RU95101393A - Состав раствора для очистки поверхности - Google Patents
Состав раствора для очистки поверхностиInfo
- Publication number
- RU95101393A RU95101393A RU95101393/25A RU95101393A RU95101393A RU 95101393 A RU95101393 A RU 95101393A RU 95101393/25 A RU95101393/25 A RU 95101393/25A RU 95101393 A RU95101393 A RU 95101393A RU 95101393 A RU95101393 A RU 95101393A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- solution
- cleaning surfaces
- metals
- active additive
- makeup
- Prior art date
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 3
- VTNBTUFKJGHHSM-UHFFFAOYSA-N 2,5-dioxofuran-3-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC(=O)OC1=O VTNBTUFKJGHHSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims abstract 2
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims abstract 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 claims 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 claims 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 claims 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 abstract 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02041—Cleaning
- H01L21/02043—Cleaning before device manufacture, i.e. Begin-Of-Line process
- H01L21/02052—Wet cleaning only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/34—Organic compounds containing sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
- C11D2111/10—Objects to be cleaned
- C11D2111/14—Hard surfaces
- C11D2111/22—Electronic devices, e.g. PCBs or semiconductors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
Изобретение может быть использовано для очистки поверхности разных материалов, таких как диэлектрики, полупроводники, металлы. Кроме того, этот состав может быть использован для очистки сточных вод, выделяя из них тяжелые металлы. Предлагаемый состав содержит воду и активную добавку. В качестве активной добавки введен сульфомалеиновый ангидрид, эффективное количество которого составляет на 100 мас.ч. раствора 0,1 - 70%. Предлагаемый состав раствора для очистки поверхности нетоксичен, не представляет угрозы окружающей среде, намного дешевле, чем обычные аммиачные и кислотные растворы, может быть использован повторно 2-3 раза без уменьшения степени очистки поверхности.
Claims (1)
- Изобретение может быть использовано для очистки поверхности разных материалов, таких как диэлектрики, полупроводники, металлы. Кроме того, этот состав может быть использован для очистки сточных вод, выделяя из них тяжелые металлы. Предлагаемый состав содержит воду и активную добавку. В качестве активной добавки введен сульфомалеиновый ангидрид, эффективное количество которого составляет на 100 мас.ч. раствора 0,1 - 70%. Предлагаемый состав раствора для очистки поверхности нетоксичен, не представляет угрозы окружающей среде, намного дешевле, чем обычные аммиачные и кислотные растворы, может быть использован повторно 2-3 раза без уменьшения степени очистки поверхности.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU9595101393A RU2052868C1 (ru) | 1995-02-03 | 1995-02-03 | Состав раствора для очистки поверхности (типа "полифункционал") |
| PCT/RU1996/000030 WO1996024158A1 (fr) | 1995-02-03 | 1996-02-02 | Composition pour le nettoyage de surfaces dures |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU9595101393A RU2052868C1 (ru) | 1995-02-03 | 1995-02-03 | Состав раствора для очистки поверхности (типа "полифункционал") |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2052868C1 RU2052868C1 (ru) | 1996-01-20 |
| RU95101393A true RU95101393A (ru) | 1997-01-20 |
Family
ID=20164422
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU9595101393A RU2052868C1 (ru) | 1995-02-03 | 1995-02-03 | Состав раствора для очистки поверхности (типа "полифункционал") |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2052868C1 (ru) |
| WO (1) | WO1996024158A1 (ru) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| PL188424B1 (pl) * | 1999-10-29 | 2005-01-31 | Tadeusz Bugalski | Kompozycja do chemicznego oczyszczania powierzchni z zaadsorbowanych jonów i atomów metali płytek półprzewodnikowych oraz urządzeń w których się je produkuje |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4339340A (en) * | 1975-11-26 | 1982-07-13 | Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. | Surface-treating agent adapted for intermediate products of a semiconductor device |
| DE3822350A1 (de) * | 1988-07-01 | 1990-01-04 | Siemens Ag | Verfahren zum entfernen von metall-verunreinigungen auf halbleiterkristalloberflaechen |
| FI97920C (fi) * | 1991-02-27 | 1997-03-10 | Okmetic Oy | Tapa puhdistaa puolijohdevalmiste |
| JP3217116B2 (ja) * | 1992-03-06 | 2001-10-09 | 日産化学工業株式会社 | 低表面張力洗浄用組成物 |
| US5498293A (en) * | 1994-06-23 | 1996-03-12 | Mallinckrodt Baker, Inc. | Cleaning wafer substrates of metal contamination while maintaining wafer smoothness |
-
1995
- 1995-02-03 RU RU9595101393A patent/RU2052868C1/ru active
-
1996
- 1996-02-02 WO PCT/RU1996/000030 patent/WO1996024158A1/ru active Search and Examination
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO1996024158A1 (fr) | 1996-08-08 |
| RU2052868C1 (ru) | 1996-01-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2169636A1 (en) | Potentiated aqueous ozone cleaning composition for removal of a contaminating soil from a surface | |
| AU2098583A (en) | Alkyl monophosphonic acids used as germicidal agents | |
| AR001382A1 (es) | Limpiador de superfícies duras acuoso y método para limpiar manchas de una superfície con el mismo. | |
| DE69523161T2 (de) | Salzlösung zur behandlung von kontaktlinsen | |
| NO971667L (no) | Hydantoinforbedret halogeneffektivitet i masse- og papiranvendelser | |
| ATE233805T1 (de) | Wässeriges metallreinigungsmittel | |
| DE59404229D1 (de) | Reinigungsmittel mit hohem benetzungsvermögen | |
| BR9509491A (pt) | Processo e composição de agentede alvejamento | |
| ES540459A0 (es) | Procedimiento para el tratamiento y limpieza de una carroceria metalica,particularmente de automoviles. | |
| RU95101393A (ru) | Состав раствора для очистки поверхности | |
| BR9808036A (pt) | Processo para tratar uma superfìcie | |
| PT1200158E (pt) | Mistura para o tratamento de materiais residuais | |
| ES2088671T3 (es) | Agentes de limpieza para superficies duras, especialmente vidrio. | |
| JPS54113956A (en) | Granular agent for disposing of waste water | |
| RU94046154A (ru) | Состав флоккулянта | |
| CN106587192A (zh) | 一种高效污水处理剂 | |
| CA2247862A1 (en) | Treatment of contact lenses with aqueous solution including phosphonic compounds | |
| SU844611A1 (ru) | Состав дл очистки поверхностиСТРОиТЕльНыХ МАТЕРиАлОВ | |
| RU94007072A (ru) | Способ очистки сточных вод от красителей | |
| RU95108226A (ru) | Состав для обработки сточных вод | |
| RU96103480A (ru) | Способ очистки воды | |
| BR9713474A (pt) | Composições de molho. | |
| RU95109465A (ru) | Способ очистки промышленных вод | |
| RU93036680A (ru) | Способ биохимической очистки сточных вод | |
| SU1740406A1 (ru) | Состав дл очистки металлической поверхности |