SE431197B - Sett att genom hydrolys av kiseltetrafluorid i en laga framstella hogaktiv kiseldioxid med en partikelstorlek av 5-50 nm - Google Patents

Sett att genom hydrolys av kiseltetrafluorid i en laga framstella hogaktiv kiseldioxid med en partikelstorlek av 5-50 nm

Info

Publication number
SE431197B
SE431197B SE8008769A SE8008769A SE431197B SE 431197 B SE431197 B SE 431197B SE 8008769 A SE8008769 A SE 8008769A SE 8008769 A SE8008769 A SE 8008769A SE 431197 B SE431197 B SE 431197B
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
silica
cooling
reaction products
cooler
flame
Prior art date
Application number
SE8008769A
Other languages
English (en)
Other versions
SE8008769L (sv
Inventor
Gosta Lennart Flemmert
Original Assignee
Flemmert Goesta Lennart
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Flemmert Goesta Lennart filed Critical Flemmert Goesta Lennart
Priority to SE8008769A priority Critical patent/SE431197B/sv
Priority to CA000391731A priority patent/CA1175638A/en
Priority to EP81850242A priority patent/EP0054531B1/en
Priority to DE8181850242T priority patent/DE3169469D1/de
Priority to JP56200785A priority patent/JPS57145022A/ja
Publication of SE8008769L publication Critical patent/SE8008769L/sv
Publication of SE431197B publication Critical patent/SE431197B/sv
Priority to US06/594,150 priority patent/US4572827A/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/181Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process
    • C01B33/183Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process by oxidation or hydrolysis in the vapour phase of silicon compounds such as halides, trichlorosilane, monosilane
    • C01B33/184Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process by oxidation or hydrolysis in the vapour phase of silicon compounds such as halides, trichlorosilane, monosilane by hydrolysis of tetrafluoride
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J12/00Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor
    • B01J12/005Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor carried out at high temperatures, e.g. by pyrolysis
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/181Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process
    • C01B33/183Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process by oxidation or hydrolysis in the vapour phase of silicon compounds such as halides, trichlorosilane, monosilane
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B7/00Halogens; Halogen acids
    • C01B7/19Fluorine; Hydrogen fluoride
    • C01B7/191Hydrogen fluoride
    • C01B7/193Preparation from silicon tetrafluoride, fluosilicic acid or fluosilicates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12Surface area
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/22Rheological behaviour as dispersion, e.g. viscosity, sedimentation stability
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80Compositional purity

Description

8008769-5 festy, T.O. Farr och J.C. Brosheer (Ind. Eng. Chem. gg (1952) 1448).
I fig. l visas procentuella omsättningen av kiseltetrafluor- id vid varierande temperatur och tre olika överskott av vat- tenånga.
För att eliminera de ovan påtalade svårigheterna och för att möjliggöra framställning av kiseldioxid med hög specifik yta samtidigt som en tillfredsställande omsättningsgrad erhålles har chockkylning av de från lågan kommande reaktionsproduk- terna föreslagits i svenska patentet nr. 227 783. För kyl- ningen används företrädesvis avgaser från lâgan, vilka be- friats från sin halt av kiseldioxid och som kylts till ca. 1so°c. “ Den ovan föreslagna metoden fungerar tillfredsställande så till vida att den möjliggör produktion av kiseldioxid av tillfredsställande kvalitet och acceptabel omsättningsgrad.
All kiseldioxid som hittills producerats i kommersiell ska- la ur kiseltetrafluorid har framställts med utnyttjande av denna metod. " Metoden har emellertid väsentliga nackdelar, som blir spe- ciellt påtagliga då man försöker konstruera_apparatenheter med hög produktionskapacitet, t.ex. över 100 kg kiseldioxid per apparatenhet och timme. För kylning av reaktionsproduk- terna används vanligen 3 ä 4 gånger mer kylgas än vad som bildas i lågan, vilket innebär att stoftavskiljningsappara- turen blir stor och dyrbar. Vidare förlängs uppehållstiden före stoftavskiljningen avsevärt åtminstone vid hög kapaci- tet, vilket förorsakar försämring av såväl kvaliteten som utbytet. ' Försök har gjorts att kyla de kiseldioxidhaltiga avgaserna' från förbränningsprocessen med hjälp av konventionellt kon- struerade gaskylare. Härvid har det emellertid visat sig att 8008769-'5 kiseldioxid fastnar på kylytorna, vilket medför att värme- överföringen blir dålig och att kiseldioxidens kvalitet allvarligt försämras.
Det har nu överraskande visat sig att de ovan angivna nack- delarna kan elimineras och att kiseldioxid av god kvalitet och med gott utbyte kan framställas i stora apparatenheter om de från lâgan kommande reaktionsprodukterna snabbt kyls till en temperatur under 700°C i kylare med släta kylytor, som är orienterade parallellt med gasens strömningsriktning och i vilka den strömmande gasens Reynoldska tal är högre än 300.
Det är lämpligt att avgaserna och den medföljande kiseldi- oxiden leds direkt till kylaren, varigenom tiden från det att reaktionsprodukterna lämnar lågan tills de införs i ky- laren kan nedbringas till l sekund eller därunder, även vid användning av stora apparatenheter.
Kylytorna kan utformas på olika sätt, trex. som tubkylare eller plattkylare. Det väsentliga är att den kiseldioxidhal- tiga gasen leds parallellt med kylytorna, att dessa är släta och att det Reynoldska talet hålls över 300. Att kylytorna skall vara "släta" innebär att dessa ej får uppvisa några organ eller oregelbundenheter som väsentligen förhindrar en fri strömning av gasen genom kylaren.
Om det Reynoldska talet understiger 300 finns risk för att kiseldioxid utfälls på kylytorna, vilket i hög grad minskar värmeöverföringen. Kiseldioxid, som fastnat på värmeöver- föringsytorna, omvandlas successivt till grovkorniga, hår- da kruster, vilka efter någon tid lossnar från kylytorna och inblandas i den ordinarie produkten. Härvid ökas kisel- dioxidens halt av stora partiklar, så kallade grits, vilket vid många användningsområden är en väsentlig nackdel. 8008769-5 Kylytorna kyls enligt kända metoder, t.ex. med strömmande gas eller med någon lämpligt vald kylvätska. Speciellt lämp- ligt har det visat sig vara att kyla med kokande vatten, som eventuellt står under tryck. Kokande vatten ger nämli- gen ett mycket högt värmeöverföringstal, varjämte vatten- ånga produceras, vilken kan användas t.ex. för separering av det fluorväte som bildas vid processen.
Kylningen bör vara så effektiv att kylytorna hålls under 400°C, eftersom risk för kiseldioxidavsättning annars upp- står. Å andra sidan är det väsentligt att kylytorna ej kyls under avgasernas daggpunkt, vilken vanligen ligger vid ca 80°C, eftersom risk för bildning av kondens och korrosion annars uppstår.
Kylytornas storlek avpassas så att avgaserna kyls till en, temperatur, som ligger under 700°C, företrädesvis till en temperatur mellan 500°C och l50°C.
De från kylaren kommande avgaserna och den medföljande ki- seldioxiden införs i en stoftavskiljare av känt slag. Lämp- ligen kan seriekopplade cykloner användas i enlighet med vad som anges i svenska patentet nr. 227 783.
Eftersom avgaserna i enlighet med föreliggande metod ej har spätts ut med kylgas blir kapaciteten hos stoftavskiljnings- apparaturen stor samtidigt som ett högt procentuellt utbyte av kiseldioxid erhålls.
Sedan kiseldioxiden separerats och tillvaratagits kan även avgasernas halt av fluorväte och kiseltetrafluorid tillvara- tas, t.ex. genom absorption i vatten, varefter rent vatten- fritt fluorväte kan utvinnas, t.ex. enligt den metod som an- ges i svenska patentet nr. 396 060.
Med hänvisning till figur 2 lämnas nedan en beskrivning hur uppfinningen lämpligen kan utföras. aoos769-5 I brännare l inleds bränngas, kiseltetrafluorid och luft i lämpliga proportioner. Brännaren kan konstrueras och för- bränningsprocessen genomföras enligt kända metoder,'t.ex. i enlighet med vad som anges i svenska patentet nr. 200 958.
Från brännaren leds de kiseldioxidhaltiga avgaserna via brännkammaren 2 till kylaren 3. Denna är utrustad med raka, släta kyltuber, inuti vilka de stoftförande gaserna leds.
Kyltuberna är omgivna av kokande vatten, som står under 6 bar övertryck, vilket innebär att vattnets temperatur är ca l60°C. Vid passagen av kylaren kyls reaktionsprodukterna till 200 ä600°C, beroende på belastningen av apparaturen.
Hela förloppet från det att reaktionsprodukterna lämnar lå- gorna tills de vid relativt låg temperatur lämnar kylaren sker normalt på mindre än l sekund.
Från kylaren 3 leds reaktionsprodukterna till tre seriekopp- lade cykloner 4, i vilka kiseldioxiden kontinuerligt avskiljs och tillvaratas.
De från kiseldioxid renade avgaserna leds till ett absorp- tionstorn (ej visat i figur 2), där gasernas halt av fluor- väte och kiseltetrafluorid tillvaratas.
Uppfinningen åskådliggörs närmare medelst följande utförings- exempel.
Utföringsexempel I en apparatur enligt figur 2 tillfördes brännaren följande gasflöden: Bränngas (89,0% H2+ll,O%CH4) 1170 m3/h 20°C Kiseltetrafluorid 149 “ " II II De från brännaren kommande avgaserna kyldes i kylaren 3 till 8008769-5 620°C. Kylaren bestod av raka tuber med en invändig diameter av 40 mm. Gasen leddes inne i tuberna med en ingångshastig- het av 55 m/s, vilket gav ett Reynolds tal av 6200.
På utsidan var tuberna omgivna av kokande vatten, som stod under 6 bar övertryck, vilket gav en temperatur av 160°C på den utgående ångan.
De från kylaren kommande reaktionsprodukterna infördes i tre seriekopplade cykloner, där kiseldioxiden kontinuerligt av- skildes. Per timme erhölls 316 kg kiseldioxid med följande egenskaper: Spec. yta m2/g n 212 Förtjockningstal " l93 Gritshalt ppm 31 Det i tabellen angivna förtjockningstalet bestämdes på föl- jande sätt: l viktdel kiseldioxid blandas med 100 viktdelar polyester, (eftersom opolymeriserad polyester ur kommersiell synpunkt är viktigast har denna vätska valts för bestämningen),varef- ter kiseldioxiden dispergeras omsorgsfullt med hjälp av en kolloidkvarn. viskositeten hos den erhållna blandningen bestämmes med hjälp av en Brookfield viskosimeter LVT vid l2 r/min och 25°C. Enligt samma metod bestämmes viskositeten för en blandning av polyester och "normal" kiseldioxid. Det- ta standardprov användes genomgående för alla mätningarna i utföringsexemplen. viskositeten för provet x l0O viskositeten för standardprovet Förtjockningstal = Den kiseldioxid som hittills framställts genom hydrolys av kiseltetrafluorid i lågor har haft förtjockningstal av 60- -120.

Claims (5)

8008769-5
1. De i tabellen ovan angivna värdena innebär att apparaturens kapacitet är hög samt att den producerade kiseldioxidens kvalitet är utomordentligt god med hög förtjockningsförmå- ga och låg gritshalt. Vidare är utbytet högt, 85 % av det stökiometriskt maximala utbytet.
2. Jämförelseförsök
3. Som jämförelse har försök utförts med chockkylning av de från lâgan kommande reaktionsproukterna med hjälp av åter- förda avgaser enligt svenska patentet nr. 227 783. I samma brännkammare och samma stoftavskiljningsapparatur som ovan beskrivits kunde därvid maximalt framställas 108 kg kisel- aioxld per timme. Den erhållna kiueldioxiden hade en upoci~ fik yta av 210 m2/g och ett förtjockningstal av ll6. Omsätt- ningen av kiseltetrafluorid till kiseldioxid minskade samti- digt till 70 %.
4. Patentkrav l. Sätt att genom hydrolys av kiseltetrafluorid i en låga framställa högaktiv kiseldioxid med en partikelstorlek av
5. -50 nm, k ä n n e t e c k n a t därav, att de från lågan kommande reaktionsprodukterna snabbt kyls till en temperatur under 700°C i en kylare med släta kylytor, som är orientera- de parallellt med gasens strömningsriktning och i vilken det Reynoldska talet hålls över 300. 2. Sätt enligt krav l, k ä n n e t e c k n a t därav, att kylaren är en tubkylare och att de från lågan kommande reak- tionsprodukterna leds inuti kyltuberna. 3. Sätt enligt krav 2, k ä n n e t e c k n a t därav, att kyltuberna omges av kokande vatten som kylmedium.
SE8008769A 1980-12-12 1980-12-12 Sett att genom hydrolys av kiseltetrafluorid i en laga framstella hogaktiv kiseldioxid med en partikelstorlek av 5-50 nm SE431197B (sv)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE8008769A SE431197B (sv) 1980-12-12 1980-12-12 Sett att genom hydrolys av kiseltetrafluorid i en laga framstella hogaktiv kiseldioxid med en partikelstorlek av 5-50 nm
CA000391731A CA1175638A (en) 1980-12-12 1981-12-08 Process and apparatus for preparing finely-divided silicon dioxide in good yield
EP81850242A EP0054531B1 (en) 1980-12-12 1981-12-11 Process and apparatus for preparing finely-divided silicon dioxide in good yield
DE8181850242T DE3169469D1 (en) 1980-12-12 1981-12-11 Process and apparatus for preparing finely-divided silicon dioxide in good yield
JP56200785A JPS57145022A (en) 1980-12-12 1981-12-12 Manufacture of fine powder silicon dioxide at high yield rate and apparatus therefor
US06/594,150 US4572827A (en) 1980-12-12 1984-10-18 Process for preparing finely-divided silicon dioxide in good yield

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE8008769A SE431197B (sv) 1980-12-12 1980-12-12 Sett att genom hydrolys av kiseltetrafluorid i en laga framstella hogaktiv kiseldioxid med en partikelstorlek av 5-50 nm

Publications (2)

Publication Number Publication Date
SE8008769L SE8008769L (sv) 1982-06-13
SE431197B true SE431197B (sv) 1984-01-23

Family

ID=20342463

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE8008769A SE431197B (sv) 1980-12-12 1980-12-12 Sett att genom hydrolys av kiseltetrafluorid i en laga framstella hogaktiv kiseldioxid med en partikelstorlek av 5-50 nm

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4572827A (sv)
EP (1) EP0054531B1 (sv)
JP (1) JPS57145022A (sv)
CA (1) CA1175638A (sv)
DE (1) DE3169469D1 (sv)
SE (1) SE431197B (sv)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5219761A (en) * 1986-05-20 1993-06-15 Agri-Diagnostics Associates Method and a kit for diagnosing plant diseases
DE4228711A1 (de) * 1992-08-28 1994-03-03 Degussa Silicium-Aluminium-Mischoxid
US6193944B1 (en) 1995-12-08 2001-02-27 Goldendale Aluminum Company Method of recovering fumed silica from spent potliner
US6217840B1 (en) 1995-12-08 2001-04-17 Goldendale Aluminum Company Production of fumed silica
US6248302B1 (en) 2000-02-04 2001-06-19 Goldendale Aluminum Company Process for treating red mud to recover metal values therefrom
DE102006052586B4 (de) * 2006-11-08 2008-07-03 Schott Solar Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung der Abgase einer Siliziumdünnschicht-Produktionsanlage
CN112390523A (zh) * 2019-08-13 2021-02-23 斯特里特技术有限公司 用于制造气化二氧化硅颗粒的系统
CN115095885B (zh) * 2022-06-06 2024-02-09 中国船舶集团有限公司系统工程研究院 一种组合型多点ldi斜进燃烧室

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2535036A (en) * 1946-09-03 1950-12-26 Cabot Godfrey L Inc Manufacture of finely divided silica
US2819151A (en) * 1954-03-02 1958-01-07 Flemmert Gosta Lennart Process for burning silicon fluorides to form silica
US2789886A (en) * 1954-03-03 1957-04-23 Du Pont Heat exchange process
BE609721A (fr) * 1960-11-03 1962-02-15 Goesta Lennart Flemmert Méthode de récupération du bioxyde de silicium finement divisé obtenu en faisant réagir en phase gazeuse des composés de silicium et de fluor avec de l'eau
US3233969A (en) * 1961-05-29 1966-02-08 Columbian Carbon Process for producing pigmentary silica
US3645684A (en) * 1970-07-01 1972-02-29 Cities Service Co Fractionation of silica aerosols
US4036938A (en) * 1975-08-28 1977-07-19 Reed Richard S Production of high purity hydrogen fluoride from silicon tetrafluoride

Also Published As

Publication number Publication date
JPS57145022A (en) 1982-09-07
DE3169469D1 (en) 1985-04-25
EP0054531A1 (en) 1982-06-23
JPS621321B2 (sv) 1987-01-13
EP0054531B1 (en) 1985-03-20
SE8008769L (sv) 1982-06-13
US4572827A (en) 1986-02-25
CA1175638A (en) 1984-10-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5644109B2 (ja) 硼素含有ガラス製品の製造方法および硼素含有ガラス製品の製造時発生排ガスの浄化方法
EP1414546B1 (en) Process to recover energy from hot gas
KR101292545B1 (ko) 트리클로로실란의 정제 방법 및 정제 장치
SE431197B (sv) Sett att genom hydrolys av kiseltetrafluorid i en laga framstella hogaktiv kiseldioxid med en partikelstorlek av 5-50 nm
US2901326A (en) Separation of hydrogen sulfide and methane
ES2344561T3 (es) Metodo y aparato para la produccion de silice amorfa a partir de silicio y materiales que contienen silicio.
CA2574717A1 (en) A method and equipment for heat recovery
US3203759A (en) Method of preparing silicon dioxide
JP5633142B2 (ja) 多結晶シリコン製造方法及び製造装置
US4292291A (en) Process for the production of furnace black
AU599152B2 (en) A process for the production of vinyl chloride through thermal cracking of 1,2-dichloroethane
SE431196B (sv) Sett att genom hydrolys av kiseltetrafluorid i en laga framstella finfordelad kiseloxid
US8524048B2 (en) Processes for recovering silane from heavy-ends separation operations
EP2624929B1 (en) Processes for purifying silane
US4457902A (en) High efficiency hydrocarbon reduction of silica
JPH0246569B2 (sv)
CN110368785B (zh) 一种解决三氯蔗糖尾气分离过程中产生炭黑以及空气过量的方法
JP2013542163A5 (sv)
JPS6221706A (ja) トリクロルシランを介する珪素または珪素化合物の循環的製造方法
US4324932A (en) Process for the manufacture of vinyl chloride by the thermal cracking of 1,2-dichloroethane
CN207294183U (zh) 一种高纯碳纳米管或石墨粉的高温净化设备
US8524045B2 (en) Systems for purifying silane
CN107337236A (zh) 一种四氯化锆急冷装置及方法
US8524044B2 (en) Systems for recovering silane from heavy-ends separation operations
JPS59112930A (ja) 塩化ビニルモノマ−の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
NAL Patent in force

Ref document number: 8008769-5

Format of ref document f/p: F

NUG Patent has lapsed

Ref document number: 8008769-5

Format of ref document f/p: F