Claims (1)
Электронный пучок с высокой плотностью тока, сформированный в независимой электронной пушке, с заданной энергией электронов, необходимой для получения высокозарядных ионов, вводится в поток дрейфующей плазмы, содержащей низкозарядные ионы рабочего вещества. При этом электронный пучок пролетает сквозь генератор плазмы, а затем сквозь канал дрейфа, которые расположены на одной оси с электронной пушкой. Генератором плазмы может служить любой источник ионов, приспособленный для пропускания электронного пучка сквозь него по центру выходного отверстия для выпуска плазмы. Канал дрейфа имеет длину, достаточную для эффективного взаимодействия пучка электронов с ионами плазмы, которая определяется фактором ионизации. Удержание потока плазмы и электронного пучка на оси канала дрейфа осуществляется продольным магнитным полем. В результате использования предполагаемого изобретения величина пригодного для использования в ускорителях тока пучка высокозарядных ионов увеличится до сотен микроампер и более. Такой пучок может использоваться в ускорителях как для научных целей, так и в промышленном производстве, в частности, для имплантации разного сорта ионов в вещество.An electron beam with a high current density, formed in an independent electron gun, with a given electron energy required to produce highly charged ions, is introduced into a flow of drifting plasma containing low-charge ions of the working substance. In this case, the electron beam flies through the plasma generator, and then through the drift channel, which are located on the same axis as the electron gun. A plasma generator can serve as any ion source adapted to transmitting an electron beam through it in the center of an outlet for plasma production. The drift channel has a length sufficient for effective interaction of the electron beam with plasma ions, which is determined by the ionization factor. The plasma and electron beam flux is held on the axis of the drift channel by a longitudinal magnetic field. As a result of the use of the proposed invention, the value of a highly charged ion beam usable in current accelerators will increase to hundreds of microamps and more. Such a beam can be used in accelerators both for scientific purposes and in industrial production, in particular, for the implantation of different types of ions into a substance.