposition from organovanadine compounds such as liquid vanadium isopropylate and vanadium n-propylate.

För att vara användbart som termokromt fönster för passiv solener- giregleríng bör vanadinoxidbeläggningen ge större optisk föränd- 10 15 20 461 980 ring inom solens infraröda spektralområde, ett temperaturomrâde för förändringen som står i relation till de faktiska temperatu- rer som uppnås av ett fönster som utsättes för solstrålning, samt tillräckliga förândringsegenskaper vid en filmtjocklek som är till- räckligt liten för att irísering skall undvikas. Företrädesvis ligger filmtjockleken inom ett omrâde av från ca 100 till 1500 Ångström. Dessa egenskaper kan åstadkommas medelst vanadinoxid- filmer framställda i enlighet med föreliggande uppfinning.To be useful as a thermochromic window for passive solar energy regulation, the vanadium oxide coating should provide greater optical change within the solar infrared spectral range, a temperature range for the change that is related to the actual temperatures achieved by a window that exposed to solar radiation, as well as sufficient change properties at a film thickness that is small enough to avoid iridescence. Preferably, the film thickness is in a range of from about 100 to 1500 Ångström. These properties can be achieved by vanadium oxide films prepared in accordance with the present invention.

Tunna filmer av vanadinoxid kan framställas på glassubstrat genom kemisk ångavsättning under användning av en mångfald organo- vanadinföreningar, företrädesvis sådana som föreligger i flytande form vid standardtemperatur och -tryck. Soda-kalk-kiseldioxidflyt- glas och borsilikatglas är användbara som substrat. Glassubstraten föruppvârmes, typiskt till en temperatur av minst ca 350°C, i en konventionell tubugn, som är öppen i båda ändarna för inmatning och utmatning av substraten. En luftdriven matararm kan användas för att mata in ett substrat i och mata ut detsamma från upphett- ningszonen ut på ett transportband, som för substratet till en CVD-beläggningskammare belägen under en utsugningskåpa. CVD-be- läggningskammaren innehåller en organovanadinförening, såsom fly- tande vanadin-isopropylat eller vanadin-n-propylat, som upphettas till tillräckligt hög temperatur för att vanadinföreningen skall förångas. Ångan av organovanadinföreningen föres i en gasström till det upphettade substratet, varpå organovanadinföreningen pyrolyserar till bildning av vanadinoxid.Thin vanadium oxide films can be prepared on glass substrates by chemical vapor deposition using a variety of organovanadine compounds, preferably those in liquid form at standard temperature and pressure. Soda-lime-silica float glass and borosilicate glass are useful as substrates. The glass substrates are preheated, typically to a temperature of at least about 350 ° C, in a conventional tube furnace, which is open at both ends for feeding and discharging the substrates. An air-powered feed arm can be used to feed a substrate in and feed it out of the heating zone onto a conveyor belt which carries the substrate to a CVD coating chamber located below an exhaust hood. The CVD coating chamber contains an organovanadine compound, such as liquid vanadium isopropylate or vanadium n-propylate, which is heated to a sufficiently high temperature for the vanadium compound to evaporate. The vapor of the organovanadine compound is passed in a gas stream to the heated substrate, whereupon the organovanadine compound pyrolyzes to form vanadium oxide.

Enligt en föredragen utföringsform av föreliggande uppfin- ning förångas vanadin-isopropylat och föres i en ström av icke- -oxiderande gas såsom kväve eller formningsgas till ett upphettat glassubstrat. En vanadinoxidbeläggning bildas på glaset, som sedan föres in i en tunnel genomspolad med formningsgas till en kylnings- yta eller snabbkylningsyta, där det belagda glaset kyles till om- givande temperatur eller rumstemperatur. När V02 bildas av vana- din-isopropylat, är det resulterande vanadinoxidbelagda glaset halvledande vid omgivande temperatur med en solinfrarödtransmittans typiskt över 30% vid våglängder av mellan 0,8 och 2,2 /um, medan den V02-haltiga filmen över övergångstemperaturen, nominellt 68°C, är karakteristiskt ledande och har en total solinfrarödtransmit- tans som år mindre än cirka 15%. 10 15 20 25 30 35 461 980 För att förbättra den optiska responsen hos en vanadinoxid- film kan det vara användbart att grunda glasytan före den kemiska ångavsättningen av vanadinoxidbeläggningen. Optimal grundning kan erhållas med en tennoxidbeläggning, typiskt från 700 till 800 Å tjock. Tennoxidgrundbeläggningen framställes företrädesvis genom pyrolytisk avsättning av en organotennförening. Kisel- och titan- dioxidfilmer är också användbara som grundskikt. Användningen av sådana grundfilmer, speciellt SnO2, tycks förbättra kristallini- teten och bildningen av V02 snarare än andra vanadinoxider, vilket resulterar i en V02-rik film, som har mycket goda optiska föränd- ringsegenskaper.According to a preferred embodiment of the present invention, vanadium isopropylate is evaporated and passed in a stream of non-oxidizing gas such as nitrogen or forming gas to a heated glass substrate. A vanadium oxide coating is formed on the glass, which is then introduced into a tunnel purged with forming gas to a cooling surface or quenching surface, where the coated glass is cooled to ambient temperature or room temperature. When VO 2 is formed from vanadium isopropylate, the resulting vanadium oxide coated glass is semiconducting at ambient temperature with a solar infrared transmittance typically above 30% at wavelengths of between 0.8 and 2.2 .mu.m, while the VO 2 -containing film above the transition temperature, nominally 68 ° C, is characteristically conductive and has a total solar infrared transmission that is less than about 15%. 46 15 980 To improve the optical response of a vanadium oxide film, it may be useful to prime the glass surface prior to the chemical vapor deposition of the vanadium oxide coating. Optimal primer can be obtained with a tin oxide coating, typically from 700 to 800 Å thick. The tin oxide primer is preferably prepared by pyrolytic deposition of an organotin compound. Silica and titanium dioxide films are also useful as primers. The use of such base films, especially SnO2, seems to improve the crystallinity and formation of VO2 rather than other vanadium oxides, resulting in a VO2-rich film which has very good optical change properties.

De optiska förändrings- eller omkastningsegenskaperna hos vanadinoxidbeläggningen bestämmes genom avsökning av transmittans- mönstret med en Cary 14-spektrofotometer (jämförbara spektrofoto- metrar finns nu tillgängliga från Varian Associates) över spektral- området 0,8 till 2,2 um. Det vanadinoxidbelagda glasprovet hålles i en isolerad hållare med en öppning för strålpassage. Två cylind- riska 25 watts upphettare i kontakt med glaskanterna omedelbart utanför strålpassageöppningen användes för att upphetta det vana- dinoxidbelagda glasprovet genom förändrings- eller switchnings- temperaturområdet. En spektral avsökning utföres såväl före som efter upphettningen utan att provet förflyttas. Typiska resultat visas i figurerna l och 2.The optical change or reversal properties of the vanadium oxide coating are determined by scanning the transmittance pattern with a Cary 14 spectrophotometer (comparable spectrophotometers now available from Varian Associates) over the spectral range 0.8 to 2.2 μm. The vanadium oxide coated glass sample is held in an insulated holder with an opening for jet passage. Two cylindrical 25 watt heaters in contact with the glass edges immediately outside the beam passage opening were used to heat the vanadium oxide coated glass sample through the change or switching temperature range. A spectral scan is performed both before and after heating without moving the sample. Typical results are shown in Figures 1 and 2.

Temperaturområdet för den optiska förändringen bestämmes vid ett separat försök, som även ger ett mått på den termoresistiva förändringen. En sond med platt huvud till en Omega Amprove - fastemperaturmätningsanordning (saluförd av Omega Engineering, Inc., Stanford, Connecticut) klämmes fast på en smal remsa av va- nadinoxidfilmytan. I omedelbar närhet på vardera sidan om sonden finns klämmor anslutna till en ohm-meter för mätning av resistan- sen. Resistansen mätes som en funktion av temperaturen när det belagda provet upphettas genom övergångstemperaturområdet. En provmätnings illustreras i figur 3.The temperature range of the optical change is determined in a separate experiment, which also gives a measure of the thermoresistive change. A flat-head probe for an Omega Amprove fixed-temperature measuring device (marketed by Omega Engineering, Inc., Stanford, Connecticut) is clamped onto a narrow strip of vanadium oxide film surface. In the immediate vicinity on each side of the probe, there are terminals connected to an ohm meter for measuring the resistance. The resistance is measured as a function of the temperature when the coated sample is heated through the transition temperature range. A sample measurement is illustrated in Figure 3.

Generellt visar det sig att av den 103 till 105-faldiga termoresistivitetförändringskapaciteten hos vanadinoxid (V02) en termoresistiv förändring av storleksordningen ungefär tvâ-faldíg är tillräcklig för åstadkommande av optisk förändring av den er- forderliga storleken för passiv solenergireglering inom spektral- området 0,8 till 2,2 /um. Temperaturområdet för optisk förändring, 10 461 980 kring det nominella värdet 68°C som är känt för relativt rena enkelkristaller av vanadinoxid (VO,), är nära det område av ca 45 - 60°C som i realiteten uppnås i fönster sommartid i söderläge.In general, it turns out that of the 103 to 105-fold thermoresistivity change capacity of vanadium oxide (VO 2), a thermoresistive change of the order of about two-fold is sufficient to effect optical change of the required magnitude for passive solar energy control in the spectral range 0.8. to 2.2 .mu.m. The temperature range for optical change, 10 461 980 around the nominal value 68 ° C which is known for relatively pure single crystals of vanadium oxide (VO,), is close to the range of about 45 - 60 ° C which is actually achieved in windows in summer in the south.

Vidare visar det sig att optiska förändringsegenskaper kan uppnås med vanadinoxidfilmer som är tillräckligt tunna för att synlig iri- sering eller sprängvågseffekt skall undvikas.Furthermore, it turns out that optical change properties can be achieved with vanadium oxide films that are thin enough to avoid visible iridescence or blast wave effect.

V02-filmer med sänkta förändringstemperaturer kan framställas genom dopning med niob-, molybden-, iridium-, tantal- eller volfram- oxider, varvid dessa metallkatjoner har större jonradie än vanadín.V02 films with reduced change temperatures can be prepared by doping with niobium, molybdenum, iridium, tantalum or tungsten oxides, these metal cations having a larger ionic radius than vanadium.

Enligt en variant av ett sådant förfarande neddoppas glassubstra- tet i en lösning innehållande l volymdel vanadin-isopropylat, 3 volymdelar 2-propanol och cirka 2,5 till 4 g per liter av WOCl4 vid rumstemperatur. Filmbildningen förlöper genom hydrolys i om- givande luft. Det belagda glaset upphettas därefter, företrädesvis i reducerande atmosfär, ännu hellre i en atmosfär av formningsgas innehållande ett aromatiskt kolväte, till tillräcklig temperatur och under tillräcklig tidsperiod för att det skall bildas en ter- mokrom V02-film, som förändras inom ett temperaturområdet över- stigande rumstemperatur men under det karakteristiska värdet 68°C.According to a variant of such a process, the glass substrate is immersed in a solution containing 1 part by volume of vanadium isopropylate, 3 parts by volume of 2-propanol and about 2.5 to 4 g per liter of WOCl 4 at room temperature. Film formation takes place by hydrolysis in ambient air. The coated glass is then heated, preferably in a reducing atmosphere, more preferably in an atmosphere of forming gas containing an aromatic hydrocarbon, to a sufficient temperature and for a sufficient period of time to form a thermochromic VO 2 film which changes within a temperature range above rising room temperature but below the characteristic value 68 ° C.

V02-filmen är halvledande vid omgivande temperaturer eller rums- temperatur, varvid den totala solinfrarödtransmittansen är såsom visas i figur 3, medan den V02-haltiga filmen över övergångstem- peraturområdet är karakteristiskt ledande och har en solinfraröd- transmittans som är mindre än cirka 10% såsom visas i figur 4.The VO 2 film is semiconductive at ambient temperatures or room temperature, the total solar infrared transmittance being as shown in Figure 3, while the VO 2 -containing film over the transition temperature range is typically conductive and has a solar infrared transmittance of less than about 10%. as shown in Figure 4.

En termoresistiv förändring av större storleksordning kan uppnås genom användning av flytande vanadin-isopropylat uppburet i kvävgas för bildning av högoxiderad vanadinoxid (VZOS) på en glas- yta upphettad till minst cirka 300°C. Det vanadinoxidbelagda gla- set transporteras inuti en tunnel genomspolad med luft till en avkylningsyta, som också spolas med luft, där det belagda glaset kyles till omgivande temperatur eller rumstemperatur. Den resul- terande vanadinoxidbeläggningen är i huvudsk V205. För erhållan- de av termokrom V02 reduceras vanadinoxidbeläggningen i reduceran- de atmosfär, företrädesvis formningsgas innehållande en liten an- del aromatiskt kolväte vid en temperatur av från ca 325 till 475°C.A larger size thermoresistive change can be achieved by using liquid vanadium isopropylate supported in nitrogen to form highly oxidized vanadium oxide (VZOS) on a glass surface heated to at least about 300 ° C. The vanadium oxide-coated glass is transported inside a tunnel flushed with air to a cooling surface, which is also flushed with air, where the coated glass is cooled to ambient temperature or room temperature. The resulting vanadium oxide coating is mainly V205. To obtain thermochrome VO 2, the vanadium oxide coating is reduced in a reducing atmosphere, preferably forming gas containing a small proportion of aromatic hydrocarbon at a temperature of from about 325 to 475 ° C.

Den på detta sätt bildade termokroma V02-filmen år halvledande vid omgivande temperatur med en solinfrarödtransmittans såsom illustreras i figur 2, medan V02-filmen över övergångstemperatu- ren är karakteristiskt ledande med en total solinfrarödtransmit- 10 15 20 25 30 35 7 461 980 tans av mindre än cirka 10%. Den termoresistiva förändringen år cirka 1000-faldig såsom visas i figur 3.The thermochromic V02 film thus formed is semiconducting at ambient temperature with a solar infrared transmittance as illustrated in Figure 2, while the VO2 film over the transition temperature is characteristically conductive with a total solar infrared transmission of 10 46. less than about 10%. The thermoresistive change is approximately 1000-fold as shown in Figure 3.

Ledande tunna filmer av vanadinoxid innehållande VZOS kan framställas genom kemisk avsättning under användning av vanadin-n- -propylat. Glassubstrat föruppvärmes, typiskt till en temperatur av minst ca 450°C, i en konventionell rörugn öppen i båda ändar för inmatning och utmatning av substraten. Flytande vanadín-n-pro- pylat förångas och bäres i en ström av kvävgas till det upphettade substratet, varpå organovanadinföreningen pyrolyserar för bild- ning av vanadinoxid. Det vanadinoxidbelagda glaset passerar genom en tunnel genomspolad med formningsgas till en avkylningsyta, som också spolas med formningsgas, där det belagda glaset kyles till rumstemperatur. Den resulterande ledande V203-filmen är karakte- ristiskt grå i transmission jämfört med gul till brun för V02 och har typiskt en resistans som uppgår till ca 200 till 300 ohm per kvadrat. Föredragna filmtjocklekar varierar från ca 200 till 1500 Ångström. _ .Conductive thin films of vanadium oxide containing VZOS can be prepared by chemical deposition using vanadium n-propylate. Glass substrates are preheated, typically to a temperature of at least about 450 ° C, in a conventional tube furnace open at both ends for feeding and discharging the substrates. Liquid vanadium n-propylate is evaporated and carried in a stream of nitrogen to the heated substrate, whereupon the organovanadine compound pyrolyzes to form vanadium oxide. The vanadium oxide coated glass passes through a tunnel purged with forming gas to a cooling surface, which is also purged with forming gas, where the coated glass is cooled to room temperature. The resulting conductive V203 film is typically gray in transmission compared to yellow to brown for V02 and typically has a resistance of approximately 200 to 300 ohms per square. Preferred film thicknesses vary from about 200 to 1500 Ångström. _.

Föreliggande uppfinning kommer att framgå ytterligare av nedanstående beskrivning av utföringsexempel.The present invention will be further apparent from the following description of embodiments.

EXEMPEL I Ett glassubstrat upphettas till en temperatur av ca 63500 och bríngas i kontakt med en lösning innehållande två volymdelar dibutyltenndiacetat och en volymdel metanol. En tennoxidbelägg- ning, som är från ca 700 till 800 Å tjock, bildas på glasytan.EXAMPLE I A glass substrate is heated to a temperature of about 6.3500 and brought into contact with a solution containing two parts by volume of dibutyltin diacetate and one part by volume of methanol. A tin oxide coating, which is from about 700 to 800 Å thick, forms on the glass surface.

Det med tennoxid grundade glaset passerar genom en kemisk ångav- sättningskammare innehållande flytande vanadin-isopropylat, som upphettas till 127°C för förångning av organovanadinförening.The tin oxide-based glass passes through a chemical vapor deposition chamber containing liquid vanadium isopropylate, which is heated to 127 ° C to evaporate organovanadine compound.

Organovanadinångorna föres i kväve till det i rörelse varande glassubstratet, som hålles vid en temperatur av ca 530°C. Den på 'glassubstratet bildade vanadinoxidfilmen är gul vid transmission i fluorescerande ljus. Vanadinoxídfílmen uppvisar en övergång över temperaturområdet från ca 55 till 75°C. Den elektriska för- ändringen för denna film är från ca 13000 ohm vid rumstemperatur till ca 5000 ohm över övergångstemperaturområdet. Den därmed sam- manhängande optiska förändringen visas i figur 1. __EXEMPEL II Vanadin-ísopropylat upphettas till 127°C i en kemisk ång- avsättningskammare. Organovanadinångorna föres i kväve till ett 1 rörelse varande glassubstrat, som är förupphettat till en tempera- 10 15 20 ZS 461 980 tur av ca 400°C, för avsättning av en vanadinoxidfilm på det icke grundade glassubstratet. Det belagda glaset kyles till rumstempe- ratur i luft, vilket resulterar i en vanadinoxidkomposition inne- hållande V205. VZOS-filmen reduceras till termokrom V02 genom upp- hettning vid en temperatur av från ca 450 till 463°C i ca 23 minu- ter i en formningsgasatmosfär innehållande ett aromatiskt kolväte (erhållen genom upphettning till 160°C på ett bad av Califlux TT, som är en processolja saluförd av Witco Chemical Corp., Los Angeles, Californien). V02-filmen uppvisar en elektrisk förändring från mer än 105 ohm vid rumstemperatur till ca 500 till 800 ohm över 68°C med en optisk förändring till mindre än 10 % transmittans av solstrålning mellan 0,8 och 2,2 pm, såsom visas i figur 2.The organovanadine vapors are fed in nitrogen to the moving glass substrate, which is maintained at a temperature of about 530 ° C. The vanadium oxide film formed on the glass substrate is yellow when transmitted in fluorescent light. The vanadinoxide film shows a transition over the temperature range from about 55 to 75 ° C. The electrical change for this film is from about 13,000 ohms at room temperature to about 5,000 ohms above the transition temperature range. The associated optical change is shown in Figure 1. EXAMPLE II Vanadium isopropylate is heated to 127 ° C in a chemical vapor deposition chamber. The organovanadine vapors are passed in nitrogen to a moving glass substrate, which is preheated to a temperature of about 400 ° C, to deposit a vanadium oxide film on the unfounded glass substrate. The coated glass is cooled to room temperature in air, resulting in a vanadium oxide composition containing V 2 O 5. The VZOS film is reduced to thermochrome VO 2 by heating at a temperature of from about 450 to 463 ° C for about 23 minutes in a forming gas atmosphere containing an aromatic hydrocarbon (obtained by heating to 160 ° C on a Califlux TT bath). which is a process oil marketed by Witco Chemical Corp., Los Angeles, California). The VO 2 film exhibits an electrical change from more than 105 ohms at room temperature to about 500 to 800 ohms above 68 ° C with an optical change to less than 10% transmittance of solar radiation between 0.8 and 2.2 μm, as shown in Figure 2.

EXEMPEL III Vanadin-n-propylat upphettas till 127°C till bildning av ångor, vilka föres i kväve till ett i rörelse varande glassubstrat, som är föruppvärmt till en temperatur av ca 530°C. En ledande vana- dinoxid (V203)-film bildas på glassubstratet. Det belagda glaset kyles i en atmosfär av formningsgas. Vanadinoxidfilmen är grå vid transmission i fluorescerande ljus och uppvisar en resistans vid rumstemperatur av ca 150 till 190 ohm per kvadrat vid en tjocklek som ger tydlig transmittans av ca 24 %.EXAMPLE 3 Vanadium n-propylate is heated to 127 ° C to form vapors which are passed in nitrogen to a moving glass substrate which is preheated to a temperature of about 530 ° C. A conductive vanadium oxide (V 2 O 3) film is formed on the glass substrate. The coated glass is cooled in an atmosphere of forming gas. The vanadium oxide film is gray when transmitted in fluorescent light and has a resistance at room temperature of about 150 to 190 ohms per square at a thickness that gives a clear transmittance of about 24%.

EXEMPEL IV En klar skiva av flytglas nedsänkes i en lösning innehål- lande en volymdel vanadin-isopropylat, tre volymdelar 2-propanol och ca 4 g per liter av WOCI4 vid rumstemperatur. Glaset upptages och hydrolys får fortskrida i omgivande luft till bildning av en klar film, som blir gul vid transmission. Det belagda glaset upp- hettas därefter till 375°C i formningsgas. Under en period av 1 minut exponeras det belagda glaset för kolväteångor, som medfö- res av en ström av formningsgas. Kolväteångorna erhålles genom upphettning till 160°C av ett bad av Califlux TT, som är en pro- cessolja saluförd av Witco Chemical Corp., LosAngeles, Califor- nien. Det resulterande med vanadinoxid (V02) belagda glaset upp- visar optisk förändring såsom visas i figur 3 och har en övergångs- temperatur såsom visas i figur 4.EXAMPLE IV A clear sheet of float glass is immersed in a solution containing one part by volume of vanadium isopropylate, three parts by volume of 2-propanol and about 4 g per liter of WOCl 4 at room temperature. The glass is taken up and hydrolysis is allowed to proceed in ambient air to form a clear film, which turns yellow on transmission. The coated glass is then heated to 375 ° C in forming gas. For a period of 1 minute, the coated glass is exposed to hydrocarbon vapors, which are carried by a stream of forming gas. The hydrocarbon vapors are obtained by heating to 160 ° C a bath of Califlux TT, which is a process oil marketed by Witco Chemical Corp., Los Angeles, California. The resulting vanadium oxide (VO 2) coated glass exhibits optical change as shown in Figure 3 and has a transition temperature as shown in Figure 4.

Ovanstående exempel ges i syfte att illustrera föreliggande uppfinning. Olika andra substrat, såsom borsilikatglas, kan ock- så användas vid framställning av vanadinoxidfilmer enligt förelig- gande uppfinning. Andra organovanadinföreningar, såsom vanadin- 10 15 20 25 30 35 9 461 980 etylat och -butylat samt vanadinoxiklorid, VOCl3, kan också använ- das. Efter-avsättningsreduktion av V2O5 kan undvikas genom inför- livande av ett reduktionsmedel, såsom ett aromatiskt kolväte, i atmosfären i kammaren under avsättning. Andra dopämnen såsom niob-, molybden-, iridium- och tantalföreningar, liksom även andra volfram- föreningar, kan också användas. Den kemiska ångavsättningsmetoden enligt föreliggande uppfinning är speciellt användbar för belägg- ning av en i rörelse varande remsa av glas, såsom vid en konti- nuerlig flytglasprocess. Användbara metoder och apparater för ke- misk ångavsättning beskrivs i de amerikanska patentskrifterna 3.850,679 och 3,951.100, vars innehåll härmed upptages i förelig- gande text. Olika atmosfärer kan användas; oxiderande atmosfärer såsom luft, inerta atmosfärer såsom kväve eller argon samt reduce- rande atmosfärer såsom formningsgas eller andra blandningar av inert gas och reduktionsmedel. Andra beläggningsmetoder, såsom vakuumavsättning, kan användas. De termokroma V02-filmerna använ- des företrädesvis i fönsterenheter med ett flertal rutor för sol- energireglering genom variabel transmittans av infraröd strålning.The above examples are given for the purpose of illustrating the present invention. Various other substrates, such as borosilicate glass, can also be used in the manufacture of vanadium oxide films of the present invention. Other organovanadine compounds, such as vanadium ethylate and butylate and vanadium oxychloride, VOCl3, can also be used. Post-deposition reduction of V 2 O 5 can be avoided by incorporating a reducing agent, such as an aromatic hydrocarbon, into the atmosphere of the chamber during deposition. Other dopants such as niobium, molybdenum, iridium and tantalum compounds, as well as other tungsten compounds, may also be used. The chemical vapor deposition method of the present invention is particularly useful for coating a moving strip of glass, such as in a continuous float glass process. Useful methods and apparatus for chemical vapor deposition are described in U.S. Pat. Nos. 3,850,679 and 3,951,100, the contents of which are hereby incorporated by reference. Different atmospheres can be used; oxidizing atmospheres such as air, inert atmospheres such as nitrogen or argon and reducing atmospheres such as forming gas or other mixtures of inert gas and reducing agent. Other coating methods, such as vacuum deposition, can be used. The thermochromic V02 films are preferably used in window units with a plurality of panes for solar energy control by variable transmittance of infrared radiation.

En föredragen flerglasenhetskonfiguration beskrivs i US-A 3.919.023, vars innehåll härmed upptages i föreliggande text.A preferred multi-glass unit configuration is described in US-A 3,919,023, the contents of which are hereby incorporated into the present text.

Omfattningen av föreliggande uppfinning definieras genom följan- de patentkrav.The scope of the present invention is defined by the following claims.

Claims (14)

/0 461 980 PATENTKRAV/ 0 461 980 PATENT CLAIMS 1. Förfarande för kemisk ångavsättníng av vanadinoxid- filmer, k ä n n e t e c k n a t av att man: a. upphettar ett glassubstrat till tillräcklig temperatur för omvandling av en organovanadinförening till vanadinoxid; b. förångar en flytande organovanadinförening; c. bringar en yta av det upphettade glassubstratet i kon- takt med ångan av nämnda vanadinförening för avsättning av en vanadinoxidfilm på glasytan.A process for the chemical vapor deposition of vanadium oxide films, characterized in that: a. Heating a glass substrate to a sufficient temperature for the conversion of an organovanadine compound to vanadium oxide; b. vaporizes a liquid organovanadine compound; c. contacting a surface of the heated glass substrate with the steam of said vanadium compound to deposit a vanadium oxide film on the glass surface. 2. Förfarande enligt krav 1, k å n n e t e c k n a t av att vanadinföreningen är vanadin-isopropylat.A process according to claim 1, characterized in that the vanadium compound is vanadium isopropylate. 3. Förfarande enligt krav 1 eller 2, k ä n n e t e c k - n a t av att man belägger glassubstratet med ett grundníngsskikt valt ur gruppen bestående av tennoxid, kisel och titanoxid före den kemiska ångavsättningen av vanadinoxid.3. Process according to claim 1 or 2, characterized in that the glass substrate is coated with a primer layer selected from the group consisting of tin oxide, silicon and titanium oxide before the chemical vapor deposition of vanadium oxide. 4. Förfarande enligt krav 2 eller 3, k ä n n e t e c k - n a t av att det förångade vanadin-isopropylatet bríngas i kontakt med glasytan i icke-oxiderande atmosfär och att en termo- krom film innehållande V02 bildas. p4. A process according to claim 2 or 3, characterized in that the vaporized vanadium isopropylate is brought into contact with the glass surface in a non-oxidizing atmosphere and that a thermochromic film containing VO 2 is formed. p 5. Förfarande enligt något av kraven 1-3, k ä n n e - t e c k n a t av att vanadinföreningen och glassubstratet ut- sättes för oxiderande atmosfär och att en film innehållande VZOS bildas.Process according to one of Claims 1 to 3, characterized in that the vanadium compound and the glass substrate are exposed to an oxidizing atmosphere and that a film containing VZOS is formed. 6. Förfarande enligt krav 5, k ä n n e t e c k n a t av att det V205-belagda glaset vidare exponeras för reducerande atmosfär för reduktion av VZOS till V02.The method of claim 5, characterized in that the V 2 O 5 coated glass is further exposed to a reducing atmosphere to reduce V 2 O to V 2 O 2. 7. Förfarande enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a t av att organovanadinföreningen är vanadin-n-propylat.7. A process according to claim 1, characterized in that the organovanadine compound is vanadium n-propylate. 8. Förfarande enligt krav 7, k ä n n e t e c k n a t av att det vanadínoxidbelagda glaset exponeras för icke-oxide- rande atmosfär och att en elektriskt ledande film innehållande vzos bildas. \A method according to claim 7, characterized in that the vanadium oxide coated glass is exposed to a non-oxidizing atmosphere and that an electrically conductive film containing vzos is formed. \ 9. Förfarande enligt något av de föregående kraven, k ä n n e t e c k n a t av att vanadinoxidfilmen avsättes till en tjocklek av från ca 100 till 1500 Ångström.9. A method according to any one of the preceding claims, characterized in that the vanadium oxide film is deposited to a thickness of from about 100 to 1500 Angstroms. 10. Förfarande enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a t av att glassubstratet upphettas till en temperatur av minst ca 350°C, att den flytande organovanadinföreningen är vanadin- -isopropylat, att det föràngade vanadín-isopropylatet transpor- lll ” 461 980 teras till glasytan och bringar det i kontakt därmed i icke-oxi- derande atmosfär samt att det vanadinoxidbelagda glaset kyles i reducerande atmosfär för erhållande av en termokrom film innehållande V02.Process according to Claim 1, characterized in that the glass substrate is heated to a temperature of at least about 350 ° C, in that the liquid organovanadine compound is vanadium isopropylate, in that the evaporated vanadium isopropylate is transported to the glass surface and contacting it therewith in a non-oxidizing atmosphere and cooling the vanadium oxide coated glass in a reducing atmosphere to obtain a thermochromic film containing VO 2. 11. Förfarande enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a t av att glassubstratet upphettas till en temperatur av minst SOOOC, att organovanadinföreningen är vanadin-ísopropylat; att den förångade vanadinföreningen transporteras i en inert gas, och att det vanadinoxidbelagda glaset kyles i luft för erhållande av en film innehållande V205.A process according to claim 1, characterized in that the glass substrate is heated to a temperature of at least SOOOC, that the organovanadine compound is vanadium isopropylate; that the vaporized vanadium compound is transported in an inert gas, and that the vanadium oxide coated glass is cooled in air to obtain a film containing V 2 O 5. 12. Förfarande enligt krav 11, k ä n n e t e c k n a t av att VZOS reduceras till V02 i reducerande atmosfär.12. A method according to claim 11, characterized in that VZOS is reduced to VO 2 in a reducing atmosphere. 13. Förfarande enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a t av att organovanadinföreningen är vanadin-n-propylat, och att det förångade vanadin-n-propylatet transporteras till och bringas i kontakt med glasytan i en atmosfär som är tillräck- ligt oxiderande för att bilda en film av V02 men otillräckligt oxiderande för att bilda en film som ej är termokrom som en följd av andelen av V205.Process according to claim 1, characterized in that the organovanadine compound is vanadium n-propylate, and that the evaporated vanadium n-propylate is transported to and brought into contact with the glass surface in an atmosphere sufficiently oxidizing to form a film of V02 but insufficiently oxidizing to form a film that is not thermochromic due to the proportion of V205. 14. Förfarande för framställning av en ledande belagd glasdetalj, k ä n n e t e'c k n a t av att man: a. upphettar ett glassubstrat till en temperatur av minst ca 40000; b. förångar vanadin-n-propylat; c. transporterar det förångade vanadin-n-propylatet till substratet i en ström av kväve; d. bringar en yta av det upphettade glassubstratet i kontakt med det förångade vanadin-n-propylatet för avsättning av en film innehållande V203 därpå; och e. kyler den belagda glasdetaljen i en atmosfär som är otillräckligt oxiderande för att omvandla V203 till V02.14. A process for producing a conductive coated glass part, characterized in that: a. Heating a glass substrate to a temperature of at least about 40,000; b. vaporizes vanadium n-propylate; c. transporting the vaporized vanadium n-propylate to the substrate in a stream of nitrogen; d. contacting a surface of the heated glass substrate with the vaporized vanadium n-propylate to deposit a film containing V 2 O 3 thereon; and e. cooling the coated glass particle in an atmosphere that is insufficiently oxidizing to convert V 2 O 3 to VO 2.
SE8300497A 1982-02-01 1983-01-31 PROCEDURES FOR CHEMICAL INDICATION OF VANADINOXIDE FILMS SE461980B (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/344,257 US4393095A (en) 1982-02-01 1982-02-01 Chemical vapor deposition of vanadium oxide coatings
US06/344,860 US4400412A (en) 1982-02-01 1982-02-01 Thermochromic vanadium oxide coated glass
US06/344,906 US4401690A (en) 1982-02-01 1982-02-01 Thermochromic vanadium oxide with depressed switching temperature

Publications (3)

Publication Number Publication Date
SE8300497D0 SE8300497D0 (en) 1983-01-31
SE8300497L SE8300497L (en) 1983-08-02
SE461980B true SE461980B (en) 1990-04-23

Family

ID=27407607

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE8300497A SE461980B (en) 1982-02-01 1983-01-31 PROCEDURES FOR CHEMICAL INDICATION OF VANADINOXIDE FILMS
SE8803445A SE462801B (en) 1982-02-01 1988-09-28 PROCEDURE FOR PREPARING A THERMOCROME WINDOW

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE8803445A SE462801B (en) 1982-02-01 1988-09-28 PROCEDURE FOR PREPARING A THERMOCROME WINDOW

Country Status (7)

Country Link
AU (2) AU546405B2 (en)
DE (2) DE3347918C2 (en)
ES (1) ES8504643A1 (en)
FR (1) FR2520727B1 (en)
GB (1) GB2114965B (en)
IT (1) IT1160718B (en)
SE (2) SE461980B (en)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0314330B1 (en) * 1987-10-26 1993-10-06 Pfizer Inc. Microbiological process for making uk-61.689 and microorganisms useful therefor
DE19613221C2 (en) * 1996-04-02 2001-02-22 Fraunhofer Ges Forschung Sun protection glazing
ES2180308T3 (en) 1998-06-03 2003-02-01 Bruno K Meyer THERMOCROMIC COATING.
GB9822338D0 (en) * 1998-10-13 1998-12-09 Glaverbel Solar control coated glass
CN1327467A (en) * 1999-08-24 2001-12-19 皇家菲利浦电子有限公司 Substrate provided with a layer of thermochromic oxide
FR2809388B1 (en) 2000-05-23 2002-12-20 Saint Gobain Vitrage GLAZING COMPRISING AT LEAST ONE LAYER WITH THERMOCHROMIC PROPERTIES
GB0614545D0 (en) 2006-07-21 2006-08-30 Univ London Coating Film
DE102007061272A1 (en) * 2007-12-19 2009-06-25 Schott Ag Thermo-chromatic layers based on glass or ceramic glass substrate e.g. electrically heated kitchen oven hotplate surface
US8100190B2 (en) 2009-08-11 2012-01-24 Halliburton Energy Services, Inc. Methods for swelling swellable elements in a portion of a well using a water-in-oil emulsion
US11292962B2 (en) 2011-09-29 2022-04-05 The Research Foundation For The State University Of New York Doped nanoparticles and methods of making and using same
KR101278058B1 (en) * 2011-12-08 2013-06-24 삼성코닝정밀소재 주식회사 Manufacturing method of thermochromic glass
DE102012012219B4 (en) * 2012-06-21 2014-12-24 Justus-Liebig-Universität Giessen Thermochromic layer for glass, process for producing a thermochromic layer and use of a thermochromic layer
DE102020132629A1 (en) 2020-01-07 2021-07-08 Taniobis Gmbh Tungsten (VI) oxide tetrachloride of high purity and process for its production

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3410710A (en) * 1959-10-16 1968-11-12 Corning Glass Works Radiation filters
US3438803A (en) * 1965-05-18 1969-04-15 Anchor Hocking Glass Corp Method and means for vapor coating
US3483110A (en) 1967-05-19 1969-12-09 Bell Telephone Labor Inc Preparation of thin films of vanadium dioxide
CH504006A (en) * 1969-01-30 1971-02-28 Pilkington Brothers Ltd Optical filter
US3951100A (en) * 1972-12-15 1976-04-20 Ppg Industries, Inc. Chemical vapor deposition of coatings
IT996924B (en) * 1972-12-21 1975-12-10 Glaverbel PROCEDURE FOR FORMING A LAYER OF METALLIC OXIDE
US3914515A (en) * 1973-07-16 1975-10-21 Rca Corp Process for forming transition metal oxide films on a substrate and photomasks therefrom
US4307942A (en) * 1974-05-20 1981-12-29 The Southwall Corporation Solar control system

Also Published As

Publication number Publication date
AU546405B2 (en) 1985-08-29
FR2520727B1 (en) 1986-02-07
AU559271B2 (en) 1987-03-05
SE462801B (en) 1990-09-03
SE8300497L (en) 1983-08-02
AU4481785A (en) 1985-10-31
SE8300497D0 (en) 1983-01-31
DE3347918A1 (en) 1985-05-15
DE3347918C2 (en) 1989-02-09
GB2114965B (en) 1985-08-29
IT1160718B (en) 1987-03-11
DE3303154A1 (en) 1983-08-11
IT8319371A0 (en) 1983-01-31
ES519443A0 (en) 1985-04-16
SE8803445L (en) 1988-09-28
DE3303154C2 (en) 1989-08-03
FR2520727A1 (en) 1983-08-05
SE8803445D0 (en) 1988-09-28
GB2114965A (en) 1983-09-01
ES8504643A1 (en) 1985-04-16
AU1085983A (en) 1983-08-11
GB8302654D0 (en) 1983-03-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4393095A (en) Chemical vapor deposition of vanadium oxide coatings
US4401690A (en) Thermochromic vanadium oxide with depressed switching temperature
US4400412A (en) Thermochromic vanadium oxide coated glass
Viirola et al. Controlled growth of tin dioxide thin films by atomic layer epitaxy
US6221495B1 (en) Thin transparent conducting films of cadmium stannate
Wu et al. Recent developments in RF sputtered cadmium stannate films
SE461980B (en) PROCEDURES FOR CHEMICAL INDICATION OF VANADINOXIDE FILMS
US4371740A (en) Conductive elements for photovoltaic cells
US4349425A (en) Transparent conductive films and methods of producing same
CN101980986A (en) Transparent conductive oxide coating for thin film photovoltaic applications and methods of making the same
Fan Sputtered films for wavelength-selective applications
CN102348659B (en) Thin film deposition method
KR20150132174A (en) Nitrogen-containing transparent conductive oxide cap layer composition
US5387481A (en) Method of preparing a switchable shield
CN100423136C (en) Transparent conductive substrate, process for producing the same and photoelectric converter
EP0353461B1 (en) Chemical vapor deposition of bismuth oxide
US5103103A (en) Microwave shield
KR102101645B1 (en) Automatic temperature-adaptive thermal-sensitive coating thin-film and manufacturing method thereof
Korotkov et al. Atmospheric plasma discharge chemical vapor deposition of SnOx thin films using various tin precursors
Reisfeld et al. Electrochromic glasses prepared by the sol–gel method
Andersson et al. High stability titanium nitride based solar control films
SE514055C2 (en) Glazing panel with sun-filtering properties and process for making the same
Nair et al. SnS Sno2 conversion of chemically deposited SnS thin films
JPS6314323B2 (en)
JP2002133956A (en) Adjusting method for sheet resistance value of transparent conductive film and forming method for transparent conductive film

Legal Events

Date Code Title Description
NUG Patent has lapsed

Ref document number: 8300497-8

Effective date: 19920904

Format of ref document f/p: F