RU73257U1 - Устройство для электроискровой обработки поверхностей - Google Patents
Устройство для электроискровой обработки поверхностей Download PDFInfo
- Publication number
- RU73257U1 RU73257U1 RU2008102170/22U RU2008102170U RU73257U1 RU 73257 U1 RU73257 U1 RU 73257U1 RU 2008102170/22 U RU2008102170/22 U RU 2008102170/22U RU 2008102170 U RU2008102170 U RU 2008102170U RU 73257 U1 RU73257 U1 RU 73257U1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- anode
- output
- base
- electrode
- discharge
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
Полезная модель направлена на возможность получения покрытия с постоянными значениями толщины и сплошности. Устройство содержит обмотку вибровозбудителя, источник постоянного тока, положительный полюс которого соединен с коллектором зарядного транзистора, эмиттер которого соединен с анодом разрядного тиристора, катод которого соединен с электродом, а отрицательный полюс источника соединен с деталью. Между отрицательным полюсом источника постоянного тока и анодом разрядного тиристора включен накопительный конденсатор. База зарядного транзистора соединена с выходом блока регулирования и анодом диода, катод которого соединен с электродом, а управляющий вывод разрядного тиристора соединен с выходом блока запуска. С выводами обмотки вибровозбудителя соединены потенциальный и нулевой выводы униполярного инвертора. Эмиттер разрядного транзистора соединен с базой зарядного транзистора, коллектор - с отрицательным полюсом источника постоянного тока, а база - с потенциальным выводом униполярного инвертора. 1 илл., 3 табл.
Description
Полезная модель относится к областям машиностроительного и ремонтного производства и может быть использована для упрочнения и восстановления деталей машин, режущего инструмента и штамповой оснастки.
Известно устройство для электроискровой обработки поверхностей, содержащее обмотку вибровозбудителя, источник постоянного тока, положительный полюс которого соединен с коллектором зарядного транзистора, эмиттер которого соединен с анодом разрядного тиристора, катод которого соединен с электродом. Отрицательный полюс источника соединен с деталью. Между отрицательным полюсом источника и анодом разрядного тиристора включен накопительный конденсатор. База зарядного транзистора соединена с выходом блока регулировки режима и анодом диода, катод которого соединен с электродом. Управляющий вывод разрядного тиристора соединен с выходом блока запуска (Паспорт АИИ3.299.157 ПС. Установка «Элитрон 22». - Кишинев «Штиинца», 1986. 18 с.).
Недостатком известного устройства является наличие отскоков электрода от поверхности детали и появление серии импульсов тока различной энергии.
Технический результат заключается в возможности получения покрытия с постоянными значениями толщины и сплошности за счет дозированной энергии импульсов за одно касание электрода с поверхностью детали.
Технический результат достигается тем, что устройство содержит обмотку вибровозбудителя, источник постоянного тока, положительный полюс которого соединен с коллектором зарядного транзистора, эмиттер которого соединен с анодом разрядного тиристора, катод которого соединен с электродом, а отрицательный полюс источника соединен с деталью. Между отрицательным полюсом источника постоянного тока и анодом разрядного
тиристора включен накопительный конденсатор. База зарядного транзистора соединена с выходом блока регулирования и анодом диода, катод которого соединен с электродом, а управляющий вывод разрядного тиристора соединен с выходом блока запуска. С выводами обмотки вибровозбудителя соединены потенциальный и нулевой выводы униполярного инвертора. Эмиттер разрядного транзистора соединен с базой зарядного транзистора, коллектор - с отрицательным полюсом источника постоянного тока, а база - с потенциальным выводом униполярного инвертора.
Устройство содержит обмотку вибровозбудителя 1 (фиг.1),выводы которого соединены с потенциальным и нулевым выводами униполярного инвертора 2. Положительный полюс источника постоянного тока 3 соединен с коллектором зарядного транзистора 4, эмиттер которого соединен с анодом разрядного тиристора 5, катод которого соединен с электродом 6. Между отрицательным полюсом источника постоянного тока 3, соединенным с деталью 7, и анодом разрядного тиристора 5 включен накопительный конденсатор 8. База зарядного транзистора 4 соединена с выходом блока регулировки режима 9 и анодом диода 10, катод которого соединен с электродом 7. Управляющий вывод разрядного тиристора 5 соединен с выходом блока запуска 11. Эмиттер разрядного транзистора 12 соединен с базой зарядного транзистора 4, коллектор - с отрицательным полюсом источника постоянного тока 3, а база с потенциальным выводом униполярного инвертора 2.
Устройство работает следующим образом. Обмотка вибровозбудителя 1 получает питание от униполярного инвертора 2. При положительном импульсе, поступающем с потенциального вывода униполярного инвертора 2, якорь вибровозбудителя притягивается к магнитопроводу и электрод 6 удаляется от поверхности детали 7. Этот же импульс закрывает разрядный транзистор 12, и на базу зарядного транзистора 4 поступает положительное напряжение с блока регулировки режима 9. Зарядный транзистор 4 открывается и происходит заряд накопительного конденсатора 8 до значения напряжения, заданного блоком регулировки режима 9. При нулевом потенциале на
потенциальном выводе униполярного инвертора 2 якорь вибровозбудителя за счет действия пружины удаляется от магнитопровода вибровозбудителя и электрод 6 приближается к поверхности детали 7. Нулевой потенциал открывает разрядный транзистор 12, и база зарядного транзистора 4 соединяется с отрицательным полюсом источника постоянного тока 3. Зарядный транзистор 4 закрывается. При касании электродом 6 детали 7 разрядной тиристор 5 открывается за счет создания цепи для запуска разрядного тиристора 5 с блока запуска 11. Происходит разряд накопительного конденсатора 8. Если электрод 6 отскакивает от поверхности детали 7, то ток в межэлектродный промежуток не поступает за счет шунтирования разрядным транзистором 12 базы зарядного транзистора 4, то есть за одно касание электродом 6 поверхности детали 7 происходит единичный разряд накопительного конденсатора 8, заряженного до напряжения заданной величины. При сильном давлении на вибровозбудитель 1, когда электрод 6 находится в постоянном контакте с поверхностью детали 7, шунтирование базы зарядного транзистора 4 осуществляется диодом 10, что исключает протекание сквозного тока от источника постоянного тока 3.
Исследование эффективности устройства для электроискровой обработки осуществляли на установке «Элитрон-22» в ручном режиме с рабочими токами 0,5, 1,3, 2,8 А. За контролируемые параметры покрытий приняты толщина и сплошность. Повторность экспериментов составляла 8 раз. Результаты экспериментальной работы для различных электродных материалов приведены в табл.1-3.
Таблица 1
| Катод - сталь 45; Анод - медь M1, электрод диаметром 2 мм, длиной 40 мм; Рабочий ток - 0,5 А; Время обработки поверхности площадью 1 см2 - 2,5 мин. |
|||||||
| Установка для электроискровой обработки поверхностей «Элитрон 22» | Установка для электроискровой обработки поверхностей «Элитрон 22» с заявленным устройством | ||||||
| Толщина покры-тий, мкм | Разброс значе-ний толщины покры-тий, % | Сплош-ность покры-тий, % | Разброс значений сплош-ности покры-тий, % | Толщина покры-тий, мкм | Разброс значе-ний толщины покры-тий, % | Сплош-ность покры-тий, % | Разброс значе-ний сплош-ности покры-тий, % |
| 8-18 | 55,6 | 50-75 | 20 | 29-32 | 9,4 | 75-80 | 6,3 |
Из таблицы 1 видно, что для исследуемых материалов катод - сталь 45, анод - медь M1 разброс значений толщины покрытий, полученных с использованием установки для электроискровой обработки с заявленным устройством снизился в 5,8 раз, а значение сплошности в 3,2 раза. Среднее значение толщины покрытий увеличилось в 2,3 раза, а среднее значение сплошности покрытий увеличилось в 1,24 раза.
Таблица 2
| Катод - быстрорежущая сталь Р6М5; Анод - твердый сплав ВК6, электрод диаметром 2 мм, длиной 30 мм; Рабочий ток - 1,3 А; Время обработки поверхности площадью 1 см2 - 2 мин. |
|||||||
| Установка для электроискровой обработки поверхностей «Элитрон 22» | Установка для электроискровой обработки поверхностей «Элитрон 22» с заявленным устройством | ||||||
| Толщина покры-тий, мкм | Разброс значе-ний толщины покры-тий, % | Сплош-ность покры-тий, % | Разброс значений сплош-ности покры-тий, % | Толщина покры-тий, мкм | Разброс значе-ний толщины покры-тий, % | Сплош-ность покры-тий, % | Разброс значе-ний сплош-ности покры-тий, % |
| 14-23 | 39 | 72-83 | 13,3 | 40-43 | 7 | 85-90 | 5,6 |
Из таблицы 2 видно, что для исследуемых материалов катод - быстрорежущая сталь Р6М5, анод - твердый сплав ВК6 разброс значений толщины покрытий, полученных с использованием установки для электроискровой обработки с заявленным устройством снизился в 5,6 раза, а значение сплошности в 2 раза. Среднее значение толщины покрытий увеличилось в 2,2 раза, а среднее значение сплошности покрытий увеличилось в 1,13 раза.
Таблица 3
| Катод - быстрорежущая сталь Р6М5; Анод - твердый сплав ВК6, электрод диаметром 2 мм, длиной 30 мм; Рабочий ток - 1,3 А; Время обработки поверхности площадью 1 см2 - 2 мин. |
|||||||
| Установка для электроискровой обработки поверхностей «Элитрон 22» | Установка для электроискровой обработки поверхностей «Элитрон 22» с заявленным устройством | ||||||
| Толщина покры-тий, мкм | Разброс значе-ний толщины покры-тий, % | Сплош-ность покры-тий, % | Разброс значений сплош-ности покры-тий, % | Толщина покры-тий, мкм | Разброс значе-ний толщины покры-тий, % | Сплош-ность покры-тий, % | Разброс значе-ний сплош-ности покры-тий, % |
| 31-44 | 29,5 | 68-79 | 13,9 | 60-66 | 9 | 79-85 | 7 |
Из таблицы 3 видно, что для исследуемых материалов катод - сталь 20Х, анод - сталь 65Г разброс значений толщины покрытий, полученных с использованием установки для электроискровой обработки с заявленным устройством снизился в 3,3 раза, а значение сплошности в 2 раза. Среднее значение толщины покрытий увеличилось в 1,7 раза, а среднее значение сплошности покрытий увеличилось в 1,12 раза.
Таким образом, предлагаемое решение дает возможность за счет дозированной энергии импульсов за одно касание электродом поверхности детали получать покрытия с постоянными и большими значениями толщины и сплошности.
Claims (1)
- Устройство для электроискровой обработки поверхностей, содержащее обмотку вибровозбудителя, источник постоянного тока, положительным полюсом соединенный с коллектором зарядного транзистора, эмиттер которого соединен с анодом разрядного тиристора, катод которого соединен с электродом, а между отрицательным полюсом источника постоянного тока, соединенным с деталью, и анодом разрядного тиристора включен накопительный конденсатор, причем база зарядного транзистора соединена с выходом блока регулировки режима и анодом диода, катод которого соединен с электродом, а управляющий вывод разрядного тиристора соединен с выходом блока запуска, отличающееся тем, что оно дополнительно снабжено униполярным инвертором, потенциальный и нулевой выводы которого соединены с выводами обмотки вибровозбудителя, и разрядным транзистором, эмиттер которого соединен с базой зарядного транзистора, коллектор - с отрицательным полюсом источника постоянного тока, а база - с потенциальным выводом униполярного инвертора.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2008102170/22U RU73257U1 (ru) | 2008-01-21 | 2008-01-21 | Устройство для электроискровой обработки поверхностей |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2008102170/22U RU73257U1 (ru) | 2008-01-21 | 2008-01-21 | Устройство для электроискровой обработки поверхностей |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU73257U1 true RU73257U1 (ru) | 2008-05-20 |
Family
ID=39799062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2008102170/22U RU73257U1 (ru) | 2008-01-21 | 2008-01-21 | Устройство для электроискровой обработки поверхностей |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU73257U1 (ru) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2465990C1 (ru) * | 2011-09-12 | 2012-11-10 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Мордовский государственный университет им. Н.П. Огарева" | Устройство для искровой обработки |
| RU2616694C2 (ru) * | 2015-06-03 | 2017-04-18 | Федеральное государственное бюджетное научное учреждение Федеральный научный агроинженерный центр ВИМ (ФГБНУ ФНАЦ ВИМ) | Способ электроискрового нанесения покрытий и устройство для его осуществления |
-
2008
- 2008-01-21 RU RU2008102170/22U patent/RU73257U1/ru active
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2465990C1 (ru) * | 2011-09-12 | 2012-11-10 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Мордовский государственный университет им. Н.П. Огарева" | Устройство для искровой обработки |
| RU2616694C2 (ru) * | 2015-06-03 | 2017-04-18 | Федеральное государственное бюджетное научное учреждение Федеральный научный агроинженерный центр ВИМ (ФГБНУ ФНАЦ ВИМ) | Способ электроискрового нанесения покрытий и устройство для его осуществления |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EA200200055A1 (ru) | Способ управления процессом электрохимической обработки | |
| EP1808254A3 (en) | Method and apparatus for generating machining pulses for electrical discharge machining | |
| RU73257U1 (ru) | Устройство для электроискровой обработки поверхностей | |
| RU2008145736A (ru) | Способ электрохимической обработки | |
| CN105057822B (zh) | 高压脉冲除毛刺装置 | |
| RU2635057C2 (ru) | Установка для электроэрозионной обработки | |
| CN103683981B (zh) | 单极性低温等离子体电源 | |
| RU172551U1 (ru) | Устройство для электроабразивной обработки токопроводящим кругом | |
| EP2546015A3 (en) | Power supply device for wire electric discharge machine capable of suppressing wire electrode consumption | |
| DE60308640D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum schlag-verdichten eines stoffes und plasmakathode dazu | |
| CN107919250A (zh) | 一种门控脉冲交流接触器启动保持运行电路 | |
| RU107086U1 (ru) | Устройство для электроискровой обработки поверхностей | |
| CN207026652U (zh) | 电火花加工电源和加工装置 | |
| RU63275U1 (ru) | Генератор импульсов для электроэрозионной обработки | |
| CN209985584U (zh) | 一种静电除尘器用iegt大功率高压脉冲电源 | |
| CN109731689B (zh) | 一种静电除尘器用iegt大功率高压脉冲电源 | |
| RU188215U1 (ru) | Устройство для комбинированной обработки металлических изделий сменными токопроводящими инструментами | |
| RU2245767C1 (ru) | Устройство для электроискрового легирования | |
| RU2679160C1 (ru) | Способ электроискрового нанесения покрытий и устройство для его осуществления | |
| CN113862459B (zh) | 高频电脉冲辅助表面微锻装置 | |
| RU2140834C1 (ru) | Способ электроискрового легирования и устройство для его осуществления | |
| CN204442191U (zh) | 带引弧装置弧电源 | |
| US20120175259A1 (en) | Method for electrochemical machining | |
| JP2005213554A5 (ru) | ||
| RU54548U1 (ru) | Устройство для электроискрового упрочнения |