Claims (2)
1. Способ формирования рельефа на поверхности функционального слоя, включающий создание на подложке фоторезистивного слоя заданной толщины, экспонирование фоторезистивного слоя посредством электромагнитного излучения, проявление полученного в фоторезистивном слое скрытого изображения жидкостным способом посредством растворения и удаление проэкспонированного материала фоторезиста из зоны экспонирования, а также сушку образованного профильного фоторезистивного слоя и последующее формирование рельефа на поверхности функционального слоя, отличающийся тем, что фоторезистивный слой создают с толщиной не менее максимальной высоты структур формируемого на поверхности функционального слоя рельефа, в качестве электромагнитного излучения используют импульсы лазерного излучения, которые генерируют с периодом времени между последовательными импульсами не меньшим периода времени, необходимомого для удаления проэкспонированного, посредством одного импульса, материала фоторезиста из зоны экспонирования в процессе проявления скрытого изображения, который начинают осуществлять одновременно с экспонированием, формирование рельефа на поверхности функционального слоя осуществляют одновременно с созданием этого слоя, который формируют непосредственно на образованной профильной поверхности фоторезистивного слоя, после чего осуществляют разрушение фоторезистивного слоя и удаление остатков фоторезиста со сформированной профильной поверхности функционального слоя.1. The method of forming a relief on the surface of the functional layer, including creating a photoresistive layer of a given thickness on the substrate, exposing the photoresistive layer by means of electromagnetic radiation, manifesting the latent image obtained in the photoresistive layer by a liquid method by dissolving and removing the exposed photoresist material from the exposure zone, and also drying the formed profile photoresistive layer and subsequent relief formation on the surface of the functional layer, characterized in that the photoresistive layer is created with a thickness of not less than the maximum height of the structures formed on the surface of the functional layer of the relief, laser radiation pulses are used as electromagnetic radiation, which generate with a period of time between successive pulses not less than the period of time required to remove the exposed , by means of a single pulse, the photoresist material from the exposure zone in the process of developing a latent image that begins to exist simultaneously with exposure, the formation of a relief on the surface of the functional layer is carried out simultaneously with the creation of this layer, which is formed directly on the formed profile surface of the photoresistive layer, after which the photoresist layer is destroyed and the residual photoresist is removed from the formed profile surface of the functional layer.
2. Способ формирования рельефа на поверхности функционального слоя по п. 1, отличающийся тем, что проявление полученного в фоторезистивном слое скрытого изображения осуществляют в ламинарном потоке проявителя. 2. The method of forming a relief on the surface of the functional layer according to claim 1, characterized in that the manifestation of the latent image obtained in the photoresistive layer is carried out in a laminar flow of the developer.