Claims (1)
Изобретение относится к электротехнике, а именно к плазменно-дуговым процессам, и может бить использовано в плазмотронах для резки, сварки, плазменно-дугового напыления, термической и термомеханической обработок. Цель изобретения - повышение производительности процесса и улучшение качества наплавляемых поверхностей жаропрочными сплавами. Поставленная цель достигается тем, что в известном электроде для дуговых процессов, содержащем электропроводный корпус и активную вставку, новым является то, что активная вставка выполнена в поперечном сечении в виде эллипса с соотношением осей, равным 1,3 - 4,0. Производительность процесса повышается в 1,5 - 2,0 раза при высоком качестве наплавляемого слоя.The invention relates to electrical engineering, namely to plasma-arc processes, and can be used in plasmatrons for cutting, welding, plasma-arc spraying, thermal and thermomechanical treatments. The purpose of the invention is to increase the productivity of the process and improve the quality of the deposited surfaces by heat-resistant alloys. This goal is achieved by the fact that in the known electrode for arc processes containing an electrically conductive housing and an active insert, it is new that the active insert is made in cross section in the form of an ellipse with an axis ratio of 1.3 - 4.0. The productivity of the process increases by 1.5 - 2.0 times with high quality deposited layer.