RU482119C - Photosensitive material - Google Patents
Photosensitive materialInfo
- Publication number
- RU482119C RU482119C SU731934017A SU1934017A RU482119C RU 482119 C RU482119 C RU 482119C SU 731934017 A SU731934017 A SU 731934017A SU 1934017 A SU1934017 A SU 1934017A RU 482119 C RU482119 C RU 482119C
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- photosensitive material
- emulsion
- substrate
- layers
- protective
- Prior art date
Links
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫЙ МАТЕРИАЛ с антистатиком, состо щий из подложки, эмульсионного, защитного и любого дополнительного сло , отличающийс тем, что, с целью предотвращени накоплени статического электричества на подложке, в сло х светочувствительного материала, слои содержат в' качестве антистатика азотнокислые соли имидазолина общей формулыN-CH^ / t '• R-C СНг . \ /I"^(сн-^снда^снгШргn,HllQ^где R=CioH2i-C2oH4i; п=1-6; ni=1-7.в количестве 2-5% от пленкообразующеговещества.LIGHT-SENSITIVE MATERIAL with antistatic agent, consisting of a substrate, emulsion, protective and any additional layer, characterized in that, in order to prevent the accumulation of static electricity on the substrate, in layers of a photosensitive material, the layers contain imidazoline nitrate salts of the general formula N- CH ^ / t '• RC SNg. \ / I "^ (sn- ^ snda ^ cngHrn, HllQ ^ where R = CioH2i-C2oH4i; n = 1-6; ni = 1-7. In the amount of 2-5% of the film-forming substance.
Description
Изобретение относитс к технологии получени светочувствительного материала на гибкой (пленочной) подложке и может найти применение в химико-фотографической , а также в других отрасл х промышленности .The invention relates to a technology for producing a photosensitive material on a flexible (film) substrate and may find application in chemical-photographic as well as in other industries.
Известны светочувствительные материалы с антистатиком, состо щие из подложки , эмульсионного, защитного и любого дополнительного сло , в которых в качестве антистатика используют четвертичную солв полив инилпиридина, четвертичную соль поливинилпиридина с остатками дпзфиров фосфорной кислоты, метилметакрилат, диэтаноламин и др. Однако эти соединени недостаточно эффективно предохран ют светочувствительный материал от образовани и накоплени статического электричества и не совмещаютс с лаками подсло , а при введении в эмульсионный слой вызывают почернение фотографического сло (вуаль ).Photosensitive materials with an antistatic agent are known, consisting of a substrate, emulsion, protective, and any additional layer, in which a quaternary solv of watering of ynylpyridine, a quaternary salt of polyvinylpyridine with residues of phosphoric acid dsfirs, methyl methacrylate, diethanolamine, etc. are insufficiently effective, however. protect the photosensitive material from the formation and accumulation of static electricity and are not compatible with the lacquers underlayer, but when introduced into the emulsion The black layer causes blackening of the photographic layer (veil).
Цель изобретени - получение светочувствительного материала, свободного от статического электричества на подложке, в эмульсионном и защитном сло х баз ухудшени качества.The purpose of the invention is to obtain a photosensitive material free of static electricity on a substrate in the emulsion and protective layers of deteriorating bases.
Поставленна цель достигаетс добавлением к сло м светочувствительного материала азотнокислых солей имидазолинов общей формулыThe goal is achieved by adding imidazolines of the nitric acid salts of the general formula to the photosensitive material layers
flfl
U/U /
ШгShg
и-сs
V /V /
lCH,CHp)lCH, CHp)
где R-CioH2i-C2oPH4i: .where R-CioH2i-C2oPH4i:.
Азотнокислые соли указанных имидазолинов ввод т в количестве 2-5% (иэ расчета на пленкообразующее вещество) в подслой или прослойку, политук по уже подслоированной подложке, в эмульсионный или в защитный слои.The nitric acid salts of these imidazolines are introduced in an amount of 2-5% (ie calculated on the film-forming substance) into the sublayer or interlayer, the polytuk along the already layered substrate, into the emulsion or protective layers.
Введение различного количества азотнокислых солей имидазолинов снижает поверхностное электрическое сопротивление от 10 до 10°и 10 Ом,The introduction of a different amount of nitric acid salts of imidazolines reduces the surface electrical resistance from 10 to 10 ° and 10 Ohms,
Прим ер. На три рулона (шириной 0,6 м и длиной по 20 м) гибкой подслоированной подложки на эмульсионной поливной машине нанос т (на подслойную сторону) желатиновую прослойку.Note er Three gel coils (0.6 m wide and 20 m long) of a flexible layered substrate are coated with a gelatin layer (on the underlayer side) on an emulsion irrigation machine.
Первый рулон вл етс контрольным и прослойку на него нанос т без добавлени азотнокислых солей имидазолинов.The first roll is a control and a layer is applied thereto without the addition of nitric acid salts of imidazolines.
В прослойки второго и третьего рулонов добавл ют различное количество азотнокислого тетрадецилимидазолина.A different amount of tetradecylimimidazoline nitrate is added to the interlayers of the second and third rolls.
После сушки провер ют поверхностное электрическое сопротивление. Затем на все три образца нанос т светочувствительную эмульсию и одновременно защитный слой.After drying, the surface electrical resistance is checked. Then, a photosensitive emulsion and simultaneously a protective layer are applied to all three samples.
В защитный слой второго рулона ввод т азотнокислый тетрадецилимидазолин.Tetradecylimimidazoline nitrate is introduced into the protective layer of the second roll.
В эмульсионный и защитный слои третьего рулона добавл ют также азотнокислый тетрадецилимидазолин.Tetradecylimidazoline nitrate is also added to the emulsion and protective layers of the third roll.
В эмульсионный и защитный сЛои третьего рулона добавл ют также азотнокислый тетрадецилимидазолин.Tetradecylimimidazoline nitrate is also added to the emulsion and protective layers of the third roll.
После сушки все три образца испытывают на поверхностное электрическое сопротивление по защитному слою.After drying, all three samples are tested for surface electrical resistance through a protective layer.
На этих же образцах испытывают фотохимическую активность азотнокислых солей имидазолинов при термостатном хранении (температура 50°С, относительна влажность .воздуха 50%, срок хранени до 10 сут.).The photochemical activity of imidazoline nitrate salts is tested on the same samples during thermostatic storage (temperature 50 ° C, relative humidity. Air 50%, shelf life up to 10 days).
Изготрвленные рулоны светочувствительного материала провер ют на способность электризоватьс и на наличие 0 дефектов разр дного характера после электризации .The fabricated rolls of photosensitive material are tested for their ability to be electrified and for the presence of 0 discharge defects after electrification.
Способность к электризации провер ютElectrification test
путем пропускани рулонов между двум by passing rolls between two
металлическими валиками, имеющими при5 жимное устройство. Величину полученногоmetal rollers having a clamping device. The amount received
зар да измер ют на приборе ПОЭВП-2.charges are measured on a POEVP-2 instrument.
Искровые дефекты определ ют после химико-фотографической обработки образцов от рулонов без предварительной засветки .Spark defects are determined after chemical photographic processing of samples from rolls without prior exposure.
Испытани провод т по ГОСТ 10691-63.Tests are carried out in accordance with GOST 10691-63.
Результаты испытаний приведены в таблице. The test results are shown in the table.
Как следует из результатов, приведенных в таблице, введение в светочувствительный материал азотнокислых солей имидазолинов не ухудшает его фотографических свойств в процессе хранени и снижает поверхностное электрическое 0 сопротивление до Ом. что полностью исключает возможность накоплени статического электричества.As follows from the results given in the table, the introduction of imidazolines into the photosensitive material does not impair its photographic properties during storage and reduces the surface electrical resistance to Ohms. which completely eliminates the possibility of accumulation of static electricity.
Продолжение таблицыTable continuation
Примечание. S- светочувствительность в единицах ГОСТ; у-коэффициент контрастности; DO-оптическа плотность вуали.Note. S - photosensitivity in units of GOST; y-contrast ratio; DO-optical density of the veil.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU731934017A RU482119C (en) | 1973-06-12 | 1973-06-12 | Photosensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU731934017A RU482119C (en) | 1973-06-12 | 1973-06-12 | Photosensitive material |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU482119C true RU482119C (en) | 1992-11-23 |
Family
ID=20557106
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU731934017A RU482119C (en) | 1973-06-12 | 1973-06-12 | Photosensitive material |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU482119C (en) |
-
1973
- 1973-06-12 RU SU731934017A patent/RU482119C/en active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4701403A (en) | Two-layer process for applying antistatic compositions to polyester supports | |
US4070189A (en) | Silver halide element with an antistatic layer | |
US4089997A (en) | Process of applying antistatic coating compositions to polyester films | |
DE3889475T2 (en) | Silver halide photographic materials and methods for their treatment. | |
US3630740A (en) | Antistatic layers for polymeric photographic supports | |
DE3782963T2 (en) | PHOTOGRAPHIC SILVER HALOGENID MATERIAL WITH ANTISTATIC PROPERTIES. | |
US3811887A (en) | Photographic material comprising bisacylhydrazinium compounds | |
US3552972A (en) | Antistatic layer for photographic materials | |
US3415649A (en) | Process for the production of light-sensitive material containing coating aids | |
US2976148A (en) | Antistatic backing layers for photographic film | |
US2197809A (en) | Photographic process and emulsion utilizing cation-active surface active agents | |
DE1930343A1 (en) | Photographic films | |
US4374924A (en) | Antistatic silver halide photographic light-sensitive material | |
US3843368A (en) | Silver halide photographic light-sensitive element | |
RU482119C (en) | Photosensitive material | |
US3794495A (en) | Prevention of static in light-sensitive photographic materials using bisaminimide compounds | |
EP0514903A1 (en) | Silver halide photographic material | |
JPS60661B2 (en) | photographic material | |
US3811889A (en) | Light-sensitive photographic material with antistatic layer | |
US3062649A (en) | Photographic film with antistatic layer | |
US4126467A (en) | Silver halide photographic materials having improved anti-static properties | |
DE3318128A1 (en) | PHOTOGRAPHIC LIGHT SENSITIVE SILVER HALOGENIDE MATERIAL | |
US3756828A (en) | Es photographic light sensitive material having good antistatic properti | |
US2647836A (en) | Photographic film elements | |
US3876430A (en) | Antistatic photographic material |