RU59889U1 - CARTRIDGE FOR CLEANING SEMICONDUCTOR PLATES - Google Patents
CARTRIDGE FOR CLEANING SEMICONDUCTOR PLATES Download PDFInfo
- Publication number
- RU59889U1 RU59889U1 RU2006126109/22U RU2006126109U RU59889U1 RU 59889 U1 RU59889 U1 RU 59889U1 RU 2006126109/22 U RU2006126109/22 U RU 2006126109/22U RU 2006126109 U RU2006126109 U RU 2006126109U RU 59889 U1 RU59889 U1 RU 59889U1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- walls
- partitions
- spacers
- semiconductor wafers
- housing
- Prior art date
Links
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
Полезная модель относится к электронной промышленности и может быть использована, в частности, при отмывке, химической обработке и сушке пластин из монокристаллического и мультикристаллического кремния, арсенида галлия и других полупроводниковых материалов, используемых в производстве фотоэлектрических преобразователей. Кассета для очистки полупроводниковых пластин содержит корпус с вертикальными перегородками, между которыми выполнены гнезда для установки полупроводниковых пластин. Корпус образован двумя соединенными между собой посредством распорок вертикальными стенками. Перегородки выполнены, по меньшей мере, с внутренней из сторон каждой из стенок. В нижней части зазоров между перегородками расположены опорные элементы, а на стенках в зазорах между перегородками выполнены вентиляционные окна. Полезная модель позволит повысить качество очистки полупроводниковых пластин и надежность их фиксации.The utility model relates to the electronics industry and can be used, in particular, for washing, chemical processing and drying of wafers made of single-crystal and multicrystalline silicon, gallium arsenide and other semiconductor materials used in the manufacture of photoelectric converters. The cassette for cleaning semiconductor wafers contains a housing with vertical partitions, between which are made slots for installing semiconductor wafers. The housing is formed by two vertical walls interconnected by spacers. Partitions are made at least from the inside of the sides of each of the walls. Supporting elements are located in the lower part of the gaps between the partitions, and ventilation windows are made on the walls in the gaps between the partitions. The utility model will improve the quality of cleaning of semiconductor wafers and the reliability of their fixation.
Description
Полезная модель относится к электронной промышленности и может быть использована, в частности, при отмывке, химической обработке и сушке пластин из монокристаллического и мультикристаллического кремния, арсенида галлия и других полупроводниковых материалов, используемых в производстве фотоэлектрических преобразователей.The utility model relates to the electronics industry and can be used, in particular, for washing, chemical processing and drying of wafers made of single-crystal and multicrystalline silicon, gallium arsenide and other semiconductor materials used in the manufacture of photoelectric converters.
Известна кассета для химической обработки полупроводниковых пластин, которая содержит корпус с вертикальными перегородками, между которыми выполнены гнезда для установки полупроводниковых пластин, при этом в вертикальных перегородках сделаны отверстия для прохождения реактива (SU №9021111 А, 30.01.1982).Known cassette for chemical processing of semiconductor wafers, which contains a housing with vertical partitions, between which are made nests for installing semiconductor wafers, while holes are made in the vertical partitions for passing the reagent (SU No. 9021111 A, 01/30/1982).
Недостатком известной конструкции является ненадежная фиксация пластин в кассете и низкое качество их обработки.A disadvantage of the known design is the unreliable fixation of the plates in the cassette and the low quality of their processing.
Техническим результатом предложенной полезной модели является повышение качества очистки пластин с одновременным повышением надежности фиксации их в кассете.The technical result of the proposed utility model is to improve the quality of cleaning the plates with a simultaneous increase in the reliability of their fixation in the cartridge.
Этот технический результат достигается за счет того, что в кассете для очистки полупроводниковых пластин, содержащей корпус с вертикальными перегородками, между которыми выполнены гнезда для установки полупроводниковых пластин, корпус образован двумя соединенными между собой посредством распорок вертикальными стенками, перегородки выполнены, по меньшей мере, с внутренней из сторон каждой из стенок, в нижней части зазоров между перегородками расположены опорные элементы, а на стенках между перегородками выполнены вентиляционные окна.This technical result is achieved due to the fact that in the cassette for cleaning semiconductor wafers containing a housing with vertical partitions, between which sockets for installing semiconductor wafers are made, the housing is formed by two vertical walls interconnected by spacers, the partitions are made of at least support elements are located on the inner side of each wall, in the lower part of the gaps between the partitions, and ventilation windows are made on the walls between the partitions .
Кроме того, распорки, установленные в нижней части корпуса, снабжены опорными ножками.In addition, the spacers installed in the lower part of the housing are provided with support legs.
Кроме того, распорки соединены со стенками посредством болтового соединения.In addition, the spacers are connected to the walls by means of a bolted connection.
Кроме того, между торцевыми поверхностями распорок и внутренней поверхностью стенок установлены шайбы.In addition, washers are installed between the end surfaces of the spacers and the inner surface of the walls.
Полезная модель иллюстрируется чертежами, где на фиг.1 изображена предлагаемая кассета для очистки полупроводниковых пластин, общий вид, на фиг.2 - сечение А-А по фиг.1.The utility model is illustrated by drawings, where figure 1 shows the proposed cartridge for cleaning semiconductor wafers, General view, figure 2 - section aa in figure 1.
Кассета для очистки полупроводниковых пластин содержит корпус, образованный двумя вертикальными стенками 1, которые соединены между собой посредством распорок 2. Распорки 2 соединены со стенками 1 посредством болтов 3.The cassette for cleaning semiconductor wafers contains a housing formed by two vertical walls 1, which are interconnected by spacers 2. Spacers 2 are connected to the walls 1 by means of bolts 3.
С двух сторон (внутренней и внешней) каждой из стенок 1 выполнены вертикальные перегородки 4, зазоры 5 между которыми образуют гнезда для установки полупроводниковых пластин 6.On the two sides (internal and external) of each of the walls 1, vertical partitions 4 are made, the gaps 5 between which form slots for installing the semiconductor wafers 6.
В нижней части зазоров 5 между перегородками 4 выполнены опорные элементы 7, а на стенках 1 между перегородками 4 выполнены вентиляционные окна 8.In the lower part of the gaps 5 between the partitions 4, support elements 7 are made, and ventilation windows 8 are made on the walls 1 between the partitions 4.
Распорки 2, установленные в нижней части корпуса, снабжены опорными ножками 9.Spacers 2 installed in the lower part of the housing are equipped with support legs 9.
Между торцевыми поверхностями распорок 2 и внутренней поверхностью стенок 1 установлены шайбы 10.Washers 10 are installed between the end surfaces of the spacers 2 and the inner surface of the walls 1.
Кассета работает следующим образомThe cassette works as follows
Перед работой кассету собирают. Сначала две стенки 1 устанавливают на определенном заданном расстоянии одна от другой (в зависимости от размера обрабатываемых пластин 6). Одновременно между стенками 1 устанавливают распорки 2. В зависимости от размера обрабатываемых пластин 6 расстояние между стенкам может быть отрегулировано путем установки между распорками 2 и стенками 1 шайб 10. Затем стенки 1 фиксируют посредством болтов 3.Before work, the cartridge is collected. First, two walls 1 are installed at a certain predetermined distance from one another (depending on the size of the processed plates 6). At the same time, spacers 2 are installed between the walls 1. Depending on the size of the workpieces 6, the distance between the walls can be adjusted by installing washers 10 between the spacers 2 and the walls 1. Then, the walls 1 are fixed using bolts 3.
Пластины 6 монокристаллического кремния вставляют вертикально в зазоры 5 между вертикальными перегородками 4 таким образом, что в каждый зазор 5 кассеты закладывают по одной пластине 6. При этом каждая пластина Monocrystalline silicon wafers 6 are inserted vertically into the gaps 5 between the vertical partitions 4 in such a way that one wafer 6 is laid in each gap 5 of the cartridge. In addition, each wafer
6 опирается на соответствующие опорные элементы 7, расположенные в зазорах 5 стенок 1.6 relies on the respective supporting elements 7 located in the gaps 5 of the walls 1.
Собранные кассеты помещают в транспортную корзину, которую устанавливают в ванну с моющим средством (раствором синтанола). Корзину устанавливают на крюки, которые совершают возвратно-поступательное перемещение по вертикали. Моющая жидкость свободно проходит через вентиляционные окна 8. При этом происходит турбулизация моющего раствора. Продолжительность обработки моющим средством составляет 10 минут.The assembled cartridges are placed in a transport basket, which is installed in a bath with detergent (syntanol solution). The basket is mounted on hooks that reciprocate vertically. The washing liquid passes freely through the ventilation windows 8. In this case, the washing solution is turbulized. The duration of the detergent treatment is 10 minutes.
После обработки в ванне с моющим реактивом, корзину переносят в другую ванну с дионизированной водой (обессоленная вода). В течение 10 минут производят ополаскивание пластин путем смывки остатков моющего раствора при возвратно-поступательном перемещении корзины. Затем осуществляют сушку корзины последовательно горячим и холодным воздухом в сушильной камере.After processing in a bath with a washing reagent, the basket is transferred to another bath with deionized water (demineralized water). Within 10 minutes, rinse the plates by washing the remnants of the washing solution with the reciprocating movement of the basket. Then carry out the drying basket successively with hot and cold air in the drying chamber.
При возвратно-поступательном перемещении кассеты в ванне с моющей или ополаскивающей жидкостью происходит интенсивное перемешивание жидкости и равномерное обтекание ее плоскостей пластин 6.When the reciprocating movement of the cartridge in the bath with a washing or rinsing liquid is intensive mixing of the liquid and uniform flow around its planes of the plates 6.
Кассета позволяет обеспечить надежную фиксацию пластин с одновременной качественной обработкой всей поверхности каждой из пластин за счет свободного доступа жидкости к плоскостям пластины.The cassette allows for reliable fixation of the plates with simultaneous high-quality processing of the entire surface of each of the plates due to free access of liquid to the planes of the plate.
Кроме того, при выполнении перегородок 4 с двух сторон стенок 1 при изнашивании опорных элементов 7 с одной из сторон стенки 1, стенку можно перевернуть.In addition, when performing partitions 4 on both sides of the walls 1 when wearing support elements 7 on one side of the wall 1, the wall can be turned over.
Путем установки шайб 10 различной высоты можно регулировать расстояние между вертикальными стенками 1, что позволит использовать кассету для обработки пластин различных размеров.By installing washers 10 of various heights, the distance between the vertical walls 1 can be adjusted, which allows the use of a cassette for processing plates of various sizes.
Полезная модель позволит повысить качество очистки полупроводниковых пластин и надежность их фиксации.The utility model will improve the quality of cleaning of semiconductor wafers and the reliability of their fixation.
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2006126109/22U RU59889U1 (en) | 2006-07-19 | 2006-07-19 | CARTRIDGE FOR CLEANING SEMICONDUCTOR PLATES |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2006126109/22U RU59889U1 (en) | 2006-07-19 | 2006-07-19 | CARTRIDGE FOR CLEANING SEMICONDUCTOR PLATES |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU59889U1 true RU59889U1 (en) | 2006-12-27 |
Family
ID=37760620
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2006126109/22U RU59889U1 (en) | 2006-07-19 | 2006-07-19 | CARTRIDGE FOR CLEANING SEMICONDUCTOR PLATES |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU59889U1 (en) |
-
2006
- 2006-07-19 RU RU2006126109/22U patent/RU59889U1/en not_active IP Right Cessation
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110788063A (en) | Silicon wafer cleaning equipment | |
CN117380634A (en) | Silicon wafer cleaning system | |
RU59889U1 (en) | CARTRIDGE FOR CLEANING SEMICONDUCTOR PLATES | |
CN208261383U (en) | A kind of economizing type inserted sheet cleaning all-in-one machine | |
KR20140001087U (en) | A spin jig for the module of the electric parts | |
CN111048446B (en) | High-efficient diode preparation acid dip pickle | |
CN201394556Y (en) | Graphite carrying plate cleaning device | |
CN209303402U (en) | A kind of cleaning device before bottled drink vanning | |
CN100481324C (en) | Ultrasonic cleaning monocrystalline silicon piece method and device thereof | |
CN201098688Y (en) | Device for cleaning single-crystal silicon chip by using ultrasonic wave | |
CN211100448U (en) | Silicon wafer cleaning equipment | |
CN212238300U (en) | Part cleaning device of environment-friendly machinery | |
CN209034983U (en) | Cleaning device for quartz sand | |
CN206356315U (en) | A kind of multiple-grooved ultrasonic cleaning equipment | |
CN106684020A (en) | Surface cleaning treatment method for solar silicon wafer | |
CN210253264U (en) | Integrated device for cleaning, drying and collecting scraps of mechanical parts | |
CN202615111U (en) | Device for manually cleaning photomask | |
CN109244003B (en) | Post-processing system for wafer production | |
CN216757428U (en) | Liquid transfer device of photovoltaic slice cleaning machine | |
CN205512222U (en) | Kernel of corn vibration cleaning equipment | |
CN213958930U (en) | Silicon chip basket of flowers convenient to wash | |
CN117153765B (en) | Wafer rotary spraying cleaning device | |
CN212783386U (en) | Wafer-based cleaning device | |
CN221157844U (en) | Probe card production washs drying equipment | |
CN221899978U (en) | Drying and washing integrated silicon wafer treatment basket |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM1K | Utility model has become invalid (non-payment of fees) |
Effective date: 20110720 |
|
NF1K | Reinstatement of utility model |
Effective date: 20120420 |
|
PC11 | Official registration of the transfer of exclusive right |
Effective date: 20120706 |
|
QZ11 | Official registration of changes to a registered agreement (utility model) |
Free format text: DISPOSAL FORMERLY AGREED ON 20120706 Effective date: 20130326 |
|
MM1K | Utility model has become invalid (non-payment of fees) |
Effective date: 20150720 |