SA109300163B1 - طبقات الطلاء سهلة المعالجة , وطرق تكوين طبقات الطلاء سهلة المعالجة - Google Patents
طبقات الطلاء سهلة المعالجة , وطرق تكوين طبقات الطلاء سهلة المعالجة Download PDFInfo
- Publication number
- SA109300163B1 SA109300163B1 SA109300163A SA109300163A SA109300163B1 SA 109300163 B1 SA109300163 B1 SA 109300163B1 SA 109300163 A SA109300163 A SA 109300163A SA 109300163 A SA109300163 A SA 109300163A SA 109300163 B1 SA109300163 B1 SA 109300163B1
- Authority
- SA
- Saudi Arabia
- Prior art keywords
- substrate
- coating
- low
- acetone
- layer
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 155
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 71
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 title claims abstract description 50
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 132
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 81
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 49
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 48
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 45
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 154
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 150
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 101
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 54
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 46
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 44
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 42
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 40
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 32
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 30
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 27
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 26
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 23
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 23
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 22
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims description 21
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 19
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 238000010606 normalization Methods 0.000 claims description 16
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 13
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 11
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 5
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 5
- DMHKMMLZKROINL-UHFFFAOYSA-N [O-2].[Ti+4].[W+2]=O.[O-2].[O-2] Chemical compound [O-2].[Ti+4].[W+2]=O.[O-2].[O-2] DMHKMMLZKROINL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 210000002469 basement membrane Anatomy 0.000 claims description 2
- 238000010792 warming Methods 0.000 claims description 2
- 210000004379 membrane Anatomy 0.000 claims 8
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims 8
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims 4
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 claims 3
- 235000006679 Mentha X verticillata Nutrition 0.000 claims 1
- 235000002899 Mentha suaveolens Nutrition 0.000 claims 1
- 235000001636 Mentha x rotundifolia Nutrition 0.000 claims 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 abstract description 102
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 158
- 239000010408 film Substances 0.000 description 141
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 64
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 41
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 37
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 33
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 33
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 18
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 18
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 17
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 17
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 17
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 17
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 17
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 16
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 16
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 14
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 13
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 13
- -1 tungsten oxides titanium oxide Chemical class 0.000 description 13
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 11
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 10
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000005347 annealed glass Substances 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 9
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 7
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 7
- 238000007592 spray painting technique Methods 0.000 description 7
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 6
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 230000016507 interphase Effects 0.000 description 5
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 5
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 5
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 5
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 4
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000251468 Actinopterygii Species 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N alumanylidynesilicon Chemical compound [Al].[Si] CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N oxotungsten Chemical class [W]=O VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 230000029553 photosynthesis Effects 0.000 description 2
- 238000010672 photosynthesis Methods 0.000 description 2
- 230000000243 photosynthetic effect Effects 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 238000009718 spray deposition Methods 0.000 description 2
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 2
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 2
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 2
- MAKDTFFYCIMFQP-UHFFFAOYSA-N titanium tungsten Chemical compound [Ti].[W] MAKDTFFYCIMFQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 2
- SGTNSNPWRIOYBX-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-{[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethyl](methyl)amino}-2-(propan-2-yl)pentanenitrile Chemical compound C1=C(OC)C(OC)=CC=C1CCN(C)CCCC(C#N)(C(C)C)C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 SGTNSNPWRIOYBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920004943 Delrin® Polymers 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- 229920002449 FKM Polymers 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000002151 Microfilament Proteins Human genes 0.000 description 1
- 108010040897 Microfilament Proteins Proteins 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000795633 Olea <sea slug> Species 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 235000005311 Pandanus odoratissimus Nutrition 0.000 description 1
- 240000002390 Pandanus odoratissimus Species 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003087 TiOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011111 UV-scan method Methods 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPBPKFIZNWQANG-UHFFFAOYSA-N [F].[Sn] Chemical compound [F].[Sn] VPBPKFIZNWQANG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWKWDCOTNGQLID-UHFFFAOYSA-N [N].[Ar] Chemical compound [N].[Ar] PWKWDCOTNGQLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 244000245420 ail Species 0.000 description 1
- FJMNNXLGOUYVHO-UHFFFAOYSA-N aluminum zinc Chemical compound [Al].[Zn] FJMNNXLGOUYVHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYMITAMFTJDTAE-UHFFFAOYSA-N aluminum zinc oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Al+3].[Zn+2] JYMITAMFTJDTAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004164 analytical calibration Methods 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000007507 annealing of glass Methods 0.000 description 1
- 238000003556 assay Methods 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006355 external stress Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001513 hot isostatic pressing Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 210000003734 kidney Anatomy 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 210000003632 microfilament Anatomy 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- KELHQGOVULCJSG-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-1-(5-methylfuran-2-yl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CN(C)C(CN)C1=CC=C(C)O1 KELHQGOVULCJSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDZHFHKASSMDOB-UHFFFAOYSA-N oxotungsten Chemical compound [W]=O.[W]=O VDZHFHKASSMDOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 208000017983 photosensitivity disease Diseases 0.000 description 1
- 231100000434 photosensitization Toxicity 0.000 description 1
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 1
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 230000035755 proliferation Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002798 spectrophotometry method Methods 0.000 description 1
- 210000000434 stratum corneum Anatomy 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- ZZIZZTHXZRDOFM-XFULWGLBSA-N tamsulosin hydrochloride Chemical compound [H+].[Cl-].CCOC1=CC=CC=C1OCCN[C@H](C)CC1=CC=C(OC)C(S(N)(=O)=O)=C1 ZZIZZTHXZRDOFM-XFULWGLBSA-N 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N tioxidazole Chemical compound CCCOC1=CC=C2N=C(NC(=O)OC)SC2=C1 HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZKDPOPGYFUOGI-UHFFFAOYSA-N tungsten(iv) oxide Chemical compound O=[W]=O DZKDPOPGYFUOGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
- Sliding-Contact Bearings (AREA)
Abstract
الملخص: يقدم الاختراع طبقة تحتية تحمل طبقة طلاء سهلة المعالجة low-maintenance coating. فى بعض النماذج، تشتمل طبقة طلاء coating على طبقة رقيقة سهلة المعالجة low-maintenance film تشتمل على كل من titanium oxide وtungsten oxide . يقدم الاختراع أيضاً نماذج لطرق وجهاز ترسيب طبقات الطلاء تلك. شكل 1 .
Description
Y — _ طبقات الطلاء سهلة المعالجة ؛ وطرق تكوين طبقات الطلاء سهلة المعالجة Low-maintenance coatings, and methods for producinglow-mailtenance coatings الوصف الكامل
خلفية الاختراع
يقدم الاختراع الحالى طبقات طلاء رقيقة للطبقات التحتية dlow-maintenance coatings بشكل أكثر تحديداً؛ يقدم الاختراع طبقات طلاء سهلة المعالجة للزجاج والطبقات التحتية AY) يقدم الاختراع أيضاً طرق انتاج منتجات سهلة المعالجة.
2 تعتبر طبقات الطلاء سهلة المعالجة ¢ على سبيل Glad JU الطلاء الحفزية الضوئية معروفة جيداً. اجريت العديد من الأبحاث فى محاولة لتطوير طبقات الطلاء سهلة المعالجة التى تظهر خواص جيدة؛ على سبيل المثال خواص التنظيف الذاتى self-cleaning properties وحب الماء ٠ hydrophilicity تشتمل معظم طبقات الطلاء سهلة المعالجة التقليدية. على طبقة من titanium dioxide ( أى؛
TIO, ٠ ). بالرغم من أن الكثير من طبقات الطلاء تلك يعتبر (hes يكون هناك أيضاً العديد من التطويرات على سبيل JE من المرغوب تقديم طبقات طلاء سهلة المعالجة لها انعكاس ضونى مرثئى منخفض low visible reflection وتعادلية جيدة للون good color neutrality « وأيضاً يمكن تحقيق مستويات نشاط ضوثى photoactivity levels 000ع8»؛ حب للماء « و/أو قدرة على التنشيط activation ability sua .
ALE تقديم طبقات طلاء تحقق هذه الخواص بيتما فى نفس الوقت تكون Lad المرغوب pe ٠5 ومقاومة للاغبرارية (على سبيل المثال اثناء التطبيع (ا لإحماء بعد التبريد السريع) Al للتحمل؛ .) الأخرى heat treatments والمعالجات الحرارية
Yau
اا
الوصف العام للاختراع
فى بعض النماذج؛ يقدم الاختراع طبقة تحتية لها سطح عليه توجد طبقة طلاء السهلة المعالجة
low-maintenance coating . تشتمل طبقة الطلاء سهلة المعالجة على طبقة رقيقة وظيفية
functional film تتضمن كل من tungsten oxides titanium oxide . فى النماذج الحالية؛ ٠ الطبقة التحتية عبارة عن زجاج فى الحالة الملدنة؛ ويكون سمك الطبقة الوظيفية الرقيقة أقل من
٠ انجستروم (هة ) ايضاً طبقة طلاء سهلة المعالجة لها معدل تفكك لذ acetone اكبر من
ا
تقدم بعض نماذج الاختراع طبقة تحتية لها سطح رئيسى major surface عليه تكون طبقة الطلاء
سهلة المعالجة. تشتمل طبقة الطلاء سهلة المعالجة على طبقة رقيقة وظيفية functional film ٠ تتضمن كل من tungsten oxides titanium oxide . فى النماذج الحالية؛ الطبقة التحتية هى
الزجاج فى الحالة المقساة substrate is glass « والطبقة الرقيقة يكون لها سمك أقل من CAYO
أيضاً طبقة الطلاء سهلة المعالجة لها معدل تفكك لذ acetone أكبر من fis ™ ٠١ x VA
لتر) (ت).
فى بعض النماذج؛ يقدم الاختراع طبقة تحتية لها سطح رئيسى عليه تكون طبقة الطلاء سهلة Vo المعالجة مشتملة على طبقة رقيقة قاعدية base film وطبقة رقيقة وظيفية. تتضمن الطبقة الوظيفية
الرقيقة JS من tungsten oxide 5 titanium oxide . فى النماذج الحالية؛ الطبقة الرقيقة القاعدية
هى طبقة رقيقة مطلية بطريقة الطلاء بالرش المهبطي عاليه المعدل مترسبة باستخدام هدف واحد
على الأقل فى جو يتدفق فيه كل من غاز خامل inert gas وغاز مؤكسد oxidizing gas . بشكل
مفضل؛ معدل التدفق الداخلى للغاز الخامل inflow rate for the inert gas مقسوماً على معدل Ye التدفق الداخلى للغاز المؤكسد inflow rate for the oxidizing gas يكون ما بين ٠.4 و 9*,؟.
- الطبقة الوظيفية الرقيقة فى هذه النماذج بشكل مفضل عبارة عن طبقة رقيقة مطلية بطريقة الطلاء بالرش المهبطي عالي المعدل مترسبة من هدف واحد على الأقل بها مادة قابلة للطلاء بالرشرشة material 0101116816 تتضمن JS من tungsten oxide 5 titanium oxide . تقدم بعض النماذج طبقة تحتية لها سطح major surface oa) عليه تكون طبقة الطلاء سهلة © المعالجة. فى النماذج الحالية؛ طبقة الطلاء سهلة المعالجة لها فقط طبقة Aa ضوئية مفردة single photocatalytic layer ¢ و هذه الطبقة تتضمن كل من tungsten oxide s titanium oxide طول السمك الداخلى للطبقة. أيضاً فى هذه النماذج؛ الطبقة التحتية هى الزجاج في الحالة الملدنة؛ والطبقة الحفزية الضوئية photocatalytic layer لها سمك أقل من ل أيضاً طبقة الطلاء سهلة المعالجة لها معدل تفكك لذ oacetone اكبر من tim ٠ x ٠,6 / (لتر) (ثانية). فى ٠ بعض هذه lll سمك الطبقة الحفزية الضوئية أقل من Lady "A ٠٠١ معدل التفكك لل acetone أكبر من ten TV eX YY / (لتر) (ث). تقدم بعض النماذج طبقة تحتية لها سطح رئيسى عليه تكون طبقة الطلاء سهلة المعالجة. فى بعض النماذج AJL طبقة الطلاء سهلة المعالجة لها فقط طبقة حفزية ضوئية مفردة single photocatalytic layer وهذه الطبقة تتضمن كل من tungsten oxides titanium oxide طوال Ye السمك الكلى للطبقة. ايضاً فى هذه النماذج الطبقة التحتية هى الزجاج المقسى substrate is glass » والطبقة الحفزية الضوئية لها سمك أقل من ٠56 ل ايضاً طبقة Dall سهلة المعالجة لها معدل تفكك لل acetone أكبر من ٠١ XNA ”أجزئ / (لتر) (ث). فى بعض هذه النماذج؛ سمك الطبقة الحفزية الضوئية هو اقل من CA ٠٠١ وأيضاً معدل التفكك لل acetone يكون أكبر من fea Tre x ve (لتر) (ث). Yai
تقدم بعض النماذج طريقة لترسيب طبقة الطلاء سهلة المعالجة على السطح الرئيسى major base التحتية. تشتمل طبقة الطلاء سهلة المعالجة هنا على طبقة رقيقة قاعدية 33) surface
film وطبقة رقيقة وظيفية functional film . فى الطريقة Ada) يتم ترسيب الطبقة الرقيقة
القاعدية باستخدام تقنية طلاء بالرش المهبطي عالى المعدل حيث يتم طلاء هدف واحد على الأقل
© بالطلاء بالرش المهبطي فى جو يتدفق فيه كل من غاز خامل inert gas وغاز متفاعل reactive
5ع + وحيث معدل التدفق الداخلى jal الخامل inflow rate for the inert gas مقسوماً على
معدل التدفق الداخلى للغاز المتفاعل inflow rate for the reactive gas هو ما بين 4 و 4. فى
الطريقة الحالية» يتم ترسيب الطبقة الوظيفية الرقيقة بواسطة تقنية الطلاء بالرش المهبطي عالى
المعدل high-rate sputtering technique تستخدم هدف واحد على الأقل به مادة قابلة للطلاء
٠ بالرش المهبطي تتضمن كل من tungsten oxide 5 titanium oxide - فى بعض النماذج التي لها
تلك الطبيعة؛ تتضمن تقنية الطلاء بالرش المهبطي Ale المعدل لترسيب الطبقة الرقيقة القاعدية
أغلب الأهداف التي يحمل كل ie مادة قابلة للطلاء بالرشرشة sputterable material تتكون بشكل أساسى من: ١ ).
واحد أو أكثر من الفلزات metals ؛ أو (Y واحد أو أكثر من اشباه الفلزات ٠ semimetals أو ١ )
٠5 فلز واحد على الأقل وشبه فلز واحد على الأقل؛ بينما تتضمن تقنية الطلاء بالرش المهبطي عالية
المعدل لترسيب الطبقة الدقيقة الوظيفية أغلب أهداف oxide التي يحمل كل منها مادة ALE للطلاء
بالرش المهبطي تتضمن كل من tungsten oxides titanium oxide . على سبيل المثال؛ قد
تشتمل المادة الهدف القابلة للطلاء بالرش المهبطي المستخدمة فى ترسيب الطبقة الوظيفية الرقيقة
على «silicon والمادة المستهدفة القابلة للطلاء بالرش المهبطي المستخدمة فى ترسيب الطبقة
٠٠ الدقيقة الوظيفية تشتمل على: tungsten ) ١ فى شكل «TiO (Y « oxide و TiO; (Y فى
الطريقة الحالية؛ يمكن أن يكون الغاز الخامل inert gas بشكل مميز Law argon الغاز المتفاعل
Yat)
يكون oxygen او «nitrogen ويمكن أن يكون معدل التدفق الداخلى لغاز argon مقسوماً على معدل التدفق الداخلى لغاز oxygen أو nitrogen اختيارياً مابين 0,75 و 4. تقدم بعض نماذج الاختراع تقنية طلاء بالرشرشة sputtering technique لترسيب طبقة الطلاء سهلة المعالجة على السطح الرئيسى major surface للطبقة التحتية؛ تشتمل تقنية الطلاء بالرش © المهبطي الحالية على رشرشة ترسب الطبقة الرقيقة القاعدية base film على السطح الرئيسى ورشرشة ترسب sputter depositing الطبقة الوظيفية الرقيقة على الطبقة الرقيقة القاعدية. تتضمن الطبقة الوظيفية الرقيقة كل من tungsten oxides titanium oxide . فى النماذج الحالية؛ يتم اجراء الترسيب بالطلاء Gill المهبطي بحيث تكون طبقة الطلاء سهلة المعالجة؛ كما رسبت؛ لها متوسط خشونة سطخ ما بين حوالى ١,78 نانومترو ٠,؟ نانوم. ٠ أيضاً فى النماذج الحالية؛ الطبقة التحتية هى الزجاج فى الحالة الملدنة؛ والطبقة الوظيفية الرقيقة لها سمك أقل من د أيضاً طبقة الطلاء سهلة المعالجة لها معدل تفكك لذ acetone أكبر من fx) » (لقر) )2( أيضاً؛ تقدم بعض النماذج تقنية طلاء بالرش المهبطي لترسيب طبقة طلاء سهلة المعالجة على سطح رئيسى major surface للطبقة التحتية. فى النماذج الحالية؛ تشتمل تقنية الطلاء بالرش VO المهبطي على ترسيب سمك طبقة رقيقة تتضمن titania ؛ حيث يشتمل جزء على الأقل من هذا السمك على aug tungsten oxide ترسيبه عن طريق الطلاء بالرش المهبطي لواحد أو أكثر من الأهداف التى لها مادة قابلة للطلاء بالرش المهبطي تتضمن JS من tungsten oxides titania « حيث تشتمل المادة القابلة للطلاء بالرش المهبطي على tungsten ) ١ فى شكل ١ «oxide ) «TiO و ؟) :110. فى بعض الحالات؛ Lad كل tungsten فى المادة القابلة للطلاء بالرش led] Yo تكون فى شكل oxide . يمكن تحقيق الترسيب عن طريق الطلاء بالرش المهبطي Yat
د ا للأهداف فى جو يتضمن oxygens argon عند الحاجة؛ يمكن تحقيق الترسيب أيضاً عن طريق الطلاء بالرش المهبطي للأهداف فى جو يتضمن nitrogens oxygen ¢ argon . فى بعض الحالات؛ تتميز sald) القابلة للطلاء بالرش المهبطي بنسبة وزن فلز فقط W / 11 ما بين حوالى 1ه و TE على سبيل المثال بين حوالى 0,01 وحوالى ٠" هذه النسبة هى الوزن الكلى لل tungsten © فى المادة القابلة للطلاء بالرش المهبطي مقسوماً على الوزن الكلى لذ titanium فى المادة القابلة للطلاء بالرش المهبطي. يمك الطبقة الرقيقة التى تتضمن titania بشكل مفضل يكون أقل من SAYS يتم أيضاً تقديم هدف طلاء بالشرشة وفقاً لبعض النماذج. يمكن أن يكون الهدف به مادة قابلة للطلاء بالرش المهبطي تتضمن كل من tungsten oxide 5 titania + حيث تشتمل المادة القابلة ٠ للطلاء بالرش المهبطي على tungsten ) ١ فى شكل Tio (Y « oxide أو ATO, (Y بعض الحالات؛ فعلياً tungsten JS فى المادة القابلة للطلاء بالرش المهبطي يكون فى شكل oxide فى بعض النماذج؛ تتكون المادة القابلة للطلاء بالرش المهبطي بشكل أساسى من: tungsten )١ فى شكل (Y « oxide 110و ) THO, يمكن أن تكون المادة القابلة للطلاء بالرش لها اختيارياً نسبة وزن 17/17 للفلز فقط ما بين حوالى هه و 0,94 على سبيل المثال مابين ٠.0٠ وحوالى en Vo هذه النسبة هى الوزن الكلى لذ tungsten فى المادة القابلة للطلاء بالرش المهبطي مقسوماً على الوزن الكلى لل titanium فى المادة القابلة للطلاء بالرش المهبطي. يمكن ان يكون الهدف اختيارياً هدف دوار اسطوانى cylindrical rotary 6 مع مادة قابلة للطلاء بالرش المهبطي محمولة على الجدار الخارجى لانبوبة دعم ممدودة elongated backing tube ¢ وانبوبة الدعم الممدودة لها طول 7 سم على الأقل. فى بعض النماذج الحالية؛ يتم تهيئة الهدف للدوران حول محور مركزى central axis ٠ يكون الجدار الخارجى لانبوبة الدعم موازى له فعلياً.
شرح مختصر للرسبومات شكل ١ عبارة عن منظر قطاع عرضى تخطيطى لطبقة تحتية لها سطح رئيسى major surface يحمل طبقة طلاء سهلة المعالجة وفقاً لبعض النماذج؛ شكل ؟ le عن منظر قطاع عرضى تخطيطى لطبقة تحتية لها سطح رئيسى تحمل طبقة طلاء 2 سهلة المعالجة وفقاً لبعض النماذ 5 شكل ؟ عبارة عن منظر قطاع عرضى تخطيطى لطبقة تحتية لها سطح رئيسى تحمل طبقة طلاء سهلة المعالجة وفقاً لبعض النماذج؛ شكل 4 عبارة عن منظر قطاع عرضى تخطيطى لطبقة تحتية لها سطح رئيسى تحمل طبقة طلاء سهلة المعالجة وفقاً لبعض النماذج؛ ٠ شكل © le عن منظر قطاع عرضى تخطيطى لطبقة تحتية لها سطح رئيسى major surface تحمل طبقة طلاء سهلة المعالجة وفقاً لبعض النماذج؛ شكل + عبارة عن منظر Und ع عرضى تخطيطى لطبقة تحتية لها سطح واحد يحمل طبقة طلاء سهلة المعالجة وسطح آخر يحمل طبقة طلاء وظيفية اضافية وفقاً لنموذج آخر. شكل 7 عبارة عن منظر جانبى لقطاع عرضى تخطيطى مقتطع جزئياً لألواح زجاجية متعددة multiple-pane insulating | ٠ توضح وحدة تزجيج glazing unit ) تركيب الألوا ح الزجاجية ) تشتما على لوح زجاجي خارجى له سطح أول first surface يحمل طبقة طلاء سهلة المعالجة وسطح ثانى second surface يحمل طبقة طلاء وظيفية اضافية وفقاً لبعض النماذج؛
شكل A عبارة عن منظر جانبى لقطا 2 عرضى تخطيطى متقطع جزئياً لألوا z زجاجية متعددة multiple-pane insulating يوضح وحدة تزجيج glazing unit تشتمل على لوح زجاجى خارجى له سطح ثانى second surface يحمل طبقة طلاء وظيفية ولوح زجاجى داخلى له سطح رابع يحمل طبقة طلاء سهلة المعالجة وفقاً لبعض النماذج؛ © شكل 4 عبارة عن رشم منظورى مقتطع جزئياً للوح زجاجى لنافذة له سطح رئيسى major surface يحمل طبقة طلاء سهلة المعالجة؛ يتم تثبيت اللوح الزجاجى فى جدار خارجى من البناء وفقاً لبعض النماذ Id شكل ٠١ عبارة عن منظر جانبى تخطيطى لغرفة طلاء بالرش المهبطي sputtering chamber سفلية مهنية للاستخدام فى بعض الطرق؛ ٠ شكل ١١ عبارةٍ عن منظر جانبى تخطيطى لغرفة طلاء بالرش المهبطي علوية مهنية للاستخدام فى بعض الطرق؛ شكل ١7 عبارة عن منظر جانبى تخطيطى لغرفة طلاء بالرش المهبطي مزدوجة الاتجاه مهنية للاستخدام فى بعض الطرق؛ شكل VY عبارة عن منظر جانبى تخطيطى لغرفة تسخين سفلية downward heating chamber ٠ مهيئة للاستخدام فى بعض الطرق؛ شكل VE عبارة عن منظر جانبى تخطيطى لغرفة تسخين علرية upward heating chamber Ay للا «ar ام فى ب - LY 8 شكل Yo عبارة عن منظر جانبى تخطيطى لقطاع داخل المرحلة مهيئ للاستخدام فى بعض الطرق؛
١١ = - شكل ١١ عبارة عن منظر قطاع عرضى أساسى لقطاع داخل المرحلة مهيئ للاستخدام فى بعض الطرق؛ شكل VY عبارة عن منظر جانبى تخطيطى لخط طبقة طلاء «coating line يشتمل على غرف طلاء بالرش المهبطي سفلية downward sputtering chambers وغرفة تسخين علوية upward heating chamber | © + مهيئة للاستخدام فى بعض الطرق؛ VA JSG | عبارة عن منظر ula تخطيطى لخط طبقة طلاء «coating line يشتمل على غرف طلاء بالرش المهبطي علوية sputtering chambers 20 وغرفة تسخين علوية ؛ مهيئة شكل ١9 عبارة عن منظر جانب تخطيطى لخط طبقة طلاء coating ؛ مشتملاً على غرف طلاء ٠ بالرش المهبطي علوية وغرفة تسخين علوية ؛ مهيئة للاستخدام فى بعض الطرق؛ شكل ٠١ عبارة عن منظر جانبى تخطيطى لخط طبقة طلاء coating line ؛ يشتمل على غرف طلاء بالرش المهبطي علوية وغرفة تسخين علوية ؛ مهيئة للاستخدام فى بعض النماذج؛ و شكل YY عبارة عن صورة ضوئية لجهاز اختبار مستخدم لحساب معدل تفكك الاسيتون acetone decomposition rates للطبقات التحتية التى تحمل طبقات edb حفزية ضوئية substrates bearing photocatalytic coatings ٠ ¢ و شكل YY عبارة عن صورة ضوئية لسطح مقعر لمفاعل هو جزء من جهاز الاختبار المستخدم لحساب معدلات تفكك الاسيتون للطبقات التحتية التى تحمل طبقات طلاء حفزية ضوئية. Yan
- ١١ يتم قراءة الوصف التفصيلى التالى مع الاشارة والرجوع للرسومات؛ حيث الأجزاء المشابهة فى الرسومات المختلفة لها أرقام مرجعية مماثلة. تصف الرسومات التى لاتكون بالضرورة مقياس؛ نماذج مختارة ولايقصد بها تحديد مجال الاختراع. يتعرف هؤلاء الماهرين على أن الأمثلة المعطاة لها كثير من التغيرات التى تقع داخل مجال الاختراع. © تتضمن نماذج كثيرة للاختراع طبقة تحتية مطبقة طلاء . يعتبر مدى مختلف من أنواع الطبقة عن طبقة ple ٠١ التحتية مناسباً للاستخدام فى الاختراع. فى بعض النماذج؛ الطبقة التحتية سطح رئيسى أول و؛١ سطح ثانى متضادين على سبيل المثال ١١ تحتية تشبه اللوح لها فعلياً أى لوح شفاف ). لاتكون ) transparent material يمكن أن تكون الطبقة التحتية لوح مادة شفافة الطبقة التحتية؛ بالرغم من ذلك؛ بالضرورة لوح ولايمكن أن تكون شفافة بالضرورة. ٠ يمكن أن تكون الطبقة التحتية اختيارياً مكون أى من مختلف مواد البناء. تشتمل أمثلة الاستخدامات المتوقعة على النماذج التى فيها الطبقة التحتية عبارة عن اطار زجاجى ( على سبيل المثال اطار زجاج نافذة أو اطار زجاج باب )؛ ألواح تكسية جدارية ( على سبيل المثال الواح تكسية جدارية من fluorocarbon polymer على سبيل المثال ( tarpaulin « tent panel اطار الخيمة «( aluminum على سبيل المثال طبقة رقيقة بلاستيكية ( plastic film طبقة ,488 بلاستيكية « tarpaulin ‘© roofing لوح خشبى صغير لطبقة طلاء السقوف (fluorocarbon plastic film للفلورو كربون بلاستيكى metal على سبيل المثال سد للنافذة فلزى ( window blind سد للنافذة ¢ shingle laa) Shoji على سبيل المثال ( paper screen )؛ شاشة ورقية paper أو ورقى » plastic نصف شفاف من اطار خشبي مغطى بورق الأرز))؛ درابزين؛ عمود الدرابزين؛ أو اطار تزيين. فى على سبيل المثال جدارء «ceramic tile أحد النماذج؛ الطبقة التحتية عبارة عن بلاط سيراميك ٠١
Yai)
- ١ الطبقة التحتية عبارة عن قالب زجاجى. يمكن «AT أو بلاط الأرضية. فى نموذج ceiling سقف Saint-Gobain Oberland (Koblenz, الحصول على مختلف القوالب الزجاجية المناسبة تجارياً من طبقة id الطبقة التحتية عبارة عن طبقة رقيقة من البولى Lad فى نماذج أخرى Germany) ؛ الخ. يمكن الحصول على طبقات رقيقة terephthalate طبقة رقيقة من » polyethylene رقيقة من
© مناسبة لها طبيعة مماثلة تجارياً من : Nippon Soda Co., Ltd. (Tokyo, Japan) فى نماذج اخرى؛ الطبقة التحتية عبارة عن سور او جدارء؛ على سبيل المثال سور او جدار خافض للضوضاء .noise-reduction fence يمكن أن تكون الطبقة التحتية بشكل آخر en من جهاز كهربى ضوئى photovoltaic device ( على سبيل المثال يمكن أن تكون غطاء لجهاز كهربى ضوئى cover for a photovoltaic device ).
٠ الاستخدامات كثيرة؛. تتضمن الطبقة التحتية مادة شفافة transparent material ( أو على الأقل نصف شفاف )؛ على سبيل المثال زجاج أو بلاستيك صافى. على سبيل المثال؛ الطبقة التحتية هى لوح glass sheet ala) ) على سبيل المثال اللوح الزجاجى للنافذة ).فى بعض النماذج. يمكن استخدام مختلف انواع الزجاج المعروفة؛ ويفضل زجاج جير الصودا soda-lime glass بشكل شائع. فى بعض النماذج المفضلة؛ الطبقة التحتية هى جزء من النافذة» كرة السقف الباب؛ GL
٠ الدوش؛ اوعملية التزجيح الأخرى. فى بعض الحالات؛ الطبقة التحتية هى جزء من مصدة الريح للسيارة» النافذة الجانبية للسيارة» مرآة الرؤية الخلفية أو الأمامية؛ واقية الصدمات؛ قلنسوة call مساحة مصدة الريح؛ أو لوح سقف ceiling السيارة؛ اللوح الجانبى؛ لوح الترانك؛ أو لوح السقف. فى نماذج og Al الطبقة التحتية هى قطعة من زجاج الغرفة العازلة للصوت؛ نافذة عازلة للصوت بلاستيكية؛ او قطعة من زجاج الصوبة الزجاجية.
سا فى نموذج آخرء الطبقة التحتية هى لوح الثلاجة؛ على سبيل المثال جزء من باب او نافذة الثلاجة. فى a Aga ALL AT ple جزء من الجهاز_المغير للألوان بالجهد الكهربي (Electrochromic) يمكن استخدام طبقات تحتية لها أحجام مختلفة فى الاختراع الحالى. بشكل شائع؛ تستخدم الطبقات © التحتية لها مساحة كبيرة. تتضمن بعض النماذج طبقة تحتية ٠١ لها بعد رئيسى MAOr dimension ( على سبيل المثال الطول او العرض ) على الأقل © مترء بشكل مفضل على J حوالى متر واحد؛ من المحتمل بشكل اكثر تفضيلاً على الأقل ١,5 متر ( على سبيل المثال ما بين حوالى ؟ متر وحوالى ؛ متر )؛ وفى بعض الحالات على الأقل حوالى ؟ أمتار. فى بعض op Lal الطبقة التحتية عبارة عن لوح زجاجى ضخم له طول و/أو عرض مابين حوالى ؟ أمتار ٠ وحوالى lid ٠١ على سبيل المثال لوح زجاجى له عرض حوالى 3,5 متر وطول حوالى 1,9 متر. تكون الطبقات التحتية التى لها طول و/أو عرض اكبر من حوالى ٠١ أمتار متوقعة ايضاً. فى بعض النماذج؛ الطبقة التحتية ٠١ عموماً عبارة عن لوح زجاجى مربع او مستطيل. يمكن أن تكون الطبقة التحتية فى هذه النماذج لها اى من الأبعاد الموصوفة فى الفقرة السابقة و/أو فى الفقرة التالية. فى أحد النماذج المحددة؛ الطبقة التحتية عموماً عبارة عن لوح زجاجى مستطيل له عرض _ مابين حوالى ؟ أمتار وحوال © Jd على سبيل المثال حوالى 7,5 ie طول مابين حوالى ١ أمتار وحوالى ٠١ أمتار؛ على سبيل المثال حوالى 1,5 متر. يمكن استخدام طبقات تحتية لها سمك مختلف فى الاختراع الحالى. فى بعض النماذج؛ الطبقة التحتية ٠١ ( التى يمكن ان تكون لوح زجاجى اختيارياً ) لها سمك حوالى ١ - © جم. تتضمن بعض النماذج طبقة تحتية ٠١ لها سمك ما بين حوالى ,مم وحوالى 4,8 مم؛ ومن المحتمل ٠ بشكل مفضل مابين حوالى 0,¥ مم وحوالى £4 مم. فى أحد النماذج المحددة؛ تستخدم لوح زجاجية
سمك الطبقة التحتية ما بين حوالى ؛ مم وحوالى ٠١ مم. قد يكون السمك فى هذا المعدل؛ على سبيل المثال؛ مفيد لخزانات الغرفة العازلة للصوت (فى تلك Aa يمكن أن تكون الطبقة التحتية من الزجاج أو (acrylic عندما تكون الطبقة التحتية عبارة عن زجاج calle يكون عموماً لها بشكل شائع سمك مابين حوالى ¢ مم وحوالى 5 مم. فى مجموعة اخرى من النماذج؛ الطبقة التحتية عبارة عن لوح رقيق له سمك ما بين حوالى ١,75 جم وحوالى 5,٠مم. يمكن أن تتضمن النماذج التى لها طبيعة Ailes اختيارياً الطبقة التحتية ٠١ التى هى عبارة عن لوح لزجاج عرض او ماشابه. توضح الأشكال -١ 7 الطبقة التحتية ٠١ التى لها سطح رئيسى VY major surface تحمل طبقة ٠ طلاء سهلة المعالجة A يمكن أن تكون طبقة الطلاء سهلة المعالجة 80 لها خواص din ضوئية؛ خواص محبة للماء؛ أو كلاهما. فى نماذج مفضلة؛ طبقة coating eda 80 لها نشاط ضونى كما عين بواسطة اختبار تفكك الاسيتون acetone decomposition الذى يتم وصفه OY) يستخدم الجهاز التالى لتعيين ميل تفكك الاسيتون. يشار للأشكال 7١ و 7. استخدم قياس طيف الأشعة تحت الحمراء لتحويل فورييه Fourier transform infrared : Thermo Nicolet 8700 FT-IR) ) FT-IR ) (Fourier Transform Infrared) Vo بواسطة كاشف مبرد ب nitrogen السائل MCT-A ومفرق حزمة KBr ). تحديداًء تستخدم سمات الجهاز التالى: جهاز ¢Nicolet 8700 Gold محكم الغلق؛ منضدة ضوئية مجففة؛ مفرق Ge-on KBr deja ( ال - You مم" )؛ كاشف مبرد ب nitrogen السائل ١17756 ) MCT-A = 100 سم )؛ 7.1 ¢Research OMNIC Professional عبوة 38%( Olea
— وا 781-0؛ معالجات برمجيات LOMNIC FT-IR الجهاز عبارة عن جهاز حلقة مغلقة لاعادة التدويرء مشتملاً على : مضخة ( مضخة بمكبس (piston pump وخلية مفاعل reactor cell ( السطح المقعر للمفاعل ). تصل الانبوبة الفولاذية steel tubing المكونات المضخة الكباسية تكون متاحة تجارياً من : Fluid Metering, Inc. (Syosset, New York, USA): Item ID = Pump Drive Module, Q 115 2 VAC 60 Hz; Item ID = 010517, Q Pump Head Module, and; Item ID = R412-2, Adapter, 3/8” Tube, SS. ) ضبط المضخة المستخدمة يكون A من احتمال ٠١ ). يمكن الحصول على السطح المقعر للمفاعل من Allen Scientific Glass, Inc. (Boulder, Colorado, USA على سبيل المثال تحت Ve شفرة منتج 207١ under product code السطح المقعر ) الطبق ) له قاع صلب solid bottom قطره Yo TY سم . الجدار الجانبى للطبق ارتفاعه £,0V سم . الطبق يكون محكم الغلق للغاز وله حجم داخلى 5 لتر. الطبق له ثلاث فتحات؛ كل له قطر ١,50 سم . جزء القاع من الطبق من البيركس؛ و له غطاء مكون من 08:12 ٠ تتصل فتحتى الطبق مع الانبوبة الفولاذية stcel tubing لذلك يدور الغازه ويتم تقديم فتحة اخرى Ne على الطبق للسماح بحقن الاسيتون acetone is injected فى الطبق من خلال قرص مطاطى. يتم وضع غطاء الكوارتز quartz lid على حلقة - 0 موضوعة فى غطاء جزء القاع من Pyrex الخاص بالطبق. يتم وضع dala سفلية لحمل الدلرين delrin hold على غطاء الكوارتز quartz lid ؛ ويتم تثبيت الحلقة وغطاء الكوارتز quartz lid عن طريق حافة Schott مع التثبيت السريع. بعد حقن الاسيتون ؛ يحكم القرص المطاطى rubber disc غلق الفتحة وبالتالى يتم غلق الجهاز. ٠ يتم وضع عينة مطبقة طلاء سهلة المعالجة ١1,7 Xan) 0 TE سم فى طبق المفاعل بحيث تواجهه طبقة الطلاء سهلة المعالجة. احجام خلية العينة FTIR طبق المفاعل؛ والانبوبة الفولاذية
- ١١ مللى AY لتر ( طبق المفاعل)؛ و ٠,5 )؛ FTIR die مللى لتر ( خلية ٠٠٠ هى: steel tubing وات اسم مع ٠,٠٠١ هو محاك شمسى له نافذة ناتئة UV لتر ( انبوبة فولاذية ). مصدر
Mountain View, California, ) Newport Corporation ؛ متاح تجارياً من مس٠١١١ Aga
Infrared Analysis Inc. (Anaheim, California, خلية العينة الغاز متاحة تجارياً من (USA. مصنوعة بحيث تكون الخلية 6-PA فولت. خلية عينة الغاز هى - YY تحت رقم النموذج USA) © متر الى 7.7 متر. خلية ١/6 متر من ١7 طويلة المسار المتغيرة المسار قابلة للضبط فى الخطوة black- المعالج بالانودة الأسود aluminum عينة الغاز لها السمات التالية: الواح طرفية من جزء صلب لحمل المرآة الأمامية؛ قطع مرآأة زجاجية ذات طبقة طلاء ضوئية ذهبية ¢ anodized ليزر لتدقيق طول المسار ومحاذاة «Viton © - للحلقة seals موانع التسرب (KCI محمية؛ نوافذ laser for path length verification and mirror alignment المراة ٠ ساعة للتثبيت. مغلق يعنى عدم وجود أى تنظيف sad يتم اجراء الاختبار بغلق الجهاز والضخ pump ء وتعمل المبضخة valves are closed بالهواء الجاف طوال الجهاز ؛ يتم غلق كل الصمامات على تدوير الهواء من خلال الأنبوبة؛ طبق المفاعل وخلية العينة. فى acetone is injected قبل حقن الاسيتون FT-IR يتم اخذ فحص الخلفية وثلاثت فحوصات الجهاز المغلق. Ve .يتم أخذ acetone is injected بمجرد حقن الاسيتون acetone يتم حقن نصف لتر من ساعات من حقن الاسيتون. يسمح ذلك ١ -7 بعد UV فحوصات 171-18 كل © دقائق. يتم تشغيل © =f لمدة UV وات. يتم تشغيل ٠٠٠١ Oriel بمعايرة الجهاز قبل تشغيل المحاك الشمسى ساعات؛ والتى أثنائها يتم فحص 71-18 كل © دقائق.
Yo (Tae) يتم تمثيل البيانات الناتجة من كل فحص كمنحنى للامتصاص ضد الأعداد الموجية -acetone وجود FT-IR add توضح
١ — - تستخدم acetone ded من ١13. = ١7160 سم لحساب .ميل تفكك الاسيتون acetone decomposition . تحديداًء يتم حساب المساحة تحت المنحنى للقمم الصححة عند ١١76٠١ - an ٠٠ باستخدام مجموعة دقيقة داخل برمجيات FT-IR ويتم تمثيلها بواسطة الاكسيل مقابل الزمن بالدقائق لحساب الميل (بذلك؛ يكون الميل المسجل هو التغير في مساحة القمة المصححة © تلك خلال الزمن بالدقائق). نقاط البيانات المستخدمة هى التى من الجزء الخطى للبيانات من وقت تشغيل UV لحين تفكك كل acetone يتم تمثيل الجزء الخطى مقابل الزمن بالدقائق؛ ويتم حساب الميل من ذلك؛ يتم اجراء ذلك Jal) البيانى وحساب الميل بواسطة اختيار Trendline فى -Microsoft Excel2000 يعتبر الشرح التالى لقمم acetone القليلة مفيد أيضاً لتوضيح الطريقة السابقة. ينتج المنحنى الأول ٠ .من الفحص الذى يتم اجراؤه قبل حقن الاسيتون acetone is injected فى الجهاز؛ ولذلك لايكون هناك أى قمة عند ١١0 - ١730 سم ”. ينتج منحنى AT من فحص مأخوذ بمجرد معايرة acetone وفقط قبل تشغيل UV تظهر المنحنيات التالية انخفاض فى acetone Ad ؛ مما يوضح التفكك الضوئى لل acetone وبالتالى الانخفاض فى كمية الاسيتون المقاسة بواسطة FT-IR هكذاء يتم حساب de عن طريق تمثيل التغير فى المساحة تحت المنحنى الملحوظ بعد تشغيل ضوء Veo 1177 وقبل تفكك .acetone JS بمجرد تعيين ميل تفكك الاسيتون acetone decomposition ¢ يمكن تحويل الميل الى معدل باستخدام المعادلة التالية: معدل تفكك الاسيتون = ( 7,558 7 X ) © ٠١ ( ميل تفكك الاسيتون) من المفهوم أن معامل التحويل ذلك خاص بالجهاز الحالى؛ لايكون معامل تحويل عام. يكون المعدل بوحدات الجزيئات / (LY) ( ثانية ). ٠٠ كأمثلة ؛ يؤخذ فى الاعتبار فى مايلى: Yau
- ١8 الناتج الميل المعدل جزيئات/ (لتر) (ثانية) -10 . 197% 10 0772 W TiO; / 200A الزجاج الملدن/ ,5:0 عالي
SSA المعدل Je -10 o 2# . 5:46 x 10 ZEW Tio; / عالي المعدل2008 SiO, [7 الزجاج المقسى 55A Jad) Je 10 . 214 x10 0839 W :710, / عالي المعدل2008 SiO; الزجاج الملدن/ 70/2 عالي المعدل -10 ° * - 6-82 x 10 26740 W عالي المعدل2008 / ي110: SiO; /” الزجاج المقسى : 70A عالي المعدل يتم معالجة الزجاج بالحرارة فى فرن لمحاكاة التطبيع فى ضبط انتاج ¢ coating بعد طبقة طلاء تجارى. acetone decomposition فى بعض التماذج؛ طبقة الطلاء سهلة المعالجة لها معدل تفكك اسيتون ”ا بشكل أكثر تفضيلاً أكبر ٠١ 7 1١,785 ”ا بشكل مفضل أكبر من ٠١ 7 ١,4 أكبر من © ”ا ومن المحتمل أن يكون بشكل نموذجى ٠١ XY ا أو حتى أكبر من ٠١” ١,51 من فى بعض النماذج التى لها طبيعة مماثلة؛ الطبقة الوظيفية الرقيقة لها .'” ٠١ XY) أكبر من ¢ ( SA A © Ton على سبيل المثال حوالى ) : A ٠ أو حتى أقل من SA ١٠٠ سمك أقل من وأيضاً طبقة الطلاء سهلة المعالجة لها معدل تفكك اسيتون أعلى من واحد أو أكثر من المستويات الملحوظة. Ve لها معدل تفكك اسيتون أعلى dalled) تقدم بعض النماذج زجاجة ملونة تحمل طبقة طلاء سهلة
- ya من واحد أو أكثر من هذه المستويات. طبقة « annealed glass ملدن zl فى بعض النماذج حيث تكون الطبقة التحتية عبارة عن ٠,75 بين Ra average surface roughness الطلاء سهلة المعالجة لها متوسط خشونة سطح نانوم؛ وفى بعض الحالات ما ٠,٠ نانومترو ١.75 نانومترو *,؟ نانوم؛ على سبيل المثال ما بين برغم ذلك؛ ¢ surface roughness تأنوم. يمكن أن تختلف خشونة السطح ٠.١ ناتومترو ٠,4 بين © لايكون ذلك بواسطة أى وسائل من الضرورى أن تكون داخل أى من هذه المعدلات. قد تقدم بعض النماذج؛ على سبيل المثال خشونة سطح أكبر. يمكن تحزيز وتقطيع الزجاج فى الحالة الملدنة. تزيل المعالجة الحرارية أعلى من 175,76 م يكون dam كما هو معروف . soda-lime glass بشكل طبيعى التلدين من زجاج جير الصودا ball التلدين عملية تبريد الزجاج لتخفيف الاجهاد الداخلى. يتم اجراء العملية فى فرن محكم درجة ٠ يطلق عليه فرن الزجاج. يميل الزجاج الغير ملدن؛ أو الذى يفقد قساوته؛ للشرخ أو التحطم عند التعرض لتغير درجة الحرارة أو الصدمة الميكانيكية. يكون تلدين الزجاج والاحتفاظ بالتلدين مرغوباً لتحمل الزجاج. اذا لم يكن ؛ أو يفقد لدانته؛ يكون له اجهاد حرارى فعلى وتنخفض مقاومته annealed glass الزجاج ملدن بشكل معقول. يتم تسخين الزجاج لحين بلوغ درجة الحرارة نقطة تفريج «annealing process فى عملية التلدين المشار اليها بنقطة التلدين ¢ the annealing temperature الاجهاد ( أى درجة حرارة التلدين عند هذه النقطة؛ يكون الزجاج لين بدرجة كافية بحيث تخفف الشدة فى .) annealing point الزجاج؛ أيضاً يصعب تشوهه بالاجهاد الخارجى. يتم عندئذ تشربه للحرارة لحين تكون درجة الحرارة
Dla متساوية فى جميع اجزاؤه. عندئذ؛ يتم تبريد الزجاج ببطء عند معدل سابق لحين تكون درجة Yo يمكن أن تنخفض درجة حرارة الغرفة. يمكن baal الزجاج أقل من نقطة الانفعال الخاصة به.
Yai)
لا تقطيع الزجاج فى الحالة الملدنة؛ حفره drilled ¢ صقله polished ؛ الخ. هكذاء تقدم بعض النماذج طبقة طلاء سهلة المعالجة الموجودة على الزجاج فى الحالة الملدنة ويمكن أن تحقق معدلات تفكك اسيتون acetone decomposition أعلى من واحد أو أكثر من المستويات الملحوظة. تسجل بعض طبقات الطلاء الحفزية للفن السابق نشاط ضوئى ( أو © مستويات واضحة من النشاط الضوئى (photoactivity بعد التكلس calcined أوغير ذلك المعالجة بالحرارة عند درجات حرارة تزيل تلدين الزجاج. بينما قد تكون المعالجات مرتفعة درجة الحرارة تلك مميزة لزيادة النشاط الضوئى للطبقة طلاء ؛ قد تكون ممكنة عندما يكون من الضرورى وضع طبقة طلاء coating على الزجاج الملدن ( الذى يمكن تحزيزه وتقطعيه بسهولة ). هكذاء تقدم النماذج الجالية طبقة طلاء سهلة المعالجة تعطي مستويات غير متوقعة من النشاط الضوئى بدون الحاجة Ve لتكلس طبقة طلاء أو غير ذلك معالجتها عند درجات حرارة تزيل تلدين الزجاج. بصورة مماثلة؛ تقدم بعض النماذج طبقة طلاء سهلة المعالجة مصنوعة عن طريق الحفاظ على الطبقة التحتية أثناء التفكك عند درجة حرارة لاتتجاوز 176,77 ام ولاتتجاوز ١8,84 ام ء أو لاتتجاوز را Ca فى بعض النماذج؛ يقدم الاختراع طبقة تحتية ( اختيارياً الزجاج فى الحالة الملدنة ) تحمل طبقة VO طلاء سهلة المعالجة التى؛ عند التطبيع؛ تعانى من زيادة معدل تفكك الاسيتون. بشكل (amie ينتج عن الزيادة ان يكون معدل تفكك الاسيتون أكبر من XNA 77 جزئ / ( لتر ) ) ثانية)؛ بشكل أكثر تفضيلاً اكبر من 7,5 ٠١ X ”' جزئ / ( لتر ) ( ثانية )؛ وأيضاً بشكل أكثر تفضيلاً أكبر من 4 ٠١ x ”' جزئ / ( لتر ) ( ثانية )._من المحتمل أن ينتج عن الزيادة معدل أكبر من ٠١ x 5,1١ ”' جزئ / ( لتر ) ( ثانية )؛ أكبر من 5,3 * (A) Jen '* ٠١ ٠ ( ثانية )؛ أو حتى أكبر من TV x Ve جزئ / ( لتر ) ( ثانية ). بالاضافة الى ذلك أو بطريقة gal قد تكون طبقة الطلاء سهلة المعالجة فى بعض الحالات لها
١ج خاصية مميزة؛ عند التطبيع؛ تعانى من زيادة معدل تفكك الاسيتون acetone decomposition rates أكبر من عامل ©,٠؛ أو بواسطة أكثر من معامل من اثنين؛ أو اكثر من معامل ثلاث. معدل تفكك الاسيتون للمنتج الأول المجدولة ile على سبيل المثال؛ زادت من 1,78 »* ٠١ ' جزئ / ( لتر ) ( ثانية ) الى 8,47 ٠١ x ©" جزئ / ( لتر ) ( ثانية ) نتيجة التطبيع» مما ينتج عنه معدل © تفكك مابعد التطبيع أكبر 7,75 مرة من معدل التطبيع الابتدائى. وزاد معدل تفكك الاسيتون للمنتج الثانى المجدول سابقاً من 7,16 * ١! ٠١ جزئ / ( لتر ) ( ثانية ) الى ٠١ LAY *' جزئ / لتر ) ( ثانية ) نتيجة التطبيع؛ مما ينتج عنه معدل تفكك مابعد التطبيع الأكثر ثلاث مرات من معدل التطبيع الابتدائى. بالرغم من ذلك؛ لايكون من الضرورى بواسطة أى وسيلة أن يزيد النشاط الضوئى للطبقات طلاء الحالية اذا تم تطبيعها؛ فى بعض الحالات؛ قد لايكون هناك أى تغيير ٠ فعلى فى النشاط الضوئى نتيجة التطبيع. يكون الزجاج المقسى أقوى من الزجاج العياري. ينكسر الزجاج المقسى بطريقة خاصة. لايتكسر على هيئة شقفات زجاجية خطرة كبيرة. واذا اتكسر أى جزء من الزجاج؛ عندئذ يتحطم اللوح الزجاجى الداخلى. يتم تصنيع الزجاج المقسى بواسطة عملية تتضمن التسخين الزائد والتبريد السريع؛ مما يجعله أصلب من الزجاج العياري. قد يتميز الزجاج المقسى؛ على سبيل المثال بكبس Ve سطح أكبر having a surface compression من حوالى VOY) YO اكجم/سم . فى التطبيع؛ يتم وضع الزجاج بشكل مسائد فى فرن عند حوالى TAL - 50م ( بشكل مفضل محكم الى 546 - 00م ). يتم ترك الزجاج فى الفرن AE ١١ - ٠٠١ sad مع حركة ثابتة لضمان أفضل درجة حرارة Jl للمنتج. يكون ذلك بغرض رفع درجة حرارة الزجاج الى حوالى oT Ye يتم عندئذ اخراج الزجاج من الفرن وتبريده سريعاً فى تيار هواء لمدة حوالى ٠٠١ ثانية بحيث يتم
ا تبريد الزجاج بشكل يكفي لاستخدام المعالج. ض هكذاء يقدم الاختراع نماذج حيثما الطبقة التحتية التي تحمل طبقة طلاء سهلة المعالجة هي زجاج مقسى. هناء الطبقة التحتية عبارة عن زجاج فى الحالة Ladd وطبقة طلاء السهلة المعالجة low-maintenance coating لها بشكل مفضل معدل تفكك الاسيتون acetone decomposition rates © أكبر من ٠١ xX ١,8 7 جزئ / ( لتر ) ( ثانية )؛ بشكل أكثر تفضيلاً أكبر من 3,5 » ٠ 7 جزئ / ( لتر ) ( ثانية )؛ وبشكل أكثر تفضيلاً أكبر من ٠١ xe ”' جزئ / ( لتر ) ( ثانية ). من المحتمل؛ أن يكون المعدل بشكل نموذجى أكبر من TT xe) جزئ / ( لتر ) ( ثانية )؛ أكبر من “,+ ٠١ x ”ا أو أكبر من ٠١ x Ve '. فى بعض النماذج التى لها طبيعة متماثلة؛ الطبقة الوظيفية الرقيقة لها سمك أقل من STA ٠56 أقل من ٠٠١ هد ( على Ve سيل المثال 56 - of AA أيضاً طبقة طلاء السهلة المعالجة low-maintenance coating لها معدل SSE اسيتون acetone decomposition أكبر من واحد أو SSI من المستويات الملحوظة. فى بعض النماذج حيثما تكون الطبقة التحتية عبارة عن زجاج مقسىء تكون طبقة طلاء coating المنخفضة للصيانة لها متوسط خشونة سطح Ra average surface roughness ما بين ٠,76 NO نانومتر و 9,٠ نانوم؛ على سبيل المثال مابين ٠١ نانومتر و £0 نانوم؛ على سبيل المثال مابين ,٠ نانومتر و 0 ناتوم . أيضاًء لايكون من الضروري أن تقع خشونة السطح surface roughness ضرورية داخل أى من هذه المعدلات. على سبيل المثال؛ قد تتضمن بعض النماذج خشوشة أكبر. تشتمل طبقة طلاء A+ coating على طبقة رقيقة وظيفية functional film تتضمن كل من tungsten oxide s titanium oxide . فى بعض النماذج؛ بعضء فعلياً «JS أو كل tungsten ٠ الطبقة الوظيفية الرقيقة 5٠ يكون فى شكل oxide . فى بعض الحالات؛ تتكون الطبقة الوظيفية
vy - - الرقيقة 2٠ بشكل أساسى من tungsten oxides titanium oxide . بشكل مفضل؛ تحتوى الطبقة الوظيفية الرقيقة على titanium oxide أكثر من tungsten oxide . فى بعض التماذج؛ الطبقة الوظيفية الرقيقة 5+٠ لها مابين حوالى Yo -١ نسبة وزن من «tungsten على سبيل المثال حوالى ٠١ -١ نسبة وزن لذ tungsten ¢ ومن المحتمل بشكل نموذجى حوالى ١ -١ نسبة وزن لل tungsten © ( يتم تعيين تلك النسب على أساس وزن tungsten فى الطبقة الرقيقة بالنسبة للوزن الكلى لكل مكونات الطبقة ddl على سبيل المتال؛ التى فى بعض الحالات تتكون من الوزن المدمج لل tungsten s oxygen + titanium فى الطبقة الرقيقة ). يمكن أن تكون الطبقة الوظيفية الرقيقة 5٠ عموماً عبارة عن طبقة رقيقة متجانسة؛ طبقة رقيقة متجانسة clad طبقة رقيقة متدرجة؛ أو بعض الأنواع الأخرى من الطبقة Sa الغير متجانسة. فى أحد مجموعات النماذج؛ تكون ٠ الطبقة الوظيفية الرقيقة 5٠ عبارة عن طبقة رقيقة متجانسة أو متجانسة فعلياً والتى تتضمن كل من titanium oxide ( على سبيل المثال ,710 ) tungsten oxide s . يمكن أن تكون الطبقة الرقيقة ٠؛ على سبيل المثال؛ عبارة عن طبقة رقيقة متجانسة فعلياً ل oxide مختلط يتضمن كل من LS) tungsten oxides titanium oxide هو مفترض للطبقة الرقيقة من TiO; مع جزر WO على سطح 1710 ). فى بعض النماذج؛ تكون الطبقة الرقيقة المتماثلة فعلياً فى أنها لاتتضمن V0 جزئيات متكونة سابقاً ( على سبيل المثال ,710 ) موزعة فى مادة رابطة ( على سبيل المثال WO )
فى بعض النماذج المفضلة؛ تعرف الطبقة الوظيفية الرقيقة 5٠ السطح المعرض؛ الخارجى لطبقة
الطلاء سهلة المعالجة A فى نماذج Bg Al يتم وضع طبقة رقيقة واحدة على الأقل ( على سبيل المثال طبقة رقيقة محبة
دع للماء رفيعة؛ أو طبقة رقيقة حفزئية ضوئية أخرى ) على الطبقة الرقيقة للوظيفة. يتم توضيح نماذج لها طبيعة مماثلة بأمثلة فى شكل oF الذى يصف الطبقة الخارجية outermost film (OF) على الطبقة الوظيفية الرقيقة ov يمكن أن تزيد اضافة tungsten oxide الى الطبقة الرقيقة التى تتضمن titanium oxide النشاط © الضوئى وحب الماء hydrophilicity . بالرغم من ذلك؛ قد تكون الطبقة الرقيقة السميكة من tungsten oxide s titanium oxide محدودة من ناحية مقاومة للاغبرار» قوة التحمل؛ و/أو الثبات. على نحو غير متوقع؛ اكتشف المخترعون أن دمج tungsten oxide فى الطبقة الرقيقة من titanium oxide صغير السمك و/أو تقديم حمل tungsten عند نسب مئوية محددة يمكن ان يعطى نشاط ضوئى aa وحب الماء hydrophilicity بينما فى نفس الوقت تحقيق مقاومة للاغبرار جيدة؛ ٠ قوة تحمل؛ وثبات وجد المخترعون Lad أن هذه الخواص يمكن تحسينها عن طريق ضبط خشونة السمطح surface roughness للطبقة طلاء ( على سبيل المثال عن طريق ترسيب طبقة قاعدية باستخدام عملية خاصة عالية المعدل )؛ بضبط سمك الطبقة القاعدية؛ أو كلاهما. يمكن أن تشتمل الطبقة الوظيفية الرقيقة 5٠ على TIO (TiO, أو كلاهما. قد توجد أيضاً الأشكال الأخرى من titanium oxide . فى بعض النماذج؛ تشتمل الطبقة الرقيقة #٠ على titanium oxide tungsten oxide « 5 ؛ وعلى الأقل sale اضافية واحدة؛ على سبيل المثال مادة مختارة من المجموعة المكونة من tantalum ¢ nitrogen ¢ نحاس؟ palladium « silica ¢ قصدير tin ¢ niobium و molybdenum . يمكن استخدام " مواد اضافية additional materials * أخرى ايضاً. يمكن أن تكون المادة الاضافية عامل اذابة؛ والذى قد يوجد فى كمية حوالى نسبة وزن عشرة على الأكثرء على سبيل المثال حوالى نسبة وزن خمسة أو أقل؛ على سبيل المثال حوالى 7- 7 نسبة Ye وزن او اقل. قد تفضل التركيزات الأكبر فى حالات أخرى. يمكن أن توجد المادة الاضافية؛ عند Yai
Yo — - تقديمها؛ طوال الطبقة الوظيفية الرقيقة +5 أو فقط فى جزء معين من الطبقة الرقيقة .5٠ فى مجموعة واحدة من التماذ جٍ تشتمل الطبقة الوظيفية الرقيقة ov على nitrogen ء على سبيل المثال؛ يمكن أن تتضمن oxynitride عند وضعهاء قد يوجد nitrogen فى كمية نسبة وزن ٠١ او اقل بشكل مفضل نسبة وزن © أو اقل. © سمك الطبقة الوظيفية الرقيقة +5 عموماً يكون اقل من 8560 «CA بشكل مفضل اقل من cA © بشكل اكثر تفضيلاً اقل من CA You على سبيل المثال اقل من 700 CA اقل من ٠ رت او ايضاً اقل من ٠٠١ 28. فى بعض النماذج؛ السمك يكون CA 0 - 3١ بشكل مفضل 2A AS =f ومن المحتمل أن يكون بشكل نموذجى CAA =o وجد المخترعون ان قيم السمك هذه تتراوح لتكون مميزة تحديداً فى الانخفاض أو فى عدم وجودهاء Ve يمكن ان يظهر اللون مع الطبقات الرقيقة السميكة. فى بعض النماذج؛ بالرغم من ذلك؛ قد تستخدم ٠ الطبقات الرقيقة الأكثر سمكاً للتطبيقات حيث يكون اللون الأكثر مرغوباً؛ او على الأقل مقبولاًء أو حيثما تكون طبقة طلاء coating الأخرى او اللوح الزجاجى يعادل اللون بشكل ملائم. اكتشف المخترعون انه عندما يكون سمك الطبقة الوظيفية الرقيقة أقل من حوالى ٠٠١ حك ( بشكل اكثر تفضيلاً اقل من 50 م“ of يمكن للطبقة طلاء Av أن تحقق درجة من مقاومة ١5 الاغبرار. على سبيل المثال؛ يمكن أن يكون اغبرار اللوح الزجاجى الذى يحمل طبقة طلاء السهلة المعالجة coating عع0ه٠01نة-«م1 الحالية Av أقل من 70,40 بعد التطبيع؛ أو اقل من cL على سبيل المثال مابين ٠,١ وحوالى YY ,+ يمكن قياس الاغبرارية باستخدام BYK Gardner lea .Haze-Gard Plus يمكن اضاءة سطح العينة بشكل متعامد؛ ويتم قياس الضوء المنقول بشكل كهربى ضوئى؛ باستخدام كرة دمج ( صفز / الهندسة الانتشارية (diffuse geometry
VE tungsten و titanium oxide اكتشف المخترعون أنه اذا كان سمك الطبقة الرقيقة التى تتضمن يكون هناك Baie (CA Or بشكل مفضل اكبر من حوالى ( A £0 اكبر من حوالى oxide ؛ أو كلاهما عند تطبيع الطبقة hydrophilicity زيادة مفاجئ فى النشاط الضوئى؛ حب الماء لايظهر أن التطبيع يقدم تلك الزيادة. (lad يكون السمك أصغر Laie . التحتية المطبقة طلاء ْ أو اكبر ( على سبيل A *٠ من المحتمل بشكل نموذجى OS SA Er يفضل سمك حوالى © لذلك. لم يتم توضيح الآلية (CA 70 هر - 60 رء على سبيل المثال حوالى #٠ المثال حوالى خلف هذه الزيادة المفاجئة فى الخواص بشكل محدد. اعتقد؛ بالرغم من ذلك؛ أنه عندما يتم معالجة يسبب ذلك انخفاض فى كثافة الحالات التى بها عيوب hall الطبقة التحتية المطبقة طلاء يكون لها titania للطبقة الرقيقة مما يسمح للالكترونات المثارة ضوئياً” فى نطاق التوصيل من - عمر اطول مما ينتج عنه زيادة فى كفاءة الكم. ينتج عن كفاءة الكم المحسنة ازواج الكترون ٠ وايونات hydroxyl radicals )011«( أكثر لتخليق شقوق الهيدروكسيل electron-hole pairs الفجوة decompose and mineralize لتحليل ومعدنة المركبات العضوية superoxide ions )02"( السوبر oxidation reactions عن طريق المشاركة فى سلسلة من تفاعلات الأكسدة organic compounds او كلاهما. على نحو hydrophilicity ell ينتج عن ذلك تغيرز مرغوب فى النشاط الضوئى؛ حب مفاجئ؛ تحدث الزيادة ما لم يكن هناك تجاوز لأدنى حد للسمك. لايرغب المخترعون؛ برغم ذلك؛ VO فى الارتباط بذلك التوضيح. فى بعض النماذج؛ الطبقة الوظيفية الرقيقة 5٠ لها حمل tungsten يتميز بنسبة ذرية للفلز فقط Sr Tad eBa TE Jay 0) Jo go JB die le nf eee) Ula cui عدد ذرات tungsten فى الطبقة الرقيقة 5٠ مقسوماً على عدد ذرات التيتانيوم فى الطبقة الرقيقة .number of titanium atoms in the film Y+
Yas
الا - عند الاشارة لشكل BY بعض النماذج؛ تشتمل الكشوة سهلة المعالجةع60200 low-maintenance ٠ على طبقة رقيقة قاعدية base film بين الطبقة الوظيفية الرقيقة ٠ ٠ functional film والطبقة التحتية .٠١ عموماًء يمكن أن تكون الطبقة الرقيقة القاعدية ١١ أى مادة مناسبة تلتصق جيداً بالطبقة التحتية؛ تحمى الطبقة الوظيفية الرقيقة من انتشار sodium fon ؛ أو كلاهما.فى الحالات © التى فيها يتم اهمال الطبقة الرقيقة القاعدية Vo فإنه يمكن معالجة الطبقة التحتية ٠١ اختيارياً لتقليل أو بشكل محتمل استنزاف مساحة سطح الطبقة التحتية من 10056 8001070 . تتضمن الطبقة الرقيقة القاعدية ١١ طبقة رقيقة عازلة فى بعض النماذج. فى بعض النماذج؛ تتضمن الطبقة الرقيقة القاعدية 5 «alumina « silica أو كلاهما يمكن أن تكون الطبقة الرقيقة القاعدية Vo اختيارياً طبقة رقيقة لل oxide مختلطة تشتمل على اثنين أو اكثر من المواد. فى بعض الحالات؛ تكون عبارة عن ٠ | طبقة رقيقة لذ oxide مختلطة تتضمن aluminas silica » أو السيلكيا SLL «titania titania 5 alumina . يمكن أيضاً استخدام مواد اخرى. يمكن أن تكون الطبقة الرقيقة القاعدية 10 عموماً ble عن طبقة رقيقة متجانسة؛ طبقة رقيقة متجانسة (lad طبقة رقيقة متدرجة؛ أو طبقات رقيقة غير متجانسة اخرى عند وضعهاء قد يتم ترسيب الطبقة الرقيقة القاعدية ١١ مباشرة على الطبقة التحتية؛ مع طبقة رقيقة وظيفية functional film VO مترسبة على الطبقة الرقيقة القاعدية Vo لايكون ذلك بواسطة أى وسائل مطلوباً. عند وضعهاء يمكن أن تكون الطبقة الرقيقة القاعدية ١١ لها اختيارياً سمك أقل من حوالى 300 لم . فى بعض النماذج؛ الطبقة الرقيقة القاعدية ١١ لها سمك اقل من 775 م: أو أقل من CAYO يمكن أن تكون الطبقة الرقيقة القاعدية ١١ لها سمك على سبيل المثال ما بين 178 هر و 775 ها على سبيل المثال 700 A 775 - # A . تكون معدلات السمك الملحوظة؛ بالرغم من ذلك؛ ٠ تثيلية فحسب؛ قد يكون من المرغوب فيه تقديم قيم سمك ST على سبيل المثال لتقديم اكبر من mls لانتشار sodium ion .
الم -
فى بعض النماذج؛ تتضمن الطبقة الرقيقة القاعدية ١5 أو تتكون بشكل أساسى من silica alumina s السمك الداخلى للطبقة الرقيقة القاعدية؛. على سبيل (JU يمكن أن تتضمن اختيارياً oxide مختلط من aluminas silica . يمكن أن تتكون تلك الطبقة الرقيقة من oxide المختلط عن طريق الطلاء بالرش المهبطي للسبيكة الهدف التى تشتمل على aluminum silicon ؛ على © سبيل المثال حوالى 780 silicon وحوالى aluminum 728 ٠ » او حوالى 7728 silicon وحوالى aluminum 76 » حوالى 718 silicon وحوالى 75 aluminum » أو حوالى 7858 silicon وحوالى aluminum ١8 يمكن طلاء أهداف السبيكة تلك بطريقة الطلاء بالرش المهبطي فى جو مؤكسد. يمكن Lad ان تتكون طبقة رقيقة مختلطة لها نوع Slee عن طريق الطلاء بالرش المهبطي المصاحب لاثنين من الأهدافء حيث أحد الأهداف هو هدف silicon والهدف الآخر هو
٠ هدف aluminum . يمكن اجراء الطلاء بالرش المهبطي المصاحب فى جو مؤكسد. فى نماذج og Al تتضمن الطبقة الرقيقة القاعدية VO base film او تتكون بشكل أساسى من alumina . يعتقد ان مصنصسيسله Jala جيد لانتشار sodium don . وقد تساعد فى تحسين أداء الطبقة التحتية المطبقة ea فى اختبار معين ( على سبيل المثال 7٠٠١ اختبار الرطوبة النسبية فى نماذج اخرى laf تتضمن الطبقة الرقيقة القاعدية ١١ أو تتكون بشكل أساسى من silicon 008 . يقدم أحد النماذج طبقة تحتية عليها يتم وضع طبقة الطلاء سهلة المعالجة والتى تتضمن الطبقات الرقيقة التالية فى تتابع: الطبقة التحتية / الطبقة الرقيقة متضمنة silicon nitride / الطبقة الرقيقة متضمنة كل من tungsten oxide 5 titanium oxide . فى هذا النموذج؛ يكون هناك اختيارياً واحدة او اكثر من الطبقات الرقيقة الاضافية تحتء بين و/أو على الطبقات الرقيقة الملحوظة. ٠٠ بطريقة اخرى» يمكن أن تكون الطبقة الرقيقة التى تتضمن silicon nitride مجاورة للطبقة التحتية؛
قو
ويمكن ان تكون الطبقة الرقيقة التى تتضمن tungsten oxide / titanium oxide مجاورة للطبقة الرقيقة التى تتضمن silicon nitride عند الحاجة؛ يمكن أن يكون لهاتين الطبقتين الرقيقتين سمك
اقل من Tou ل . فى النموذج الحالى؛ يمكن أن تكون الطبقات الرقيقة التى pean على
tungsten oxide / titanium oxide s silicon nitride «ag sil أى من الخواص والخصائص
© الموصوفة هنا للطبقة الرقيقة ٠ والطبقة الرقيقة القاعدية Vo base film على الترتيب.
فى بعض النماذج المفضلة؛ يتم تقديم طبقة طلاء سهلة المعالجة لها متوسط خشونة سطح Ra average surface roughness مابين «Yo نانومترو call ©, ٠ على سبيل المثال مابين 8,؛ نانومترو 5,٠ نانوم» وفى بعض ١,7 Gale نانومترو 7,٠ نانوم. قد يقدم الطلاء بالرش المهبطي المتفاعل DC التقليدى خشونة سطح حوالى ١,7 نانومتر لطبقة طلاء تتكون من طبقة
٠ أولى تتضمن silica عند حوالى A Vo و طبقة TIO; فوقية عند حوالى + م فى النماذج الحالية؛ يمكن استخدام تقنيات خاصة لتقديم طبقة طلاء لها متوسط خشونة فى المعدلات المحددة. يمكن ترسيب الطبقة الرقيقة القاعدية base film + على سبيل JE الطلاء Gil المهبطي باستخدام عملية خاصة عالية المعدل ( على سبيل المثال؛ باستخدام كمية كبيرة من (argon عند استخدام Ade عالية المعدل؛ تميل الطبقة الرقيقة القاعدية لتظهر خشونة سطح
Ve داخل المعدلات الملحوظة ( طرق ترسيب مناسبة A) )؛ يمكن استخدام مواد بادئة مناسبة» و/أو معالجات مابعد الترسيب لتقديم مستويات خشونة السطح surface roughness الملحوظة؛ وتكون
تلك الوسائل الأخرى داخل مجال النماذج الحالية ). عندما يتم ترسيب الطبقة الوظيفية الرقيقة *٠
على هذه الطبقة الرقيقة القاعدية base film المتحكم في خشونتهاء يمكن أن تكون طبقة الطلاء
سهلة المعالجة لها مستوى مميز من خشونة السطح surface roughness . بالاضافة إلى ذلك أو
٠ بطريقة أخرى؛ يمكن ترسيب الطبقة الوظيفية الرقيقة ٠+ بالطلاء بالرش المهبطي باستخدام عملية عالية المعدل ( على سبيل المثال باستخدام هدف oxide ؛ كمية كبيرةة من argon أو كلاهما ). Yau
YY. - -— يعتقد أن المستوى الناتج من خشونة السطح surface roughness يسهم في قدرة طبقة طلاء coating على تحقيق نشاط ضوئي جيد مع تقديمه عند ذلك السمك الصغير. في النماذج التي لها خشوشة سطح محكمة الحالية؛ تكون طبقة طلاء coating ملساء نسبياً مقارنة بالطبقات الرقيقة الناتجة بواسطة الكثير من الطرق التقليدية الأخرى التي ينتج عنها خشونة سطح © عالية. فيما يتعلق بذلك؛ يتم تحديد الطبقات الرقيقة الحالية بحيث يكون لها مستوى خشونة سطح يثبط جزيئات الأتربة من أن تصبح محبوسة داخل خشونة طبقة طلاء . عندما تصبح جزيئات الأتربة محبوسة في خشونة طبقة coating eda ؛ يكون من الصعب إزالة الجزيئات المحبوسة. لا يسبب النشاط الضوئي الطبقة طلاء تحطم المواد الغير عضوية / المعادن ٠ لذلك قد as محبوسة في طبقة طلاء . 3 ٠ على العكسش؛ يمكن تحديد أن طبقة طلاء السهلة المعالجة low-maintenance coating الحالية ملساء بدرجة كافية بحيث تكون الكثير من جزيئات الأتربة كبيرة على أن يتم حبسها في خشونة طبقة Da ء وبالتالى السماح بإزالة هذه الجزيئات بسهولة. تقدم مجموعة واحدة من النماذج طبقة طلاء سهلة المعالجة 5٠ مع طبقة رقيقة قاعدية base film ٠ هي طبقة رقيقة تم طلائها بالرش المهبطي عالية المعدل؛ التي يمكن ترسيبها ( كمثال ) من VO هدف واحد على الأقل جو فيه يتدفق كل من الغاز الخامل inert gas والغاز المتفاعل. بشكل مفضل؛ نسبة معدل التدفق الداخلي للغاز الخامل ( على سبيل المثال (Ar مقسومة على معدل التدفق الداخلي للغاز المتفاعل ( على سبيل المثال ,0 ) ما بين ٠,4 و 5؛ على سبيل المثال ¢ «* و ل بشكل شائع مابين ¢, * و ©, إل وفي an الحالات ما بين ©, 9 NY في
وا بعض النماذج؛ يتكون الغاز المتفاعل بشكل أساسي من nitrogen « oxygen ¢ أو كلاهما. تقدم بعض النماذج الطبقة الرقيقة القاعدية base film كطبقة رقيقة تتضمن 5:0 أو -SisNg في بعض ox Hall تتضمن تقنية الطلاء بالرش المهبطي عالية المعدل high-rate sputtering technique لترسيب الطبقة الرقيقة القاعدية أغلب الأهداف التي يحمل كل منها مادة قابلة للطلاء بالرش
٠ المهبطي المتكونة بشكل أساسي من : ١ ) واحد أو ST من الفلزات metals او ؟ ) واحد . أو أكثر من اشباه الفلزات semimetals » أو © ) فلز واحد على الأقل وشبه فلز واحد على الأقل. كأحد الأمثلة؛ يمكن أن تتضمن الطبقة الرقيقة القاعدية base film عالية المعدل silica تم طلائها بالرش المهبطي من أهداف تتكون من حوالى 7/85 صوعتلذه وحوالى aluminum 7١9 جو فيه يتدفق argon عند حوالى 0 - LAS مع Oxygen متبقي.
٠ بالاضافة إلى ذلك أو بطريقة أخرى؛ يمكن أن تكون الطبقة الوظيفية الرقيقة +5 طبقة رقيقة تم طلائها بالرش المهبطي عالية المعدل؛ التي يمكن ترسيبها ( كمثال ) من هدف واحد على الأقل له مادة قابلة للطلاء بالرش المهبطي تتضمن tungsten oxide s titanium oxide . عن التعرض للجو المستخدم للترسيب بطريقة الطلاء بالرش المهبطي للطبقة الوظيفية الرقيقة 0 تكون نسبة معدل التدفق الداخلي للغاز الخامل ( على سبيل المثال (Ar مقسوماً على معدل التدفق الداخلي
٠ للغاز المتفاعل ( على سبيل المثال ,0 ) بشكل مفضل ما بين 055 و 0.9 على سبيل ما بين كو ا يمكن طلاء الطبقة الوظيفية الرقيقة 00 على سبيل المثال الطلاء بالرش المهبطي من أهداف oxide في جو يتدفق فيه argon عند [AC مع بقية من 087860 .
في بعض النماذج؛ أهداف oxide له مادة ALE للطلاء بالرش المهبطي تتضمن: tungsten ) ١ ٠ في شكل ١7 5«Tiop ) ١ : oxide ):1:0. Yay
اسم - في بعض الحالات؛ يتضمن هدف oxide مادة ALE للطلاء بالرش المهبطي تتكون بشكل أساسي من ٠ tungsten oxide s titanium oxide حيث يوجد titanium عند حوالى 55 = Joys VE يوجد tungsten عند حوالى YA - ١,4 وزن of ويوجد oxygen عند حوالى TAT = YT وزن 7. يختلف التركيب المحدد؛ بالطبع؛ اعتمادا على احتياجات المنتج المحدد. 8 في النماذج الحالية ) حيث تشتمل طبقة طلاء coating على طبقة قاعدية عالية المعدل؛ طبقة رقيقة وظيفية Ade functional film المعدل» أو كلاهما )؛ يمكن أن تكون طبقة طلاء coating لها خشونة سطح داخل واحد أو أكثر من المعدلات الملحوظة هنا. بالطبع قد تتطلب الاستخدامات المختلفة مستويات مختلفة لخشونة المطح surface roughness « لذلك لا تكون تلك المعدلات مطلوبة. بصورة dlls يمكن أن يكون للطبقة طلاء في النماذج ٠ الحالية سمك صغير ومستويات تفكك اسيتون acetone decomposition عالية محددة Ua بالرغم منذ oll لا يكون أى منها ضرورة بشكل دقيق؛ في حين قد تحتاج المنتجات المختلفة لسمك (Calis مستويات نشاط ضوئي مختلفة؛ إلخ. عندما تتكون طبقة طلاء 088هه» بشكل أساسي من طبقة رقيقة مطلية بالرش المهبطي يمكن أن يكون لها درجة من التماتل في السمك. في تلك النماذج؛ يختلف السمك الفيزيائي للطبقة طلاء physical thickness of the coating ٠ بشكل مفضل بأقل من 5٠6 ث؛ وبشكل أكثر تفضيلا بأقل من CA ٠١ عبر مساحة طبقة طلاء . أى؛ لا يكون أقصى سمك موضعي للطبقة طلاء هو بشكل مفضل أكبر من SA Er أكبر ( على سبيل المثال ليس أكبر من 7١ > ) من أقصى سمك موضعي للطبقة طلاء ؛ مع الأخذ في الاعتبار سمك طبقة طلاء عند كل المناطق. يمكن أن يقدم تماتل سمك تلك طبقة طلاء المطلية بالرش المهبطي خواص متماثلة تحديدا ( لون color ؛ ٠ انعكاس مرثي visible reflection ؛ فقد الغبار lack of haze » إلخ. ). تقدم بعض النماذج طبقة طلاء السهلة المعالجة low-maintenance coating لها طبقة رقيقة 91و vy vou من حوالى Ji لها سمك مدمج ٠ functional film وطبقة )488 وظيفية base film قاعدية هلا أو حتى أقل من 7060 . تقدم بعض النماذج طبقة طلاء سهلة المعالجة بها فقط طبقة فقط ( على سبيل المخثال طبقة واحدة فقط single photocatalytic layer حفزية ضوئية مفردة في هذه النماذج تحقق بشكل 80 coating eda Adda أيضا (titanium oxide تشتمل على مفضل معدلات ترسيب الأسيتون الموصوفة هنا (على سبيل المثال حتى عندما يكون سمك الطبقة © .) لي ٠٠١ حثء أو أقل من You المفردة أقل من photocatalytic layer الحفزية الضوئية tungsten و titanium oxide بشكل مفضل؛ الطبقة 50 في هذه النماذج تحتوى على كل من بشكل عام أكثرء يمكن أن تكون الطبقة الحفزية الضوئية .25٠ طوال السمك الداخلي للطبقة oxide ¢ tungsten للنماذج الحالية لها خواص وخصائص ( سمك؛ حمل 3280) photocatalytic layer ؛ وضوح المنتج الثانوي للعملية؛ إلخ ) لأى نموذج موضضوف surface roughness خشونة السطح Ve هنا. أيضاء في النماذج الحالية؛ تشتمل طبقة طلاء بشكل مفضل على الطبقة القاعدية الاختيارية يمكن أن تكون » photocatalytic layer وبصورة تماثل الموجودة مع الطبقة الحفزية الضوئية ٠ ؛ thickness الطبقة القاعدية ( عند التقديم في النماذج الحالية ) لها خواص والخصائص ( سمك ؛ وضوح المنتج الثانوي للعملية) لأى نموذج موصوف هنا. في surface roughness خشونة السطح
) النماذج الحالية؛ يمكن أن تكون طبقة طلاء رقيقة جدا ( وبالتالى لها لون قليل أو ليس لها لون Ve وأيضا يمكن أن تحقق على نحو مفاجئ معدلات نشاط ضوئي عالى. اكتشف المخترعون أنه يمكن تحقيق هذا النشاط الضوئي الجيد حتى عند تكون طبقة طلاء رقيقة جدا بحيث لا تسبب أى خلل يمكن أن ood مرئي إذا خدشت طبقة طلاء أو اتلفت غير ذلك. هكذاء حتى إذا تلفت طبقة يكون التلف مرئي أو على الأقل غير ملحوظ. base بشكل أساسان طبقتين: طبقة رقيقة قاعدية coating oda تتكون طبقة lal في بعض "٠ في نماذج أخرى؛ ما بين الطبقة التحتية .5٠ functional film وطبقة رقيقة وظيفية Yo film يتم تقديم طبقة رقيقة أخرى واحدة على الأقل؛ على سبيل المثال يمكن ١١ والطبقة الرقيقة القاعدية vas
دهم - أن تتضمن الطبقة الداخلية الاختيارية silica أو silicon nitride ؛ ويمكن أن تتضمن الطبقة الرقيقة القاعدية tungsten oxide ¢ titania ¢ alumina YO ¢ أو zirconia oxide . تعتبر الكثير من الأنواع الأخرى ممكنة وتكون واضحة eVsed الماهرين مع إعطاء الدراسات الحالية كإرشاد. بالاضافة إلى ذلك أو بطريقة أخرى؛ يمكن أن تشتمل طبقة الطلاء سهلة المعالجة Av اختياريا © على طبقة رقيقة إضافية واحدة على الأقل ٠١ بين الطبقة الوظيفية الرقيقة ov والطبقة الرقيقة القاعدية .١١ توضح الأشكال ؛ و © طبقة رقيقة وسيطة مفردة Yo لها طبيعة مماثلة. بالرغم من ذلك؛ يمكن تقديم طبقات رقيقة وسيطة متعددة؛ عند الحاجة. عند تقديمها؛ يمكن أن تتضمن تلك الطبقة ( الطبقات ) الرقيقة مواد مختلفة؛ على سبيل المثال zirconia « titania » alumina « silica tungsten oxide | كأمثلة فقط. يوضح جدول ١ لاحقا نموذج حيث طبقة الطلاء سهلة المعالجة 8.٠ لها سمك كل 7726 CA تقريبا. من المدرك؛ بالرغم من ذلك؛ أن طبقة طلاء A+ coating يمكن أن يكون لها سمك أكبر «JST اعتمادا على متطلبات الاستخدام المقصود. تكون قيم السمك الأصغر متوقعة أيضاً. ما يلى عبارة عن نماذج تمثيلية عديدة : جدول ١ (طبقة طلاء رقم )١ المكون المادة السمك (تتضمن؛ تتكون بشكل أساسي من؛ أو تتكون من) الطبقة الوظيفية الرقيقة A 50 tungsten oxide 5 titania 5٠ - 80 ف لظم على سبيل المثال؛ A 70 الطبقة الرقيقة القاعدية Vo طبقة رقيقة تحتوى على | 50م - 400 «silicon تتضمن اختياريا على سبيل A «JE 200 SiO, أو يتاونك ب
0 ew am) جدول ؟ (طبقة طلاء رقم ؟) تتكون من) الطبقة الوظيفية الرقيقة A 80 -0 tungsten oxide s titania 8 على سبيل (JE A 70 الطبقة الرقيقة القاعدية (A 400 — A 50 alumina ١٠١ base film على سبيل المثال؛ 200 . Les] ama جدول ؟ (طبقة طلاء رقم ) من؛ أو تتكون من) الطبقة الوظيفية الرقيقة A -50 tungsten oxide 5 titania 5٠ 80 A JG 70 الطبقة الرقيقة الوسطية Yo طبقة رقيقة تحتوى على A —10 | «silicon 300 تتضمن اختياريا 5:02 أو Si3N4 على سبيل 40A «Jia الطبقة الرقيقة القاعدية A -0 alumina base film 300 على سبيل المثال؛ A 30
- ve (¢ جدول ؛ (طبقة طلاء رقم المكون المادة (تتضمن؛ تتكون بشكل السمك أساسي من؛ أو تتكون من) «80 A—50 tungsten oxide 5 titania 0. الطبقة الوظيفية الرقيقة
A 70 على سبيل المثال؛ 300A - 10 A alumina Yo الطبقة الرقيقة الوسطية
A «JE على سبيل 300 A -0 silicon طبقة ,488 تحتوى على ١ ١١ الطبقة الرقيقة القاعدية
A 30 JB تتضمن اختياريا 5102 أو على سبيل
Si3N4 ew ee ٠١ بين الطبقة التحتية ١١ في شكل 0 تشتمل طبقة الطلاء سهلة المعالجة 860 على طبقة رقيقة على OF عند وضعهاء يمكن أن تتضمن الطبقة الرقيقة 0 base film والطبقة الرقيقة القاعدية ٠١ مختزل شفاف ( 200 ). يمكن أن تكون الطبقة الرقيقة oxide سبيل المثال؛ طبقة رقيقة لا يكون ذلك؛ .١١ والطبقة الرقيقة القاعدية ٠١ اختياريا ملامسة مباشرة لكل من الطبقة التحتية © ( يمكن تقديم واحدة أو أكثر من الطبقات الرقيقة الأخرى (JU برغم ذلك؛ ضروريا على سبيل / 500 / 5:0 ؛ أو تتابع طبقة رقيقة تتضمن silica على سبيل المثال طبقة رقيقة مفردة تتضمن يمكن cal بالاضافة إلى ذلك أو بطر يقة OF والطبقة الرقيقة ٠١ بين الطبقة التحتية SiO
Ble ١ و / أو ١٠؛ عند الحاجة. في بعض النماذج؛ الطبقة الرقيقة ١5 إسقاط الطبقات الرقيقة zine المناسبة على TCO ة. تشتمل الطبقات الرقيقة semiconductor عن طبقة رقيقة شبه موصل ٠ في بعض النماذج؛ يتم تقديم الطبقة . indium tin ؛ وعفنده fluorine مدعم ب » aluminum oxide
Yan
YY ~- الس الرقيقة ١١ عند سمك ٠٠.٠٠١ لم أو أقل؛ على سبيل المثال ما بين حوالى ٠.٠٠١ . إلى . حوالى 7,006 CA على سبيل المثال حوالى 2.0060 CA بتقديم طبقة رقيقة مختزلة شفافة ٠١ تحت طبقة الطلاء سهلة المعالجة 80؛ من الممكن تقليل قيمة U الكلية لتركيب الألواح الزجاجية التي تدمج الطبقة التحتية المطبقة طلاء . © ما يلى le عن نماذج تمثيلية قليلة. جدول o (طبقة طلاء رقم (e Ll المادة (تتضمن؛ تتكون بشكل السمك أساسي من؛ أو تتكون من) الطبقة الوظيفية الرقيقة A -0 tungsten oxide s titania ov 80 المثال» 70 A الطبقة الرقيقة الوسطية Yo طبقة رقيقة تحتوى على 10A | «silicon - 300 تتضمن اختياريا Si02 أو A Si3N4 المثال» 40 A الطبقة الرقيقة القاعدية ~A10| alumina base film 300 A ‘o المثال» 30 A الطبقة الرقيقة شبه الموصلة oxide ١“ موصل شفاف A 1,000 | oxide) - A tin «ITO ¢ aluminum zinc 7,000 oxide مدمم بالفلورء أو أي Ya“
YA — - TTT TTT TCO | | آخر) المثال» 3,000 A | a en جدول To (طبقة طلاء رقم * أ) المكون المادة )3 تتضمن» تتكون بشكل السمك أساسي من؛ أو تتكون من) الطبقة الوظيفية الرقيقة A -0 tungsten oxide 5 titania © ٠ 0ق على سبيل JE 0 0 الطبقة الرقيقة الوسطية ٠ ؟ طبقة رقيقة تحتوى على 300A - 10A | «silicon تتضمن اختياريا 5102 أو 4 | Le سبيل المثال؛ A 70 الطبقة الرقيقة شبه الموصلة oxide VY موصل شفاف A oxide) 1,000 - A oxide ITO « aluminum 5 zinc 7,000« tin مدمم ب fluorine « أو أي على سبيل المثال؛ TCO آخر) 3,000 A طبقة حاملة طبقة 44d; تحتوى على A -0 ¢ silicon 800« : تتضمن اختياريا 5102 أو SBN على سبيل المثال؛ A 500 جدول © ب (طبقة طلاء رقم © ب) ٠5 7 ١
و المكون | المادة pana) تتكون بشكل أساسي | السمك من؛ أو تتكون من) الطبقة الوظيفية الرقيقة A —50 | tungsten oxide 5 titania | 5٠ 80 المثال» 70 A الطبقة الرقيقة الوسطية 300A - 10 A alumina | ٠١ A 70 (Ji الطبقة الرقيقة شبه الموصلة | oxide موصل شفاف A zinc oxide) 1,000 - ل A tin oxide «ITO « aluminum s 7,000 مدمم ب fluorine + أو أي TCO آخر) على سبيل المثال» 3,000 A طبقة حاملة طبقة رقيقة تحتوى على A -0 ¢ silicon 800« تتضمن اختياريا 5:02 أو Si3N4 على سبيل A «JE 500 eas | مي CT تقدم أحد مجموعات النماذج طبقة تحتية لها سطح رئيسي عليه يتم طبقة طلاء الطبقات الرقيقة التالية بالتتابع؛ تحريكها للخارج من السطح الرئيسي: )١( طبقة رقيقة وظيفية functional film أولى تتضمن مادة مختارة من المجموعة المكونة من indium tin oxide ¢ zinc aluminum oxide ¢ tin oxide محتوى على fluorine ؛ و (Y) طبقة رقيقة وظيفية functional film ثانية تتضمن كل © من tungsten oxides titanium oxide . في بعض هذه النماذج؛ تكون نسبة السمك المحددة كسمك للطبقة الوظيفية الرقيقة الثانية مقسومة على سمك الطبقة الوظيفية الرقيقة الأولى ما بين ١006 Jia وحوالى 0.08 ومن المحتمل بشكل أكثر تفضيلا ما بين حوالى 0.004 وحوالى ١ 79
م -
١5 . في أحد GARY الطبقة الوظيفية الرقيقة الثانية لها سمك حوالى TA 7١ والطبقة الوظيفية الرقيقة الأولى ( على سبيل المثال طبقة oxide المختزلة الشفافة ) لها سمك حوالى ٠.٠٠٠ حث بحيث نسبة السمك الملحوظة حوالى 0.077 في مثال «AT الطبقة الوظيفية الرقيقة الثانية لها سمك حوالى TA 7١ والطبقة الوظيفية الرقيقة الأولى لها سمك حوالى CA Yee بحيث نسبة © السمك ملحوظة هي حوالى 0.075 في مثال آخر أيضاء الطبقة الوظيفية الرقيقة الثانية 5٠ لها سمك حوالى TA Ve والطبقة الوظيفية الرقيقة الأولى لها سمك CA 2,00 60 (Ja بحيث نسبة السمك الملحوظة هي حوالى 0,014. في مثال AT أيضاء الطبقة الوظيفية الرقيقة الثانية 5١٠ لها سمك حوالى A on والطبقة الوظيفية الرقيقة الأولى لها سمك حوالى CA Tee بحيث نسبة السمك الملحوظة هي حوالى 0,0176. في بعض النماذج الحالية؛ نسبة السمك الملحوظة تكون Ye داخل واحد أو أكثر من المعدلات المحددة اتحادا مع الطبقة الوظيفية الرقيقة الثانية أقل من سمك ٠ أنجستروم؛ على سبيل المثال أقل من ٠٠١ انجستروم سمكاء و / أو الطبقة الوظيفية الرقيقة
الأولى لها سمك أقل من 0,500 انجستروم سمكاء أو حتى أقل من 7,906 انجستروم. في بعض الحالات؛ يتم وضع طبقة طلاء سهلة المعالجة Av على سطح رئيسي واحد للطبقة التحتية ويتم وضع طبقة طلاء coating الوظيفية الأخرى 7١0 على السطح الرئيسي المقابل لنفس VO الطبقة التحتية. يوضح شكل ١ أحد تلك النماذج. (lia الطبقة التحتية ٠١ لها سطح أول VY يحمل طبقة الطلاء سهلة المعالجة Av والسطح الثانى VE يحمل طبقة طلاء وظيفية أخرى Ve يمكن أن تكون طبقة طلاء الوظيفية Ve عبارة عن طبقة مفردة أو مجموعة من الطبقات. يمكن استخدام طبقات طلاء وظيفية مختلفة. في بعض الحالات؛ طبقة طلاء الوظيفية Ve هي طبقة طلاء منخفضة القدرة الابتعاثية. في بعض النماذج؛ طبقة طلاء Ve لها ثلاث أو أكثر من الطبقات ٠ العاكسة للأشعة تحت الحمراء ( على سبيل المثال طبقات تحتوى على الفضة ). يتم وصف طبقات الطلاء منخفضة القدرة الابتعاثية التي بها ثلاث أو أكثر من الطبقات العاكسة للأشعة تحت الحمراء Ya“ ey
OY [LEAT “مه ند (VY [0813 0Y في طلبات براءة الولايات المتحدة أرقام الدراسات الملحوظة كل منها مذكور OY / 273 500) J 7ر8 45 ل١ 48,7
Ve الوظيفية coating يمكن أن تكون طبقة طلاء (eal هنا على سبيل المرجع. في حالات عبارة عن طبقة طلاء " فضة مفردة ¢ أو ' فضة مزدوجة " منخفضة القدرة الابتعاثية؛ والتي تكون بطريقة Ve معروفة جيدا لهؤلاء الماهرين. عند تقديمهاء يمكن أن تتضمن طبقة طلاء الوظيفية © )؛ كما وضح الآن. TCO) مختزل شفاف oxide أخرى طبقة titanium oxide يشتمل منتج محدد واحد على التتابع التالى: طبقة رقيقة تتضمن كل من zinc oxide طبقة رقيقة تتضمن / silicon طبقة تحتية / طبقة رقيقة تتضمن / tungsten oxide oxide على silicon كأحد الأمثلة. يمكن أن تشتمل الطبقة الرقيقة التي تتضمن . aluminum اختيارياً له سمك aluminum 5 zinc oxide يمكن أن يكون (S10; على سبيل المثال ( silicon ٠ على سبيل المثال حوالى CA 1,500 أقل من 7,000 حثء أو أقل من CA Ave أقل من tungsten و titanium oxide يمكن أن تكون الطبقة الرقيقة التي تتضمن كل من CA Te
CGAY ت؛ على سبيل المثال أقل من ٠060 اختياريا لها سمك أقل من oxide عن زجاج؛ على سبيل المثال زجاج جيد الصودا. يمكن أن Ble يمكن أن تكون الطبقة التحتية التتابع الملحوظ على طبقات رقيقة أخرى بالاضافة إلى ما تم توضيحها. كأحد الأمثلة؛ Jas ٠ يمكن أن تشتمل الأداة على التتابع التالى: / silicon oxide طبقة رقيقة تتضمن / tungsten oxides titanium oxide طبقة رقيقة تتضمن zinc oxide طبقة رقيقة نتضمن / silicon oxide طبقة تحتية / طبقة رقيقة تتضمن طبقات؛ طبقات تحتية؛ اتصالات؛ إلخ. Aid) يمكن أيضا تقديم طبقات . aluminum اختيارياً لوح زجاج شفاف ٠١ substrate يمكن أن تكون الطبقة التحتية A بالرجوع للأشكال 7 و ٠
Coy هو زوج من وحدة تركيب الألواح الزجاجية insulating glazing unit الموضحة .٠١١ بشكل نموذجي؛ وحدة تركيب الألواح الزجاجية الموضحة ٠١١ لها لوح زجاجي خارجي ٠١ ولوح زجاجي أمامي 7٠١ منفصلا بواسطة فراغ زجاجي بينهما As يتم تقديم المباعد 5060 ( الذي يمكن أن يكون اختياريا جزء من إطار الزجاج ) بشكل شائع لفصل الألواح الزجاجية ٠١ و .7٠١ يمكن © إحكام ربط المباعد ٠ للأسطح الأمامية لكل لوح زجاجي باستخدام لاصق أو ale للتسرب ٠ في بعض الحالات؛ يتم تقديم مانع تسرب طرفي 3090. في النموذج الموضح اللوح الزجاجي الخارجي ٠١ له سطح خارجي ١١ exterior surface ( السطح رقم )١ وسطح داخلي VE interior surface ( السطح رقم 7 ). اللوح الزجاجي ٠١ له سطح interior surface Jah 0 ( السطح رقم ) والسطح الخارجي ١8 ( السطح رقم ؛ ). يمكن تثبيت الوحدة اختياريا في ٠ البنية ( على سبيل المثال بنية النافذة ) بحيث يتم تعريض السطح الخارجي ١١ للوح الزجاج الخارجي ٠١ لبيئة خارجية YY بينما السطح الخارجي ١8 للوح الزجاج الداخلي ”٠١ يتم تعريضه لبيئة داخلية لجانب الغرفة. يتم تعريض كل من الأسطح الداخلية VE و ١6 لجو في ما بين ELA .insulating glazing unit بين لوح الزجاج لوحدة تركيب الألوا ح الزجاجية المركبة space في Ar له طبقة طلاء سهلة المعالجة ٠١ للوح الزجاج ١١ 7؛ السطح الخارجي USE في نموذج في نماذج Av له طبقة طلاء سهلة المعالجة V0 للوح الزجاج VA السطح الخارجي A شكل VO كل من الأسطح الرئيسية الخارجية لوحدة 16 لها طبقات طلاء سهلة المعالجة. يمكن أن coal وفقا لأى نموذج موصوف في هذا الوصف. Av ) طبقات الطلاء ( coating تكون طبقة طلاء #ب. من ناحية - ١ عند الحاجة؛ يمكن أن تكون طبقة طلاء 80 أحد الموصوفين في الجداول أو أى نموذج آخر ( eo - ١ ب في الجداول © - ١ يمكن تقديم أى من طبقات الطلاء eg A
SOA السطح الخارجي OY لطبقة الطلاء سهلة المعالجة الموصوفة هنا ) على السطح الخارجي Ye مختارة من 7١ يمكن أن يكون له طبقة طلاء وظيفية ٠١ للوح الزجاج ١4 كلاهما. السطح الداخلي
Yas
داس المجموعة المكونة من طبقة طلاء coating منخفضة القدرة الانبعاثية وطبقة طلاء oxide مختزل شفافة. يمكن أن تكون وحدة 16 لها أثنين؛ ثلاث أو أكثر من لوح زجاج. على سبيل Jal تقدم أحد مجموعات النماذج وحدة تزجيج glazing unit لتركيب لوح زجاجي ثلاثي لها سطح خارجي analy exterior surface على الأقل يحمل طبقة طلاء سهلة المعالجة. © يمثل شكل 4 نماذج حيث الطبقة التحتية Ble ٠١ عن لوح زجاجي للنافذة مثبت على إطار نافذة ( على سبيل المثال في جدار خارجي 98 من البخار 54 ). في بعض الاستخدامات؛ يحمل السطح الأول للنافذة طبقة الطلاء سهلة المعالجة 80. في بعض النماذج التي لها طبيعة مماثلة؛ يتم تعريض السطح المسكو ١١ إلى بيئة خارجية VY ( على سبيل المثال ليكون معرض بشكل دوري للأمطار). يقدم الاختراع أيضا طرق لإنتاج نواتج سهلة المعالجة. في هذه الطرق؛ كل طبقة ٠ رقيقة من طبقة طلاء Ar coating يمكن ترسيبها عموما بواسطة مختلف تقنيات طبقة طلاء المعروفة جيدا. تشتمل تقنيات طبقة طلاء المناسبة؛ ولكنها غير قاصرة على؛ ترسيب البخار الكيميائي. chemical vapor deposition (CVD) « ترسيب البخار الكيميائي المعزز بالبلازما plasma enhanced chemical vapor deposition ¢ الترسيب الحراري pyrolytic deposition « ترسيب محلول - الجل والطلاء بالرش المهبطي sol-gel deposition and sputtering في نماذج VO مفضلة؛ يتم ترسيب الطبقات الرقيقة بالطلاء بالرش المهبطي. تتضمن بعض النماذج ترسيب طبقة الطلاء سهلة المعالجة ليكون لها متوسط خشونة مطح «Ra average surface roughness كما رسبء ما بين «Fo نانومترو ٠.60 نانوم؛ على سبيل المثال ما بين ١,79 نانومترو Vo نانوم؛ وفي بعض الحالات ما بين V0 0 نانومترو 1,0 نانوم. قد تحتاج الاستخدامات المختلفة؛ بالرغم من ld مستويات مختلفة للنشاط الضوئي؛ مستويات ٠ | مختلفة من خشونة السطح «surface roughness إلخ؛ لذلك لا تكون معدلات الخشونة الملحوظة
- oes ضرورية في كل النماذج. يمكن استخدامها لترسيب واحدة أو Yoo coat zone منطقة طبقة طلاء VY - ٠١ يصفا الشكلان ست أهداف VY - ٠١ يصفا الشكلان A أكثر من الطبقات الرقيقة لطبقة الطلاء سهلة المعالجة أعلى و/أو أسقف مسار الطبقة التحتية التي تتحرك في كل منطقة طبقة طلاء . يمكن استبدال واحد أو أكثر من الأزواج المستهدفة المجاورة؛ بالرغم من ذلك؛ بواسطة هدف مفرد؛ عند الحاجة. © كل زوج مجاور للأهداف قد يكون في غرفته الخاصة ( أو ” الفرجة الخاصة به" )؛ وقد يتم lle تقسيم الغرف إلى مناطق طبقة طلاء منفصلة. في حين أنه يمكن استخدام كثير من الأنواع المختلفة للطبقات طلاء لا تكون هذه التفاصيل بواسطة أى طرق محدودة. ( - تعتبر كل غرف الطلاء بالرش المهبطي والجهاز المتعلق متاحة تجاريا من مختلف المصادر يتم وصف تقنيات الطلاء بالرش المهبطي .) Leybold أو Applied Materils على سبيل المثال ٠ للماجيترون المفيدة والجهاز في طلب براءة الولايات المتحدة رقم 5,1776.,0948؛ الذي صدر في كل منطقة OY - ٠١ التقنيات البارزة المذكورة هنا على سبيل المرجع. في الأشكال «Chapin مجموعة Yoo " طبقة طلاء 700 يتم توضيحها كغرفة مفردة تشتمل على قاعدة ( أو ' أرضية ("eat " أو " غطاء علوي " أو ( ceiling 777؛ وسقف side walls من الجدران الجانبية بالرغم من ذلك؛ قد تتضمن كل منطقة YAY معا لربط تجويف الطلاء بالرش المهبطي (YY. VO طبقة طلاء فعليا سلسلة من الغرف. يمكن أن تتصل الغرف بسلسلة من الأنفاق أو قطاعات أثناء go بطول مسار الطبقة التحتية التي تنتقل ٠١ المرحلة الداخلية. يتم نقل الطبقة التحتية spaced-transport rollers ترسيب الطبقة الرقيقة عبر مجموعة من أسطوانات النقل المتباعدة
YY. و. أعلى مسار نقل ٠١ في شكل 770 - TY upper targets يتم تثبيت الأهداف العلوية ١ vas ض
اه -
الطبقة التحتية mounted beneath the path of substrate travel ©4. هكذاء تعمل منطقة طبقة
طلاء coat zone لشكل ٠١ كغرفة طلاء بالرش المهبطي سفلية. في شكل VY يتم تثبيت
الأهداف السفلية 860؟ا - 180و أسفل مسار تقل الطبقة التحتية 5؛. هكذاء تعمل منطقة طبقة
(Da لشكل ١١ كغرفة طلاء بالرش المهبطي sputtering chamber علوية. في شكل VY يتم
© تقديم كل من الأهداف العلوية 76؟أ = 776و والأهداف السفلية YAS = 17860و. يمكن لذلك
ترسيب واحدة أو SST من طبقات الطلاء سهلة المعالجة A+ low-maintenance coatings بالطلاء بالرش المهبطي على جانب واحد من الطبقة التحتية؛ بينما يتم طلاء واحد؛ أو أكثر من Clad
الرقيقة لطبقة طلاء وظيفية أخرى Vo بصورة متزامنة على الجانب الآخر من الطبقة التحتية. هكذاء
يمكن أن تعمل منطقة طبقة طلاء لشكل ١١ كغرفة طلاء بالرش المهبطي مزدوجة الاتجاه. يتم
٠ وصف غرف الطلاء بالرش المهبطي مزدوجة الاتجاه في طلب ely الولايات المتحدة رقم
5,771 1,57؛ الدراسات التي تخص غرف الطلاء بالرش المهبطي المزدوجة الاتجاه يتم ذكرها هنا
على سبيل المرجع. يوضح كل من شكل ٠١ و ١١ ست أهداف AS وشكل ١١ يوضح ١١
هدف كلى. ولكن لا يكون ذلك بأى وسيلة ضرورياً. مفضلا ذلك من أنه؛ يمكن تقديم أى عدد
مناسب من الأهداف. علاوة على ذلك؛ يوضح الشكلان ١١ - ٠١ أهداف أسطوانية؛ ولكن يمكن
cylindrical أو في مكان» الأهداف الأسطوانية cae استخدام أهداف مستوية ( اتحادا Lad ٠
(targets
في بعض النماذج؛ يتم تعريض الطبقة التحتية ٠١ إلى واحدة أو أكثر من المعالجات الحرارية heat
treatments . يمكن معالجة الطبقة التحتية؛ على سبيل (JE اختياريا بالحرارة قبل و / أو بعد
ترسيب طبقة الطلاء سهلة المعالجة. يمكن أيضا معالجة الطبقة التحتية بالحرارة أثناء ترسيب طبقة
٠ _ الطلاء سهلة المعالجة. على سبيل (JB) يمكن تسخين الطبقة التحتية اختياريا في واحدة أو أكثر
من الغرف التي فيها يتم ترسيب على الأقل بعض الطبقة التحتية التي تتضمن titania . في بعض
va“
النماذج؛ تشتمل طبقة الطلاء سهلة المعالجة Av على طبقة رقيقة قاعدية base film ويتم معالجة
الطبقة التحتية بالحرارة قبل بعد؛ أو أثناء ترسيب الطبقة الرقيقة القاعدية 0 من المدرك؛ برغم
ذلك أن طبقة طلاء coating لا يكون من الضروري أن تخضع للتسخين قبل؛ أثناء أو بعد
الترسيب.
© في بعض النماذج؛ تحدث المعالجة بالحرارة في غرفة تسخين heating chamber هي جزء من
المغلف. يشار للأشكال ١ و OE التي توضح أثنين من غرف التسخين التمثيلية 3060. هناء
تشتمل غرفة التسخين 00 على قاعدة ( أو " أرضية " 37١0 أغلب الجدران الجانبية side walls
١" والسقف ceiling ( أو ” الغطاء العلوي لنا top أو " الغلاف bee FFs ) " cover يربطا
تجويف التسخين YY عند dead يكون جهاز التسخين 760 TA مجاور لمسار نقل الطبقة
٠ التحتية mounted beneath the path of substrate travel . في شكل OY يتم تثبيت جهاز
التسخين TV. على مسار نقل الطبقة التحتية . قد تكون غرفة التسخين لشكل ١١ مفيدة تحديدا
لتسخين الطبقة التحتية التي عليها يتم ترسيب طبقة الطلاء سهلة المعالجة بواسطة الطلاء بالرش
المهبطي السفلي؛ على سبيل JE في غرفة طلاء بالرش المهبطي sputtering chamber سفلية
( كما وضح بواسطة شكل ٠١ ) أو غرف طلاء بالرش المهبطي مزدوجة الاتجاه ( كما وضح
VO بواسطة شكل ١١ ). في شكل VE يتم تثبيت جهاز التسخين TAL أسفل مسار نقل الطبقة التحتية mounted beneath the path of substrate travel .
قد تكون غرفة التسخين للشكل VE مفيدة تحديدا لتسخين الطبقة التحتية التي عليها يتم ترسيب
طبقة الطلاء سهلة المعالجة عن طرح الطلاء بالرش المهبطي العلوي؛ على سبيل المثال في غرفة
طلاء بالرش المهبطي علوية ( كما وضح بواسطة شكل ١١ ) أو غرفة طلاء بالرش المهبطي
386 7976 يمكن أيضا استخدام جهاز التسخين .) ١١ مزدوجة الاتجاه ( كما وضح بواسطة شكل ٠٠
vasa
ا ب Lal اتحادا مع طرق ترسيب تختلف عن الطلاء بالرش المهبطي. يمكن أن يشتمل جهاز التسخين 776 TAY على أى جهاز معروف في المجال لتسخين الطبقات التحتية للزجاج أو ما شابه. يمكن أن يكون الجهاز FAL 77٠0 على سبيل المثال سخان مقاومة. في بعض النماذج؛ يشتمل جهاز التسخين على سخانات خزفية ceramic heaters ؛ على Jue oe المثال سخانات كوارتز مشع radiant quartz heaters . أحد السخانات المناسبة هو High Intensity Quartz Faced Radiant Heater المباع تجاريا بواسطة «Chromalox, Inc. الاتحاد الذي له مركز الرئاسة في Pittsburgh, Pennsylvania, USA في بعض النماذج؛ تستخدم لمبات flash lamps وميض للتسخين . إن سخانات الأشعة تحت الحمراء الخزفية Ceramic infrared heaters تكون متاحة من مختلف المورديين التجاريين» على سبيل المثال : :
. (Scarborough, Ontario, Canada) National Plastic Heater Sensor & Control Inc. ٠ يمكن إجراء bal غرف التسخين التي تقوم بالمعالجة ١4 و VF يوضح الشكلان La بطريقة أخرى ( أو بشكل إضافي ) عند مواقع أخرى داخل heat treatments المعالجات الحرارية يمكن إجراء المعالجات الحرارية داخل غرفة الترسيب؛ على سبيل (Jd! المغلف. على سبيل المثال داخل غرفة الطلاء بالرش المهبطي. هكذاء يمكن تقديم جهاز تسخين داخل غرفة الترسيب. mounted beneath مسار نقل الطبقة التحتية Ja على سبيل المثال؛ يمكن تثبيت جهاز التسخين VO في غرفة ترسيب سفلية ( على سبيل المثال غرفة طلاء بالرش £0 the path of substrate travel
المهبطي sputtering chamber سفلية ). كبديل AT يمكن تثبيت جهاز التسخين أعلى المسار £0 في غرفة ترسيب علوية (على سبيل المثال غرفة طلاء بالرش المهبطي). يمكن تثبيت جهاز التسخين على موقع داخل غرفة الترسيب BY عكس الاتجاه الذي منه يحدث الترسيب؛ في نفس الاتجاه الذي منه يحدث الترسيب؛ أو المكان
EP
الذي فيه يحدث الترسيب. يمكن القيام بالتسخين أيضا داخل غرفة الترسيب عن طريق ضبط معاير الترسيب لرفع درجة حرارة الطبقة التحتية. تعتبر طرق ضبط معايير الترسيب معروفة لهؤلاء الماهرين في المجال ولا تحتاج هي غرفة طلاء بالرش المهبطي ll لمناقشتها بالتفصيل. في بعض الحالات؛ غرفة إلى جو الطلاء بالرش المهبطي. في hydrogen أو helium ويتم إضافة sputtering chamber 6 مفضلا ذلك عن الطلاء بالرش (AC يمكن استخدام الطلاء بالرش المهبطي eal حالات لرفع درجة حرارة الطبقة التحتية. هكذاء يمكن تسخين الطبقة التحتية إختياريا في (DC المهبطي يتم ترسيب الطبقة الوظيفية الرقيقة٠ 0 وقد ينتج التسخين على Led غرفة ترسيب واحدة على الأقل الأقل عن عملية الطلاء بالرش المهبطي ذاتها. في بعض النماذج؛ تحدث المعالجة الحرارية عند قطاع مرحلة داخلية 5080 من المغلف ( أى في 0 section يتضمن القطاع Vall قطاع غير الترسيب بين غرف الترسيب المجاورة ). في بعض يفهم .٠٠١ الذي يعمل غرفة التسخين 700 وغرفة الطلاء بالرش المهبطي 0٠ البين مرحلي يمكن بدلا من ذلك أن يصل أثنين من غرف .40٠0 الماهرون في المجال أن القطاع البين مرحلي الطلاء بالرش المهبطي أو قطاعين أخرين من المغلف بشكل مفضل؛ تمتد أسطوانات النقل من غرفة واحدة؛ من خلال القطاع البين مرحلي 500؛ وفي الغرفة التالية. تنتقل الطبقة التحتية من VO بشكل نموذجي؛ بمجرد تنقل الطبقات Eee واحدة إلى أخرى بالمرور من خلال القطاع die التحتية من غرفة إلى أخرى؛ تفقد حرارة من الطبقة التحتية. هكذاء في بعض النماذج؛ يتم تهيئة القطاع البين مرحلي 080 للسماح للطبقة التحتية بالاحتفاظ بالحرارة؛ بحيث تتتقل الطبقة التحتية . 4060 يقل فقد الحرارة. في بعض الحالات؛ يتم تقديم جهاز تسخينه في قطاع بين مرحلي de Dla بواسطة مصدر تسخين خارجي؛ على 5080 age في حالات أخرى. يتم تسخين القطاع البين ٠
Yan
— $9 - سبيل المثال؛ سخان مشع radiant heater .
عند الحاجة؛ يمكن أن يجمع القطاع section البين مرحلي 5٠0٠0 المادة التي تحمل الحرارة. شكل Vo يوضح أحد نماذج القطاع البين مرحلي 0860© الذي يتصل بحيث يحتفظ بالحرارة. بالاشارة لشكل OT يمكن أن يكون القطاع 400 له اختياريا قاعدة ( أو " أرضية " ) 47١0 جدران جانبية side walls © 477 وسقف 47١٠ ceiling معا يربطا الفراغ 40١7 space الذي فيه توجد اسطوانات النقل 7٠١ التي تنقل الطبقة التحتية .٠١ تكون القاعدة of Ve الجدران الجانبية 677 والسقف £7 تقف مستطيل؛ ولكن الأشكال المختلفة؛ على سبيل المثال الأنفاق المربعة والدائرية تكون داخل مجال الاختراع. بشكل مفضل؛ يتم تكوين القاعدة 0٠47؛ الجدران الجانبية 477 والسقف 4٠0 كقطعة مفردة؛ على سبيل المثال Wie شريحة مبيتة لصناديق متوافقة بالتعشيق. في Ye شكل VT القطاع section 0660 له شكل Sale coli على طبقات المادة الموصلة conductive material £04 المحاطة بطبقات من المادة الخزفية ceramic material 490. في النموذج الموضح؛ يتم توضيح ثلاث طبقات من المادة الموصلة £04 وثلاث طبقات من المادة الخزفية EV ولكن لا يمكن تقديم of عدد مناسب من الطبقات. يمكن أن تشتمل طبقة المادة الموصلة 5596 على أى فلز موصل؛ على سبيل المثال aluminum أو نحاس. يمكن أن تشتمل V0 طبقة المادة الخزفية 76؛ على of عازل يمنع الحرارة من الانتقال للخارج. قد تشتمل تلك المادة الخزفية على zirconia قلعتسم oxide » magnesium oxide « silicon nitride ب alumina ¢ silicon carbide « chromite كربون mullite s . يمكن تقديم مصدر تسخين Ov على سبيل المثال سخان مشع radiant heater يستخدم الحرارة لواحدة أو أكثر من الطبقات الموصلة 45+0. قد يساعد شكل الطبقات ذلك في الحفاظ على الحرارة Jala الفراغ space الداخلي 67 . في بعض
٠ النماذج,؛ يتم الحفاظ على الفراغ الداخلي عند درجة حرارة أقل من 11١ م. + دب
تتضمن بعض الطرق المميزة تحديدا ترسيب طبقة Oa متخفضة القدرة الابتعاثية على سطح رئيسي واحد من الطبقة التحتية وترسيب طبقة طلاء سهلة المعالجة على السطح الرئيسي المقابل. في نماذج الرشرشة العلوية sputter-up / الرشرشة السفلية sputter-down التي لها طبيعة مماثلة؛ يمكن اختياريا ترسيب طبقة طلاء منخفضة القدرة الابتعاثية قبل بدء الترسيب بالرش المهبطي 0 لطبقة الطلاء سهلة المعالجة. يمكن أن يكون ذلك مميزاء في حين أن الحرارة المرتبطة بترسيب طبقة طلاء coating منخفضة all الابتعاثية يمكن أن تعطى طبقة تحتية لها درجة حرارة مرتفعة عند بدء الترسيب بالرش المهبطي لطبقة الطلاء سهلة المعالجة. واتصالا مع الزجاج المكسو المسجل في الأمثلة لاحقا ( المجدولة سابقا )؛ تم ترسيب طبقة الطلاء سهلة المعالجة بواسطة عملية الطلي بالرش المهبطي. علوية. fad بعد ترسيب طبقة طلاء المنخفضة القدرة الابتعاثية ٠ للفضة المزدوجة على الجانب الآخر من الزجاج بواسطة Adee الطلاء بالرش المهبطي سفلية. اعتقد أن الحرارة المرتبطة بترسيب طبقة طلاء منخفضة القدرةٍ الابتعاثية تعطي زجاج مرتفع درجة الحرارة عند بدء الترسيب بالرش المهبطي لطبقة الطلاء سهلة المعالجة؛ ويعتقد أن مستويات النشاط
الضوئي المسجلة يتم تحقيقها على الأقل إلى حد ما نتبجة تسخين الطبقة التحتية. هكذاء تقدم بعض التماذج طريقة إنتاج حيث يتم ترسيب طبقة طلاء منخفضة القدرة الابتعاثية YO بالرش المهبطي على سطح رئيسي واحد للطبقة التحتية؛ وبعد ذلك يتم ترسيب على الأقل جزء من ( اختياريا كل) طبقة الطلاء سهلة المعالجة على السطح الرئيسي الآخر للطبقة التحتية. كما لوحظ سابقاء يمكن أن يسخن الترسيب بالرش المهبطي للطبقة طلاء منخفضة القدرة الابتعاثية الطبقة التحتية؛ بعد ذلك؛ يمكن بدء ترسيب طبقة الطلاء سهلة المعالجة بينما تظل الطبقة التحتية ساخنة ( أى قبل تبريدها لدرجة حرارة الغرفة ). قد يحسن ذلك النشاط الضوئي؛ حب الماء hydrophilicity ؛
٠ التشكيل؛ أو الخصائص الأخرى لطبقة الطلاء سهلة المعالجة.
داه -
توضح الأشكال ١١7 و ١8 بشكل تخطيطي أثنين من المغلطين التمثيليين يمكن استخدامها لإنتاج
طبقة طلاء سهلة المعالجة وفقا لبعض النماذج. شكل VV يوضح lie له غرف طبقة طلاء سفلية 2008؛ 2005؛ <200c و 200d ( موضحة هنا مع أهداف طلاء بالرش المهبطي علوية 270-2708 ) وغرفة تسخين heating chamber سفلية ٠١ downward heating chamber © ( بها جهاز تسخين علوى 7١7١ ). شكل VA يوضح مغلف له غرف طبقة طلاء علوية 2008 200b ع200؛ و 200d ( موضحة هنا مع أهداف طلاء بالرش المهبطي سفلية 280-2808 ) وغرفة تسخين heating chamber علوية upward heating chamber ( مع جهاز تسخين سفلي 780 ). يتم نقل الطبقة التحتية بطول مسار نقل الطبقة التحتية mounted beneath the path of substrate travel £6 حتى المغلف في الترتيب التالى: ٠ غرفة طبقة طلاء coating chamber 2008؛ القطاع section البين مرحلي 4008 غرفة طبقة طلاء 200b القطاع section البين مرحلي 400b غرفة طبقة طلاء ع200؛ القطاع section البين مرحلي ع400؛ غرفة التسخين 300 القطاع section البين مرحلي 400d وغرفة طبقة طلاء 40. في بعض النماذج؛ تستخدم غرف طبقة طلاء 2008 و 2005 لترسيب طبقة رقيقة قاعدية Ve base film و / أو أى طبقات رقيقة وسيطة؛ وغرف طبقة طلاء 2000 و 200d لترسيب ٠5 الطبقة الوظيفية الرقيقة 10 عند الحاجة؛ يمكن تقديم غرف إضافية؛ على سبيل المتال في النماذج
التي فيها يتم وضع طبقات رقيقة أكثر.
في بعض النماذج؛ يتم ترسيب الطبقة الرقيقة القاعدية ١١5 base film في غرف طبقة طلاء coating 2000 و 2005. في هذه النماذج؛ يمكن اختيارياً تزويد غرف طبقة طلاء 2008 و 2005 بأهداف تحمل نفس المادة القابلة للطلاء بالرش المهبطي ( 2701-270« 2801-2808 ). في نماذج Ye أخرىء يتم ترسيب الطبقة الرقيقة القاعدية ١5 base film في غرفة dik طلاء 2008 ويتم
الى ا ترسيب الطبقة الرقيقة الوسيطة 20 في غرفة طبقة طلاء 3.2000 هذه النماذج؛ يتم تقديم غرفة dia طلاء coating chamber 2008 مع نفس المادة القابلة للطلاء بالرش المهبطي 280£-280a 27022704 ) لترسيب طبقة رقيقة قاعدية V2 base film ويتم تقديم غرفة طبقة طلاء 200b مع مادة قابلة للطلاء بالرش المهبطي أخرى 2701-270g) 2801-2808 ) لترسيب © الطبقة الرقيقة الوسبطة .٠١
يمكن أن تكون المادة القابلة للطلاء بالرش المهبطي اختياريا قلز 016181 شبه semi-metal 3B ¢ مركب من فلزات مختلفة؛ أو مركب من فلز واحد على الأقل وشبه فلز واحد على الأقل. في تلك الحالات؛ قد يستخدم جو مؤكسد ( يشتمل اختياريا على بعض argon 5[ او (nitrogen للطلاء بالرش المهبطي. يمكن أن يتكون الأهداف بشكل آخر خزفية ( على سبيل المثال (oxide وقد ٠ يستخدم جو خامل inert ( أو مؤكسد oxidizing و/أو مضيفة لل nitride بدرجة بسيطة slightly 8 ). في النماذج التي فيها تتضمن الطبقة الرقيقة القاعدية «silica Yo base film قد تستخدم أهداف تتضمن silicon . قد تكون الأهداف التي تتضمن «silicon على سبيل المثال؛ عبارة عن أهداف aluminum - silicon . في النماذج التي Led الطبقة الرقيقة القاعدية Vo Say ¢ alumina (penal استخدام أهداف تتضمن aluminum . عندما يتم تقديم الطبقة الرقيقة ١٠ القاعدية (Yo base film فإنه يمكن أن تتضمن بشكل آخر silicon « titanium dioxide zirconium oxide « tin oxide «nitride « مادة عازلة dielectric أخرىء أو شبه موصل
. semiconductor مختلط oxide J 43d) عبارة عن طبقة Vo base film في النماذج حيث الطبقة الرقيقة القاعدية فإنه يمكن استخدام طريقة الطلاء بالرش المهبطي اختيارياً. على سبيل المثال؛ يمكن أن يتضمن هدف واحد في غرفة مادة واحدة بينما يتضمن الهدف الآخر في نفس الغرفة مادة أخرى. على سبيل Yo 9و١
0
المثال؛ إذا استخدمت غرفة طبقة طلاء coating chamber 2008 لترسيب طبقة رقيقة قاعدية Vo base film | فإن الأهداف 2708» «270c و 270¢ ( أر الأهداف «280c «280a 280( يمكن أن تتضمن المادة A والأهداف 270d 270b و 270f ( أو الأهداف «280d «280b و 280). يمكن أن تتضمن المادة LB أيضاء إذا استخدمت غرفة طبقة طلاء 2008« و 200b لترسيب الطبقة © الرقيقة القاعدية Vo base film فإن الأهداف «270a ع270؛ 270 «270i 270g و 270k ( أو الأهداف 2808 «280c ع280؛ 280i «280g و 2801 ). يمكن أن تتضمن المادة A والأهداف «270h 270f 270d «270b (270؛ و 2701 ( أو الأهداف «280h «280f «280d «280b 208« و
01 ). يمكن أن تتضمن المادة B عند الحاجة؛ يمكن أن تكون الأهداف عبارة عن أهداف فلز ويمكن استخدام جو مؤكسد ( مشتملا ٠ 0 على sargon | أو nitrogen اختياريا ( ٠. يمكن أن تكون الأهداف بطريقة أخرى خزفية ceramic ¢ ويمكن استخدام جو خامل inert ( أو مؤكسد بدرجة خفيفة slightly oxidizing و / أو مضيف للنيتريد بدرجة بسيطة (slightly nitriding على سبيل المثال؛ في النماذج التي فيها الطبقة الرقيقة القاعدية YO base film عبارة عن طبقة رقيقة ل oxide مختلط متضمنة OB ¢ titania y silica المادة A يمكن أن تتضمن silicon والمادة B يمكن أن تتضمن titanium يمكن ترسيب الطبقة ) VO الطبقات ) الرقيقة الوسيطة intermediate film 20 التي لها طبقة )438 oxide J مختلط بنفس
الطريقة.
مع الاشارة المستمرة للأشكال ١١7 و OA بمجرد ترسيب الطبقة الرقيقة القاعدية Vo base film و/أو أى طبقات وسيطة ٠١ intermediate films في بعض التماذج تنتقل الطبقة التحتية من خلال الغرفة 20c حيث يبدأ ترسيب الطبقة الرقيقة الوظيفية. في النماذج التي فيها هذه الطبقة ٠ الرقيقة 5٠ تكون متجانسة فعلياء فإن كل الأهداف 280r-280m «270r-270m تحمل نفس المادة
يه - القابلة للطلاء بالرش المهبطي. يمكن أن تكون هذه الأهداف؛ على سبيل (JED عبارة عن فلز ويمكن أن يكون الجو مؤكسد مستخدم. يمكن أن تكون الأهداف بشكل آخر خزفية؛ ويمكن استخدام جو خامل ( أو مؤكسد بدرجة بسيطة slightly oxidizing ). في النماذج التمثيلية للأشكال ١١7 و OA بمجرد ترسيب جزء أول للطبقة الوظيفية الرقيقة 5٠ في © الغرفة 200c تنتقل الطبقة التحتية Vo من خلال غرفة تسخين heating chamber 300« حيث يقدم السخان 370 380 حرارة للطبقة التحتية. مرة أخرى؛ من المتوقع أنه يمكن إهمال السخان؛ عند الحاجة. تنتقل الطبقة التحتية من خلال مغلف 2000؛ حيث يتم ترسيب باقى الطبقة الرقيقة .*٠ كما لوحظ سابقاء إذا كانت الطبقة التحتية عبارة عن زجاج ملدن annealed glass ( وللاحتفاظ بالتلدين)؛ يفضل عدم تسخين الزجاج لدرجات حرارة تؤثر بشكل عكسي على الحالة الملدنة للزجاج. ٠ على سبيل (JE تفضل أقصى درجات حرارة للزجاج أقل من ١7,597 0 وقد تفضل درجات الحرارة الأقل من ١8,84 ام ( أو الأقل من ١1,1١ م ) قد تكون أكثر تفضيلا. في بعض النماذج؛ يتم تسخين الطبقة التحتية ( على سبيل المثال أثناء الترسيب ) لأقصى درجة حرارة ما بين ١ ام و IVEY ام ؛ على سبيل المثال ما بين حوالى77,397 .م وحوالى SAA م . من المدرك أن الطبقة التحتية لا يكون من الضروري تسخينها قبل أو أثناء الترسيب. بدلا من ذلك؛ قد VO يتم معالجة الطبقة التحتية المطبقة طلاء بالحرارة بعد الترسيب. أو؛ قد يتم إنتاج الطبقة التحتية ببساطة بدون المعالجة بالحرارة. تقدم مجموعة واحدة من النماذج هدف الطلاء بالرش المهبطي به مادة قابلة للطلاء بالرش المهبطي متضمنة tungsten s titanium . على سبيل المثال؛ يمكن أن تشتمل المادة القابلة للطلاء بالرش المهبطي اختياريا على titanium ٠ في شكل التيتانيوم titanium dioxide » titanium monoxide « metal titanium all و | أو Yas
¢ tungsten oxide ¢ metal tungsten في شكل tungsten بينم يكون + titanium trioxide tungsten trioxide أن / 5 « tungsten dioxide tungsten s titanium في بعض الحالات؛ تتضمن المادة القابلة للطلاء بالرش المهبطي كل من تتكون المادة القابلة للطلاء بالرش المهبطي بشكل or dail في مختلف الأشكال السابقة. في بعض يمكن استخدام هدف سبيكة تتضمن كل من . tungsten metal titanium metal أساسي من 2 metal مزود بشريطين من titanium metal أو؛ يمكن استخدام هدف . tungsten titanium أو ما شابه ). عند طلاء الأهداف الفلزية بالرش المهبطي؛ يمكن استخدام جو مؤكسد ( tungsten
( اختياريا مع كمية ALB من nitrogen ).
في نماذج أخرى؛ sald) ean القابلة للطلاء بالرش المهبطي كل من titanium oxide ٠ وعلل«ه tungsten . في هذه الحالات؛ يمكن استخدام جو خامل أو جو مؤكسد بدرجة بسيطة ( اختياريا مشتملا على كمية صغيرة من (nitrogen أثناء عملية الطلاء بالرش المهبطي. في بعض النماذج؛ تتضمن المادة القابلة للطلاء بالرش المهبطي أول titanium dioxide « titanium oxide tungsten oxide s ٠» . في هذه الحالات؛ يمكن استخدام جو مؤكسد بدرجة طفيفة ( اختياريا مشتملاً على كمية صغيرة من (nitrogen أثناء الطلاء بالرش المهبطي. أو؛ يمكن طلاء الأهداف VO بالرش المهبطي في جو خامل؛ على سبيل JB إذا لم يكن من الضروري أكسدة الطبقة الرقيقة تماما ( أو إذا كان يتم أكسدتها مرة coal على سبيل المثال أثناء dalled) الحرارية المتتالية في الهواء ). في بعض الحالات؛ يتميز الفلز القابل Dall بالرش المهبطي بواسطة نسبة وزن 177/71 فقط للفلز ما بين حوالى ١.09 و cn TE على سبيل المثال ما بين حوالى ٠.01 وحوالى 0.7 فإن هذه النسبة تكون هي الوزن الكلي لذرات tungsten في المادة القابلة للطلاء بالرش المهبطي مقسوما Ye على الوزن الكلي لذرات التيتانيوم في المادة القابلة للطلاء بالرش المهبطي. يمكن تحضير هدف به اا
مادة قابلة Dall بالرش المهبطي تتضمن كل من tungsten titanium بأستخدام عدد من الطرق المختلفة. في بعض النماذج؛ يتم تحضير هدف بواسطة بلازما رش be titanium oxide مع فلز tungsten على قاعدة مستهدفة بها نقص في oxygen ولا تحتوى على مركبات محتوية على oxygen . أثناء عملية رش البلازماء يسبب تأثير البلازما على titanium oxide أن يفقد titanium oxide © بعض ذرات Ge oxygen الشبكات البلورية. يعتقد أن ذرات oxygen هذه تندمج مع فلز tungsten لتكوين oxide 001086160 على هيئة tungsten له جهد كيميائي كهربي high Je -electrochemical يتضمن titanium oxide الذي تم رشه على أنبوبة الدعم بذلك أول titanium © titanium oxide dioxide بجو tungsten oxide . قد يكون الهدف القابل للطلاء بالرش المهبطي؛ كأحد الأمثلة ٠ فقطء هدف دوار اسطواني به أنبوبة دعم لها طول على الأقل 0 a) في تلك الحالات» يتم وضع المادة القابلة للطلاء بالرش المهبطي على الجدار الخارجي لأنبوبة الدعم. يتم تهيئة هذا الهدف الأسطواني أيضا للدوران حول محور مركزي يكون الجدار الخارجي لأنبوب الدعم موازى له. بطريقة أخرى؛ قد يستخدم كبس ايزوستاتى hot isostatic pressing (Ale لتكوين الهدف. يمكن أيضا استخدام طرق تكوين هدف أخرى. VO عند ترسيب الطبقة الوظيفية الرقيقة functional film © عن طريق الطلاء بالرش لواحد أو أكثر من الأهداف التي تتضمن JS من tungsten oxide و TiOX مقاس الكتل الفعالة؛ يتم إجراء عملية الطلاء بالرش المهبطي بشكل مفضل باستخدام argon ¢ خليط من «oxygens argon خليط من dads ¢ argon nitrogen من oxygens nitrogen ¢ أو خليط من nitrogen « oxygen ¢ argon 5 .13 لم تكن البلازما تحتوى على «oxygen على سبيل المثال )13 استخدم (All argon Yo عندئذ لا تكون طبقة طلاء coating تامة الأكسدة عند ترسيبها. على العكس؛ إذا كان غاز
0
البلازما يحتوى على «oxygen عندئذ قد يتم تحويل الشكل المختزل ( الأشكال المختزلة ) من titanium oxide أثناء عملية الطلاء بالرش المهبطي في الشكل الشفاف؛ الذي يكون مقاس الكتل الفعالة أو مقاس الكتل الفعالة فعليا. تعتمد درجة شفافية الطبقة الرقيقة على كمية oxygen الموجود في غاز البلازما plasma gas و/ أو حيث يتم إجراء أى معالجة حرارية تالية في الهواء. خليط © الغاز التمثيلي لتكوين طبقة رقيقة شفافة هو ١70 - 750 بالحجم من argon و 2٠ = 3١ بالحجم من oxygen . في بعض الحالات؛ يمكن أن يشتمل خليط الغاز على IF - ١ بالحجم من
0 + مع بقية من argon . في النماذج التي فيها تتضمن الطبقة الرقيقة Or كل من tungsten oxides titanium oxide ¢ يمكن استخدام طريقة طلاء بالرش المهبطي تساهمية اختيارياً على سبيل المثال؛ يمكن ان يتضمن
٠ هدف واحد metal titanium بينما يتضمن الهدف المجاور فلز tungsten كاختيار آخرء كل ض هدف يمكن أن يحمل مادة فلزية ALE للطلاء بالرش المهبطي هى مركب ( على سبيل المثال سبيكة) تتضمن كل من tungsten 8; metal titanium . LS لوحظ سابقاً؛ الطبقة التحتية فى بعض النماذج عبارة عن زجاج. WE يفضل أو يكون من الضرورى استخدام زجاج مقسى لبعض الاستخدامات؛ كما هو معروف جيداً.
٠ فى تلك الحالات؛ بعد طبقة طلاء الطبقة التحتية بواسطة طبقة طلاء سهلة المعالجة A يمكن تطبيع الطبقة التحتية المطبقة طلاء . فى بعض النماذج؛ يتم وضع الطبقة التحتية المطبقة طلاء فى فرن تطبيع لمدة ٠١0 ثانية على الأقل؛ أثناء ذلك يتم ضبط الفرن عند درجة حرارة +15 م على الأقل. فى بعض الحالات؛ يجعل ذلك الطبقة التحتية المطبقة طلاء عند درجة حرارة على JN حوالى 1660 "م. عندئذ؛ يتم تبريد الطبقة التحتية سريعاً. بشكل مفضل؛ بمجرد أن تصل الطبقة
LY بشكل اكثر تفضيلاً أقل من ( ١,4 التحتية لدرجة حرارة الغرفة؛ فإنها تظهر اغبرارية أقل من ٠
o A _— — أو أيضاً اقل من 0,15 ) بعد المعالجة الحرارية. يكون هؤلاء الماهرين فى المجال متوافقين مع يتم الآن وصف مجموعة بعض الطبقات الرقيقة التمثيلية و طرق الترسيب. مثال رقم ١ © "تم نقل الطبقة التحتية من زجاج جير الصودا soda-lime glass من خلال منطقة طبقة طلاء بها زوجين تشغيل لأهداف JS) silicon rotary silicon يشتمل على 5 aluminum تقريباً 1 تم تقديم خليط غاز يتضمن تقريباً 6 - 7160 andl oxygens argon فى كل ade وتم طلاء الأهداف بالرش المهبطي لترسيب طبقة رقيقة قاعدية base film عالية المعدل تتضمن silica على السطح VY للمادة التحتية. كانت قدرة كل زوج من الأهداف الدوارة 760 ك وات. نقل الزجاج ٠ عند حوالى YVO بوصة لكل دقيقة. الطبقة الرقيقة القاعدية لها سمك TA ٠٠١ تقريباً. بعد ذلك؛ تم نقل الطبقة التحتية من خلال منطقة طبقة gyal ela تلك لها ثلاث ازواج تشغيل من الأهداف الخزفية الدوارة ( كل به مادة قابلة للطلاء بالرش المهبطي تتكون بشكل أساسى من tungsten oxides titanium oxide ¢ حيث يوجد titanium عند تقريباً 4- YE وزن 7 يوجد wngsten ٠5 عند تقريباً ١,6 - 7,8 وزن 7 ويوجد oxygen عند تقريباً YA - YET وزن7 ). استخدم خليط غاز من حوالى 7285 argon ( و of Adal! oxygen وتم طلاء الأهداف الخزفية بالشرشة لترسيب الطبقة الرقيقة الوظيفية. كانت القدرة على كل زوج من الأهداف الدوارة 858 ك وات. الطبقة الوظيفية الرقيقة لها سمك تقريباً A Ve . تم نقل الزجاج عند سرعة تقريباً YTV بوصة فى الدقيقة. كانت الطبقة التحتية عبارة عن زجاج ملدن annealed glass . لم يتم اجراء التطبيع بعد
الترسيب او بعد أى معالجة حرارة اخرى. بالرغم من ذلك؛ استخدمت طبقة طلاء سهلة المعالجة عن طريق الطلاء بالرش المهبطي العلوى بعد استخدام طبقة طلاء منخفضة القدرة الانبعاثية للفضة المزدوجة بواسطة الطلاء بالرش المهبطي السفلى ( تم طلاء طبقة coating eda منخفضة القدرة بالرش المهبطي لأسفل فى جزء أول من المغلف»؛ وتم طلاء طبقة الطلاء سهلة المعالجة بالرش © المهبطي لأعلى من all الثانى من نفس المغلف ). هكذاء اعتقد أن الزجاج يحتفظ بالحرارة من ترسيب طبقة طلاء coating منخفضة القدرة الاتبعاثية عندما يبدأ الطلاء بالرش ١ لمهبطي للطبقة طلاء السهلة المعالجة. طبقة طلاء السهلة المعالجة low-maintenance coating لها متوسط خشونة سطح average Ra surface roughness حوالى ١,71 نانوم. أظهرت طبقة coating eb معدل تفكك اسيتون acetone decomposition | ٠ حوالى كي »انحا جزئ / ( لتر ) ( ثانية ). مثال رقم ؟ تم ترسيب طبقة طلاء سهلة المعالجة على طبقة تحتية للزجاج بالطريقة الموصوفة سابقاً فى مثال رقم .١ بمجرد ترسيب طبقة طلاء coating « عولج الزجاج بالحرارة فى فرن بطريقة تحاكى التطبيع فى Vo وضع انتاج تجارى. الفرن المستخدم هو : Hengl.i RSK-2506 Fast Response Conveyor Furnace manufactured by HengLi Eletek Co., Ltd. (Hefei.Ah.China). يكون طول الفرن تقريباً “,5 متر وبه + مناطق للتسخين والتبريد. تم نقل الزجاج المكسو فى ممر مفردٍ خلال الفرن عند تقريباً ves مم / ثانية؛ تأخذ حوالى ١9,4 دقيقة. Yas
تم ضبط منطقة الحرارة لفرن مختبر عند 576, vie م يأخذ الزجاج المكسو تقريباً VOY دقيقة ليمر خلال تقريباً YY متر طول منطقة التسخين. يظهر الزجا d المكسو عندئذ منطقة التسخين ‘ Jia ويمر خلال تقريباً با مثر لمنطقة التبريد لمدة > دقائق قبل الخروج من الفرن. تم تعيين ان الزجاج ( الذى فى هذا المثال هو 7,١ مم زجاج © جير الصودا (soda-lime glass بلغ درجة حرارة YAY, VA م طبقة طلاء السهلة المعالجة low-maintenance coating لها متوسط خشونة سطح average Ra surface roughness حوالى Y,Ve نانوم. أظهرت طبقة coating edb معدل تفكك اسيتون acetone decomposition حوالى TAY ا حصا جزئ / ( لتر ) ( ثانية ). مثال رقم ؟ Ve تمت طبقة طلاء الطبقة التحتية من زجاج جير الصودا soda-lime glass بواسطة طبقة رقيقة قاعدية base film تتضمن silica عند سمك حوالى 7٠١ 8 فى الاسلوب الموصوف سابقاً فى مثال رقم ل بعد ذلك؛ نقلت الطبقة التحتية خلال منطقة طبقة Da اخرى. وتلك لها ثلاث أزواج تشغيل من الأهداف الخزفية الدوارة ( مع نفس المادة القابلة للطلاء بعملية الرش المهبطي الموصوفة فى مثال ٠ رثم ١ ). استخدم خليط غاز من حوالى 785 oxygens ( argon المتبقى of وتم طلاء الأهداف الخزفية بالرش المهبطي لترسيب الطبقة الرقيقة الوظيفية. كانت قدرة كل زوج من الأهداف الدوارة ٠ ك وات. الطبقة الوظيفية الرقيقة لها سمك la 00 نٌ. تم نقل الزجاج عند سرعة حوالى APY متر فى الدقيقة. كانت الطبقة التحتية عبارة عن زجاج ملدن annealed glass بالرغم من ذلك؛ استخدمت هذه طبقة Yas
TJ \ — — طلاء coating عن طريق الطلاء بالرش المهبطي لأعلى بعد استخدام طبقة طلاء منخفضة القدرة الابتعاثية للفضة المزدوجة عن طريق الطلاء بالرش المهبطي لأسفل. لذلك؛ يعتقد أن الزجاج احتفظ بالحرارة من ترسيب طبقة طلاء منخفضة القدرة الاتبعاثية Lovie تبدأ عملية الطلاء بالرشرشة لطبقة الطلاء سهلة المعالجة لايتم اجراء أى تطبيع مابعد الترسيب او معالجة حرارية أخرى. © طبقة الطلاء سهلة المعالجة لها متوسط خشونة سطح Ra average surface roughness حوالى 64 نانوم. اظهرت طبقة oda معدل تفكك اسيتون acetone decomposition حوالى xX ٠,17 [on ( لثر ) ( ثانية ). مثال رقم 4 ترسيب طبقة طلاء سهلة المعالجة على طبقة تحتية زجاجية فى الاسلوب الموصوف سابقاً فى مثال ٠ رقم ؟. عولج الزجاج بالحرارة فى الاسلوب الموصوف سابقاً فى مثال رقم 3 . طبقة الطلاء سهلة المعالجة لها متوسط خشونة سطح Ra average surface roughness حوالى ؟؟, نانوم. اظهرت طبقة طلاء coating معدل تفكك اسيتون acetone decomposition حوالى [ton ٠١ 5 ( لقر ) ( ثانية ). مثال مقارن تم تحضير طبقة طلاء coating التى لها طبقة Aad, خارجية من titanium dioxide + ويتم توضيحها فى جدول ١ ( ' طبقة طلاء رقم + " ). Yau
Y — ل — جدول + ( طبقة طلاء رقم + ) وس ا ee رس ا أظهرت طبقة طلاء coating المقارنة رقم 1 معدل تفكك اسيتون acetone decomposition حوالى Te xv جزئ / ( لقر ) ( ثانية). © بينما تم وصف بعض النماذج المفضلة للاختراع» يجب فهم أنه يمكن عمل التغيرات؛ التكييفات والتعديلات المختلفة بدون الخروج عن روح الاختراع ومجال عناصر الحماية الملحقة.
Claims (1)
- سالج عناصر الحماية low- عليه طلاء منخفض الصيانة major surface ad) لها سطح substrate ركيزة - ١ ١ low-maintenance coating حيث يتضمن الطلاء منخفض الصيانة maintenance coating Y حيث «tungsten oxide و + titanium oxide يشتمل على كل من functional film غشاء وظيفي ¥ يتميز بنسبة وزنية للمعدن فقط tungsten على حمل من functional film ؛ يشتمل الغشاء الوظيفي هذه النسبة هي عبارة عن وزن عنصر COTE إلى حوالي "0,١٠" د تتراوح ما بين حوالي في الغشاء؛ حيث تكون titanium الغشاء مقسوماً على وزن عنصر tungsten التنجستين 5 functional عبارة عن زجاج في الحالة اللدنة؛ وحيث يكون سمك الغشاء الوظيفي substrate الركيزة ١ أنجستروم؛ وفوق ذلك يكون للطلاء المنخفض "٠٠١" أكبر من "0" أنجستروم؛ وأقل من film A ِ: (ث). x مول / (لتر) Ty يزيد عن يرل acetone الصيانة معدل انحلال 4 أكبر من acetone وفقاً لعنصر الحماية (١)؛ حيث يكون معدل انحلال substrate ؟ - الركيزة ١ مول / (لتر) * (ث). © ra وفقاً لعنصر الحماية (١)؛ حيث إذا ما تم تطبيع (إحماء بعد التبريد substrate الركيزة - © ١ فإنه يشهد زيادة في معدل ¢ low-maintenance coating المفاجىء) الطلاء منخفض الصيانة Y نتيجة لعملية التطبيع. "Yo" الخاص به بما يزيد عن معامل يعادل acetone انحلال - ' لعنصر الحماية (١)؛ حيث إذا ما تم تطبيع الطلاء منخفض الصيانة Tay substrate الركيزة - + ١ الخاص به؛ حيث acetone فإنه يشهد زيادة في معدل انحلال ¢ low-maintenance coating Y (تث). x مول / (لتر) "UY. x YA" عن acetone تتسبب الزيادة في أن يزيد معدل انحلال Y١ # - الركيزة substrate وفقاً لعنصر الحماية (١)؛ حيث إذا ما تم تطبيع الطلاء منخفض الصيانة عمنادمى low-maintenance « فإنه يشهد زيادة في معدل انحلال acetone الخاص به؛ حيث ' تتسبب الزيادة في أن يزيد معدل انحلال acetone عن "؛ x (A) [dee VY (ث). ١ + - الركيزة substrate وفقاً لعنصر الحماية (١)؛ حيث يكون للغشاء الوظيفي سمك يتراوح من arid A Jo da low- وفقاً لعنصر الحماية (١)؛ حيث يكون للطلاء منخفض الصيانة substrate الركيزة - * ١ maintenance coating ¥ خشونة سطحية متوسطة تتراوح بين Te YO" نانومتر و 7,١" نانومتر. م - الركيزة substrate وفقاً لعنصر الحماية (١)؛ حيث يتضمن الطلاء منخفض الصيانة low- maintenance coating VY غشاء قاعدي base film بين الركيزة substrate والغشاء الوظيفي ¥ صلا functional ¢ وحيث يكون للغشاء القاعدي والغشاء الوظيفي lew functional film مشترك 4 يقل عن حوالي To أنجستروم. functional film حيث يكون الغشاء الوظيفي »)١( وفقاً لعنصر الحماية substrate الركيزة - 4 ١ عبارة عن غشاء متجانس إلى حد كبير يقوم بتحديد الواجهة المكشوفة والخارجية من الطلاء. low-maintenance coating منخفض الصيانة " -٠١ ١ الركيزة substrate وفقاً لعنصر الحماية (١)؛ حيث تكون الركيزة substrate عبارة عن لوح multiple-pane من وحدة تزجيج عازل متعددة الألواح الزجاجية ein والذي يكون (di زجاجي Y insulating glazing unit V بها حيز بين الألواح الزجاجية؛ حيث يكون السطح الرئيسي الحامل ؛ للطلاء منخفض الصيانة low-maintenance coating متجهاً بعيداً عن الحيز بين ١ لألواح الزجاجية ١ "0دام = —2 الخاص بالوحدة. -١١ ١ الركيزة substrate وفقاً لعنصر الحماية (١)؛ حيث تكون الركيزة substrate جزءاً من Saag Y تزجيج عازل ثلاثية الألوا ح الزجاجية triple-pane insulating glazing unit . ١# ١ - الركيزة substrate وفقاً لعنصر الحماية »)١( حيث تكون الركيزة substrate عبارة عن جزء من " وحدة تزجيج عازل متعددة ١ لألواح الزجاجية multiple-pane insulating glazing unit لها سطحان F خارجيان رئيسيان يحملان طلاء منخفض الصيانة low-maintenance coating يشتمل على كل ¢ من tungsten oxide sy titanium oxide . substrate 33S; -١7 ١ لها سطح رئيسي major surface عليه طلاء منخفض الصيانة low- maintenance coating VY ¢ حيث يتضمن الطلاء منخفض الصيانة low-maintenance coating elie ¥ وظيفي functional film يشتمل على JS من «tungsten oxide 5 « titanium oxide حيث of يشتمل الغشاء الوظيفي functional film على حمل من tungsten يتميز بنسبة وزنية للمعدن فقط © تتراوح ما بين من حوالي "0,١٠" إلى حوالي COTE و هذه النسبة هي عبارة عن وزن عنصر tungsten 1 في الغشاء مقسوماً على وزن عنصر titanium في الغشاء؛ حيث تكون الركيزة substrate V عبارة عن زجاج في الحالة المُطبعة؛ وحيث يكون سمك الغشاء الوظيفي functional film A أكبر من Ee أنجستروم؛ وأقل من ٠٠١" أنجستروم؛ وفوق ذلك يكون للطلاء المنخفض q الصيانة معدل انحلال acetone يزيد عن ار اج" مول / (لتر) x )&( . -٠4 ١ الركيزة substrate وفقاً لعنصر الحماية (VY) حيث يكون معدل انحلال acetone الخاص " بالطلاء منخفض الصيانة low-maintenance coating أكبر من "£4 "Vo x مول / @x ١Yas functional حيث يتراوح سمك الغشاء الوظيفي (VY) وفقاً لعنصر الحماية substrate الركيزة - ١ ١ من حوالي 7" إلى 807" أنجستروم. film Y low- حيث يتضمن الطلاء منخفض الصيانة (V7) وفقاً لعنصر الحماية substrate الركيزة -١١ ١ والغشاء الوظيفي substrate بين الركيزة base film غشاء قاعدي maintenance coating ¥ مشترك lew functional film ؛ وحيث يكون للغشاء القاعدي و الغشاء الوظيفي functional لظ ¥ أنجستروم. "35١" ؛ يعادل ما يقل عن حوالي-١7 ١ ركيزة substrate لها سطح رئيسي major surface ء حيث يكون عليه طلاء منخفض الصيانة low-maintenance coating ¥ « والذي يتضمن غشاء قاعدي base film وغشاء وظيفي functional film VF ؛ ويشتمل الغشاء الوظيفي functional film على كل من tungsten 5 titanium oxide ؛ oxide ¢ حيث يكون بالغشاء الوظيفي functional film حمل من tungsten يتميز بنسبة وزنية 0 للمعدن فقط تتراوح ما بين حوالي من "١.0٠" إلى حوالي Me TE و هذه النسبة هي le عن وزن عنصر tungsten في الغشاء مقسوماً على وزن عنصر titanium في الغشاء؛ وحيث يكون سمك ov الغشاء الوظيفي functional film أكبر من "0" أنجستروم؛ وأقل من "٠٠١" أنجستروم؛ والغشاء A القاعدي base film عبارة عن غشاء مكون بالرشرشة الكاثودية بمعدل مرتفع film being a high- sputtered film deposited 8 عئه: ؛ يتم ترسيبه عن طريق هدف واحد على الأقل في الغلاف ٠ الجوي؛ حيث يتم إمرار كل من غاز خامل وغاز (Joli حيث يتزاوح معدل التدفق للغاز الخامل ١١ مقسوماً على معدل تدفق غاز التفاعل بين "4+" و "9" ويكون الغشاء الوظيفي functional film ١" عبارة عن غشاء مكون Se بالرشرشة الكاثودية بمعدل مرتفع؛ يتم ترسيبه من هدف واحد على ٠“ الأقل به مادة يمكن رشها بالرشرشة الكاثودية تشتمل على كل من titanium oxide ر tungsten oxide ٠4 ؛ حيث تكون الركيزة substrate عبارة عن زجاج في الحالة alll وحيث يكون للطلاء VO منخفض الصيانة low-maintenance coating معدل انحلال ل acetone يزيد عن ١ » ٠١,5" أو— 2 V — ©" ”مول / (لتر) * )© ١ - الركيزة substrate وفقاً لعنصر الحماية ) VY ( حيث تتراوح الخشونة السطحية المتوسطة الخاص بالطلاء منخفض الصيانة low-maintenance coating .بين "١,759" نانومتر و"5,0" Y نانومتر. ١ 4- الركيزة substrate وفقاً لعنصر الحماية dus ( ١ V) تشتمل المادة المستهدفة التي يمكن رشها Y بالرشرشة الكاثودية؛ Allg يتم استخدامها في ترسيب الغشاء الوظيفي functional film « على )١( "| عنصر tungsten في صورة oxide « ر (؟) 'منت 5 (7) :10").= الركيزة substrate وفقاً لعنصر الحماية ٠١7 حيث يزيد معدل انحلال acetone عن XY," ””٠١ مول / (لثر) * (ث). ض ١ ١؟- ركيزة substrate لها سطح رئيسي major surface « عليه طلاء منخفض الصيانة low- ؟ maintenance coating به طبقة حفز بالضوء مفردة فقط» حيث تشتمل طبقة الحفز بالضوء على * كل من titanium oxide و tungsten oxide .في جميع أنحاء سمك الطبقة بالكامل» حيث يكون ؛- لطبقة الحفز بالضوء حمل من التنجستين tungsten يتميز بنسبة وزنية للمعدن فقط تتراوح بين 0 حوالي من Te) و حوالي STE وتكون هذه النسبة عبارة عن وزن عنصر التنجستين wngsten 7 في الطبقة مقسوماً على وزن عنصر Akl titanium وحيث تكون الركيزة substrate Y عبارة عن زجاج في الحالة Anal) وحيث يكون لطبقة الحفز بالضوء سمك يزيد عن E07 A أنجستروم؛ ويقل عن "٠٠١" أنجستروم؛ وفوق ذلك يكون للطلاء منخفض الصيانة low- maintenance coating 4 معدل انحلال لل acetone يزيد عن ٠," نبا "مول / (لتر) 0٠ * (ت). Yan- A -0١ ؟؟- الركيزة substrate 5 لعنصر الحماية (١7)؛ Cus يزيد معدل انحلال acetone عن Ne x YY مول / (لتر) x (ث). ١ ؟7؟- ركيزة substrate لها سطح رئيسي major surface ء عليه طلاء منخفض الصيانة low- maintenance coating Y « حيث يشتمل الطلاء منخفض الصيانة low-maintenance coating على "| طبقة حفز بالضوء مفردة dad حيث تشتمل طبقة الحفز بالضوء على كل من titanium oxide ؛ tungsten oxides 3 جميع أنحاء سمك الطبقة بالكامل» حيث يكون لطبقة الحفز بالضوء حمل 0 من التنجستين tungsten يتميز بنسبة وزنية للمعدن فقط تتراوح بين حوالي من "0.0٠ و حوالي "١,74" 1 وتكون هذه النسبة عبارة عن وزن عنصر tungsten الطبقة مقسوماً على وزن عنصر titanium ١ في Adal وحيث تكون الركيزة substrate عبارة عن زجاج في الحالة المُطبعة؛ وحيث A يكون لطبقة الحفز بالضوء سمك يزيد عن ١" ؟' أنجستروم؛ ويقل عن Ve أنجستروم؛ وفوق ذلك 4 يكون للطلاء منخفض الصيانة low-maintenance coating معدل انحلال لل acetone يزيد عن se Ye x ١,8” ٠ (لتر) ” (ث). ١ ¢ - الركيزة ad substrate لعنصر الحماية 9 (Y حيث يزيد معدل انحلال acetone عن " داري "٠١# x مول / (لثر ) (x ١ ©5؟»- الطبقة وفقاً لعنصر الحماية (VF) حيث يكون للركيزة substrate قيمة ضبابية تقل عن Y اد ١ ١؟- الركيزة substrate وفقاً لعنصر الحماية (VY) حيث )13 ما تم تطبيع الطلاء منخفض الصيانة Jow-maintenance coating ¥ ؛ فإنه يشهد زيادة في معدل انحلال acetone الخاص به؛Y حيث تتسبب الزيادة في أن يزيد معدل انحلال acetone به بما يزيد عن معامل يعادل "٠,5" نتيجة؛ . لعملية التطبيع. -YV \ الركيزة substrate وفقاً لعنصر الحماية ) VY ( حيث إذا ما ثم تطبيع الطلاء منخفض الصيانة low-maintenance coating Y « فإنه يشهد زيادة في معدل انحلال acetone الخاص به؛ حيث Y تتسبب الزيادة في أن يزيد معدل انحلال acetone عن TTY x VLA مول / (لتر) x (ث). \ 6 - الركيزة substrate وفقاً لعنصر الحماية ١ Y) ( ¢ حيث إذا ما ثم ¥ تطبيع الطلاء 3310 منخفض الصيانة low-maintenance coating ¢ فإنه يشهد زيادة في معدل انحلال acetone الخاص به؛ حيث Y تتسبب الزيادة في أن يزيد معدل انحلال acetone عن يالا .اا 'مول / x ( A) )&( . -Ya \ الركيزة substrate وفقاً لعنصر الحماية ١ A) ( حيث تتراوح الخ ١ as gid 2 لسطحبة المتوسطة Y للطلاء منخفض الصيانة "١,4" on low-maintenance coating نانومتر و "7,١" نانومتر. ١ 0©- الركيزة substrate وفقاً لعنصر الحماية YY حيث إذا ما تم تطبيع الطلاء منخفض الصيانة Jow-maintenance coating ١! « فإنه يشهد زيادة في معدل انحلال acetone الخاص ay حيث " - تتسبب الزيادة في أن يزيد معدل انحلال acetone به بما يزيد عن معامل يعادل "٠,5" نتيجة لعملية؛ . التطبيع. -١ ١ الركيزة substrate وفقاً لعنصر الحماية ٠ (YY) حيث إذا ما تم تطبيع الطلاء منخفض الصيانة low-maintenance coating ¢ فإنه يشهد زيادة في معدل انحلال acetone الخاص به؛ Cus v تتسبب الزيادة في أن يزيد معدل acetone Pas عن "١١ 3 ١ A" مول / X ( A) (ث) . va.ا ا -YY ١ الركيزة substrate وفقاً لعنصر الحماية ) في ( ‘ حيث إذا ما ثم تطبيع الطلاء منخفض الصيانة low-maintenance coating ¥ ¢ فإنه يشهد زيادة في معدل انحلال acetone الخاص به؛ حيث Y تثسبب الزيادة في أن يزيد معدل انحلال acetone عن يال يونا 'مول / التر ( (ث) . ١ ؟؟- الركيزة substrate وفقاً لعنصر الحماية CYT حيث يكون للركيزة ded substrate ضبابية تقل ا عن " J! . y vv ٠ Yau
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US3976008P | 2008-03-26 | 2008-03-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SA109300163B1 true SA109300163B1 (ar) | 2012-09-17 |
Family
ID=58265646
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SA109300163A SA109300163B1 (ar) | 2008-03-26 | 2009-03-11 | طبقات الطلاء سهلة المعالجة , وطرق تكوين طبقات الطلاء سهلة المعالجة |
| SA109300161A SA109300161B1 (ar) | 2008-03-26 | 2009-03-11 | تكنولوجية طبقة طلاء سهل المعالجة |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SA109300161A SA109300161B1 (ar) | 2008-03-26 | 2009-03-11 | تكنولوجية طبقة طلاء سهل المعالجة |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| SA (2) | SA109300163B1 (ar) |
-
2009
- 2009-03-11 SA SA109300163A patent/SA109300163B1/ar unknown
- 2009-03-11 SA SA109300161A patent/SA109300161B1/ar unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| SA109300161B1 (ar) | 2012-08-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7820309B2 (en) | Low-maintenance coatings, and methods for producing low-maintenance coatings | |
| JP5129975B2 (ja) | 向上した低保守特性を有する光触媒コーティング | |
| JP5722346B2 (ja) | 高品質放射制御コーティング、放射制御ガラスおよび製造方法 | |
| US7754336B2 (en) | Carbon nanotube glazing technology | |
| CA2573428C (en) | Low-maintenance coatings | |
| US9862640B2 (en) | Tin oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods | |
| US20200148587A1 (en) | Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods | |
| CN101595073B (zh) | 低维护涂层和制造低维护涂层的方法 | |
| SA109300163B1 (ar) | طبقات الطلاء سهلة المعالجة , وطرق تكوين طبقات الطلاء سهلة المعالجة | |
| CN105314888B (zh) | 玫瑰金色低辐射镀膜玻璃及其制备方法和应用 |