RU2816693C1 - Плазменный источник электронов с системой автоматического поджига тлеющего разряда в полом катоде, функционирующий в среднем вакууме - Google Patents

Плазменный источник электронов с системой автоматического поджига тлеющего разряда в полом катоде, функционирующий в среднем вакууме Download PDF

Info

Publication number
RU2816693C1
RU2816693C1 RU2023110248A RU2023110248A RU2816693C1 RU 2816693 C1 RU2816693 C1 RU 2816693C1 RU 2023110248 A RU2023110248 A RU 2023110248A RU 2023110248 A RU2023110248 A RU 2023110248A RU 2816693 C1 RU2816693 C1 RU 2816693C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
hollow cathode
glow discharge
plasma
anode
discharge
Prior art date
Application number
RU2023110248A
Other languages
English (en)
Inventor
Илья Юрьевич Бакеев
Алексей Александрович Зенин
Александр Сергеевич Климов
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники"
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники" filed Critical Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники"
Application granted granted Critical
Publication of RU2816693C1 publication Critical patent/RU2816693C1/ru

Links

Abstract

Изобретение относится к технике получения стационарных (непрерывных) узкосфокусированных пучков электронов в диапазоне давлений среднего вакуума и может быть применено при разработке электронно-лучевых устройств, а также использовано в электронно-лучевой технологии, экспериментальной физике, плазмохимической технологии. Технический результат - обеспечение инициирования и поддержания стабильного горения тлеющего разряда в источнике сфокусированного электронного пучка, функционирующего в среднем вакууме, за счет дополнительно установленного поджигающего электрода, оснащенного системой электропитания с обратной связью. В плазменном источнике, содержащем полый катод, анод и ускоряющий электрод, размещенные соосно на высоковольтных керамических изоляторах, в торце полого катода устанавливают поджигающий электрод, выполненный в виде изолированного металлического стержня, обеспечивающий инициирование и поддержание стабильного горения тлеющего разряда в полом катоде при его самопроизвольном погасании путем подачи поджигающего импульса системой электропитания с обратной связью. 1 ил.

Description

Изобретение относится к технике получения стационарных (непрерывных) узкосфокусированных пучков электронов в диапазоне давлений среднего вакуума и может быть применено при разработке электронно-лучевых устройств, а также использовано в электроннолучевой технологии, экспериментальной физике, плазмохимической технологии.
Известны устройства, предназначенные для генерации электронных пучков путем эмиссии электронов из газоразрядной плазмы [1-2]. Разрядная плазма создается в них при инициировании разряда в газе. Для поддержания разряда между электродами разрядной системы поддерживается напряжение горения. Плазменная эмиссионная граница создается в пределах отверстия, выполняемого в одном из электродов разрядной системы. В электронном источнике с плазменным катодом [2], включающем полый катод, цилиндрический анод, плоский катод-отражатель, расположенный напротив полого катода, фокусирующую систему, эмиссионное отверстие устроено в центре плоского катода-отражателя. Ускоряющее напряжение прикладывается между катодом-отражателем и ускоряющим электродом-экстрактором. Данный источник электронов создает остросфокусированный пучок электронов с энергией 20-40 кэВ при давлении газа в ускоряющем промежутке 1,3×10-3 Па÷1,3×10-2 Па. Инициирование разряда при подаче напряжения между полым катодом и анодом источника обеспечивается перепадом давления в эмиссионном отверстии за счет напуска газа в катодную полость. Недостатком данного устройства является невозможность работы при более высоких давлениях газа. При повышении давления до уровня 1 Па и более указанный источник оказывается неработоспособным из-за возникновения низковольтного разряда между электродами ускоряющего промежутка. Этот разряд вызывает резкое падение напряжения и рост тока нагрузки выпрямителя, питающего ускоряющий промежуток. Указанные эффекты сопровождаются исчезновением пучка.
Процесс инициирования тлеющего разряда в газоразрядном плазменном катоде описан в [3]. Электродная система плазменного катода содержит цилиндрический полый катод с выходной апертурой в форме щели, поджигающий электрод, полый анод и управляющую сетку. Плазменный эмиттер работает следующим образом. После приложения между катодом, поджигающим электродом и анодом напряжения и подачи в катодную полость газа зажигается тлеющий разряд. Использование коаксиальной электродной системы с полым катодом и нитевым поджигающим электродом обеспечивает зажигание разряда при низких давлениях. При подаче напряжения между управляющей сеткой и коллектором пучка осуществляется извлечение электронов и формирование электронного пучка. Недостатком данного устройства является невозможность работы при давлениях среднего вакуума. При повышении давления до уровня 1 Па и более указанный источник оказывается неработоспособным из-за возникновения низковольтного разряда между управляющей сеткой и анодом источника.
Известен плазменный электронный источник [4], содержащий соосные полый катод, анод, ускоряющий электрод, диск из термостойкого неорганического диэлектрика. Эмиссионное отверстие в источнике устанавливают в центре анода и оставляют его не перекрытым диэлектриком, а вокруг эмиссионного отверстия в аноде выполняют окна, перекрытые сеткой с размером ячейки, меньшим радиуса эмиссионного отверстия. Инициирование разряда в полом катоде осуществляется за счет обратного ионного потока, проникающего из ускоряющего промежутка через окна в аноде в разрядную область. Малый размер ячеек сеток, перекрывающих окна, расположенные вокруг эмиссионного отверстия в аноде, существенно снижают электронную эмиссию через эти окна за счет наличия для плазменных электронов потенциального барьера, обусловленного ионным слоем, отделяющим плазму от сетки. Для ионов из ускоряющего промежутка барьер отсутствует, и они беспрепятственно проникают в разрядную область. В связи с указанными обстоятельствами эмиссия электронов из плазмы осуществляется через центральное отверстие в аноде, не перекрытое сеткой. Это позволяет облегчить инициирование разряда в полом катоде и формировать электронный пучок с диаметром в фокальной плоскости не превышающим 1 мм. Недостаток данного технического решения в низком сроке службы сеток перекрывающих окна, расположенные вокруг эмиссионного отверстия в аноде. При формировании электронного пучка в условиях среднего вакуума за счет обратного ионного потока сетки испытывают значительный нагрев и могут разрушаться, что вызывает повышение электронной эмиссии через эти окна и изменение профиля электронного пучка в фокальной плоскости за счет дополнительного потока электронов из окна с разрушенной сеткой.
Наиболее близким к предлагаемому изобретению является плазменный электронный источник [5], содержащий полый катод, анод и ускоряющий электрод, размещенные соосно на керамических изоляторах, один из которых укреплен на фланце. Эмиссионное отверстие в аноде перекрыто мелкоструктурной металлической сеткой. Между анодом и экстрактором установлен керамический диск с отверстием. Указанный источник позволяет получать в форвакууме электронные пучки в отсутствие напуска газа в катодную полость. Инициирование разряда осуществляется за счет обратного ионного потока из ускоряющего промежутка в разрядную область. Существование ионного потока обусловлено слаботочным высоковольтным тлеющим разрядом, имеющим место при подаче напряжения на ускоряющий промежуток в области давлений, соответствующих среднему вакууму.
Техническим результатом заявляемого изобретения является обеспечение инициирования и поддержания стабильного горения тлеющего разряда в плазменном источнике сфокусированного электронного пучка, функционирующего в среднем вакууме, за счет дополнительно установленного поджигающего электрода, оснащенного системой электропитания с обратной связью.
Технический результат достигается тем, что в плазменном источнике непрерывного сфокусированного электронного пучка, основанного на эмиссии электронов из плазмы тлеющего разряда с полым катодом и функционирующего в среднем вакууме, содержащем полый катод, анод и ускоряющий электрод, размещенные соосно на высоковольтных керамических изоляторах, в торце полого катода устанавливают поджигающий электрод в виде изолированного керамической трубкой металлического стержня, предназначенный для инициирования тлеющего разряда с полым катодом путем подачи на поджигающий электрод импульса напряжения системой электропитания с обратной связью, сопровождаемый зажиганием вспомогательного дугового разряда по поверхности диэлектрика, создающего плотную плазму в катодной полости, способствующую установлению горения непрерывного тлеющего разряда с полым катодом по истечении поджигающего импульса.
Сущность предлагаемого технического решения поясняется чертежом фиг. 1 где, 1 - полый катод, 2 - плоский анод, 3 - экстрактор, 4 - керамический диск с отверстием, 5 - поджигающий электрод, 6- керамическая трубка, 7 - система электропитания с обратной связью, 8 -высоковольтные керамические изоляторы
Схема плазменного источника электронов с системой автоматического поджига тлеющего разряда в полом катоде представлена на фиг. 1. Форвакуумный плазменный источник электронов представляет собой трехэлектродную электроразрядную систему: полый катод 1, плоский анод 2 и экстрактор 3, установленные на высоковольтных керамических изоляторах 7. Все электроды изготовлены из нержавеющей стали. Катод 1 содержит цилиндрическую полость диаметром 25 мм и высотой 70 мм. Анод 2 представляет собой диск толщиной 2 мм с одиночным отверстием 1 мм. Керамический диск с отверстием 4 для прохождения пучка размещен между анодом 2 и ускоряющим электродом 3. Полый катод 1 и плоский анод 2 составляют разрядную систему электронного источника.
Новым элементом по сравнению с прототипом является поджигающий электрод 5, расположенный в торце полого катода 1, изолированный керамической трубкой 6 от полого катода 1, и подключенный к системе электропитания с обратной связью 7, обеспечивающей при погасании основного тлеющего разряда в полом катоде автоматическую подачу высоковольтного импульса напряжения на поджигающий электрод 5.
Электропитание плазменного электронного источника осуществляется от источников постоянного напряжения Ud и Ua, подключаемых к разрядному и ускоряющему промежутку соответственно. Для зажигания основного тлеющего разряда между полым катодом 1 и анодом 2 на поджигающий электрод 5 относительно полого катода 1 от системы электропитания с обратной связью 7 подается импульс напряжения Uign амплитудой 10 кВ и длительностью 150 мс, что обеспечивает зажигание вспомогательного дугового разряда по поверхности диэлектрика (керамической трубки 6) между катодом 1 и поджигающим электродом 5. Образующаяся в результате горения вспомогательного дугового разряда по поверхности диэлектрика плазма в катодной полости способствует дальнейшему переключению вспомогательного дугового разряда по поверхности диэлектрика по истечении импульса напряжения с поджигающего электрода 5 на анод 2 и установлению стационарного тлеющего разряда с полым катодом и генерации эмиссионной плазмы. Формирование электронного пучка происходит в промежутке между анодом 2 и ускоряющим электродом 3 при приложении ускоряющего напряжения в диапазоне 1-20 кВ. Давление рабочего газа в полом катоде и ускоряющем промежутке источника составляет 5-30 Па. При погасании основного тлеющего разряда с полым катодом и, соответствующем повышении напряжения на промежутке анод - катод выше 1000 В, система электропитания с обратной связью 7 автоматически подает импульс напряжения на поджигающий электрод 5, тем самым возобновляя горение основного тлеющего разряда с полым катодом.
В таблице 1 представлены результаты реализации предлагаемого технического решения в сравнении с прототипом. Время непрерывной работы отсчитывалось от момента включения электронного источника и до погасания разряда. Всего на каждый режим работы было проведено по пять включений источника. При указании значений непрерывной работы «более…» время непрерывной работы источника превышало все требуемое время выполнения процесса в указанном режиме.
Таблица 1. Сравнение с прототипом
Режим работы источника электронов Среднее время непрерывной работы
Прототип Предлагаемое решение
1 Испарение алюмооксидной керамики, атмосфера кислорода, давление 15 Па 30 минут более 1,5 часов
2 Пучково-плазменная обработка полимеров, атмосфера аргон, давление 10 Па 40 минуты более 1 часа
3 Электронно-лучевая обработка ферритов, атмосфера гелий, давление 30 Па 35 минут более 1,5 часов
4 Сварка металлокерамических узлов, остаточная атмосфера, давление 12 Па 35 минуты более 1,5 часов
Как следует из таблицы 1, среднее время непрерывной работы источника, взятого за прототип, в зависимости от режима работы не превышает 40 минут. В то же время среднее время непрерывной работы предлагаемого изобретения превышает время проведения процесса при различных режимах работы источника.
Таким образом, предлагаемое техническое решение позволяет достичь цели изобретения, а именно - обеспечение инициирования и поддержания стабильного горения разряда в источнике сфокусированного электронного пучка, функционирующего в среднем вакууме.
Литература
[1] а/с СССР №1140641.
[2] а/с СССР №291652.
[3] патент России №2250577.
[4] патент России №2306683.
[5] патент России №2215383.

Claims (1)

  1. Плазменный источник непрерывного сфокусированного электронного пучка, основанный на эмиссии электронов из плазмы тлеющего разряда с полым катодом и функционирующий в среднем вакууме, содержащий полый катод, анод и ускоряющий электрод, размещенные соосно на высоковольтных керамических изоляторах, отличающийся тем, что в торце полого катода установлен поджигающий электрод в виде изолированного металлического стержня, предназначенный для инициирования тлеющего разряда с полым катодом вспомогательным дуговым разрядом между катодом и поджигающим электродом.
RU2023110248A 2023-04-21 Плазменный источник электронов с системой автоматического поджига тлеющего разряда в полом катоде, функционирующий в среднем вакууме RU2816693C1 (ru)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2816693C1 true RU2816693C1 (ru) 2024-04-03

Family

ID=

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4339691A (en) * 1979-10-23 1982-07-13 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Discharge apparatus having hollow cathode
RU2215383C1 (ru) * 2002-02-08 2003-10-27 Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники Плазменный электронный источник
RU2389055C2 (ru) * 2007-08-01 2010-05-10 Анатолий Тимофеевич Неклеса Способ автоматического регулирования режимом работы плазмотрона и установка для его осуществления
CN112682286A (zh) * 2020-12-11 2021-04-20 中国电子科技集团公司第十二研究所 一种高可靠性电推进用空心阴极结构
RU209138U1 (ru) * 2021-05-25 2022-02-02 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники» Форвакуумный плазменный источник импульсного электронного пучка на основе контрагированного дугового разряда

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4339691A (en) * 1979-10-23 1982-07-13 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Discharge apparatus having hollow cathode
RU2215383C1 (ru) * 2002-02-08 2003-10-27 Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники Плазменный электронный источник
RU2389055C2 (ru) * 2007-08-01 2010-05-10 Анатолий Тимофеевич Неклеса Способ автоматического регулирования режимом работы плазмотрона и установка для его осуществления
CN112682286A (zh) * 2020-12-11 2021-04-20 中国电子科技集团公司第十二研究所 一种高可靠性电推进用空心阴极结构
RU209138U1 (ru) * 2021-05-25 2022-02-02 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники» Форвакуумный плазменный источник импульсного электронного пучка на основе контрагированного дугового разряда

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Oks et al. Development of plasma cathode electron guns
JP2821789B2 (ja) 遠隔イオン源プラズマ電子銃
US4714860A (en) Ion beam generating apparatus
US6541915B2 (en) High pressure arc lamp assisted start up device and method
SE8801145L (sv) Jonplasmaelektronkanon med dosrat-styranordning via amplitudmodulering av plasmaurladdningen
RU2816693C1 (ru) Плазменный источник электронов с системой автоматического поджига тлеющего разряда в полом катоде, функционирующий в среднем вакууме
US20050116653A1 (en) Plasma electron-emitting source
RU2313848C1 (ru) Сильноточная электронная пушка
RU2654494C1 (ru) Вакуумный искровой разрядник
RU209138U1 (ru) Форвакуумный плазменный источник импульсного электронного пучка на основе контрагированного дугового разряда
RU2306683C1 (ru) Плазменный электронный источник
RU2215383C1 (ru) Плазменный электронный источник
Kovarik et al. Initiation of hot cathode arc discharges by electron confinement in Penning and magnetron configurations
RU2759425C1 (ru) Плазменный эмиттер импульсного форвакуумного источника электронов на основе дугового разряда
RU2237942C1 (ru) Сильноточная электронная пушка
RU2758497C1 (ru) Ускоряющий промежуток импульсного форвакуумного источника электронов на основе дугового разряда
RU2035789C1 (ru) Способ получения пучка ускоренных частиц в технологической вакуумной камере
Moskvin et al. Plasma source for auxiliary anode plasma generation in the electron source with grid plasma cathode
RU2091991C1 (ru) Вторично-эмиссионный ускоритель электронов
RU2654493C1 (ru) Вакуумный разрядник
RU2777038C1 (ru) Газоразрядная электронно-лучевая пушка
RU222392U1 (ru) Форвакуумный плазменный источник ленточного пучка электронов, функционирующий в широком диапазоне рабочих давлений
Bakeev et al. Hollow Cathode Glow Discharge Initiation in a Fore-Vacuum Plasma–Cathode Electron Source
RU2725788C1 (ru) Устройство для поверхностной обработки металлических и металлокерамических изделий
RU203107U1 (ru) Сильноточная электронная пушка