RU209138U1 - Форвакуумный плазменный источник импульсного электронного пучка на основе контрагированного дугового разряда - Google Patents

Форвакуумный плазменный источник импульсного электронного пучка на основе контрагированного дугового разряда Download PDF

Info

Publication number
RU209138U1
RU209138U1 RU2021114679U RU2021114679U RU209138U1 RU 209138 U1 RU209138 U1 RU 209138U1 RU 2021114679 U RU2021114679 U RU 2021114679U RU 2021114679 U RU2021114679 U RU 2021114679U RU 209138 U1 RU209138 U1 RU 209138U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
cathode
electrode
anode
electron beam
insulator
Prior art date
Application number
RU2021114679U
Other languages
English (en)
Inventor
Андрей Викторович Казаков
Николай Алексеевич Панченко
Алиса Владимировна Никоненко
Original Assignee
федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники»
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники» filed Critical федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники»
Priority to RU2021114679U priority Critical patent/RU209138U1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU209138U1 publication Critical patent/RU209138U1/ru

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J3/00Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps

Landscapes

  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

Полезная модель относится к области плазменной техники и может быть применена в электронно-лучевой технологии, в частности при разработке устройств, предназначенных для генерации импульсных электронных пучков, и технологиях модификации поверхности материалов.Сущность заявляемой полезной модели заключается в том, что в известном форвакуумном источнике импульсного низкоэнергетичного электронного пучка, содержащем цилиндрический катод, заключенный в трубчатый керамический изолятор, поджигающий электрод, размещенный на внешней стороне керамического изолятора, полый цилиндрический анод, размещенный соосно с катодом, сеточный эмиссионный электрод, который электрически отделен от анода изолятором, высоковольтный изолятор, имеющий развитую поверхность внутри ускоряющего промежутка, и сеточный ускоряющий электрод, между катодом и полым анодом установлен электрически изолированный промежуточный плоский электрод, имеющий узкий контрагирующий канал, выполненный соосно с катодом и имеющий оптимальные геометрические параметры, а поступление рабочего газа в катодную область разряда осуществляется через контрагирующий канал из анодной области.Техническое решение обеспечило увеличение электрической прочности ускоряющего промежутка форвакуумного импульсного источника электронов посредством существенного снижения доли паров, микрокапель и ионов материала катода, проникающих в полый анод и приводящих к формированию загрязнений на эмиссионном сеточном электроде, а также практически исключило проникновение материала катода в ускоряющий промежуток и область транспортировки пучка.Полезная модель создана в рамках выполнения гранта Президента Российской Федерации для государственной поддержки молодых российских ученых МК-3621.2021.4 (соглашение № 075-15-2021-070 от 19.04.2021 г.).

Description

Полезная модель относится к области плазменной техники и может быть применена в электронно-лучевой технологии, в частности при разработке устройств, предназначенных для генерации импульсных электронных пучков, и технологиях модификации поверхности материалов.
Известно устройство [патент РФ № 1706329], которое предназначено для генерации импульсного электронного пучка. Конструкция данного устройства включает в себя взрывоэмиссионный катод, пенинговскую ячейку, которая образована кольцевым анодом и сеточными катодами, расположенными по обе стороны от анода, коллектор, вакуумный кожух с вводами и секционированный соленоид, размещенный на кожухе. Магнитное поле, создаваемое соленоидом, используется для зажигания пенинговского разряда и для обеспечения транспортировки электронного пучка (т.е. для предотвращения пинчевания пучка). Анодная плазма, создаваемая пенинговским разрядом, увеличивает первеанс электронного пучка (потока) по сравнению с пучком в вакуумном промежутке, что обеспечивает получение относительно низкоэнергетичного (до десятков кэВ) электронного пучка. Длительность импульса электронного пучка, генерируемого данным устройством, не превышает 1 мкс, а рабочее давление не превышает 0,1 Па, что обусловлено особенностями функционирования взрывоэмиссионного катода и переходом пенинговского разряда из режима тлеющего разряда в дуговой. Превышение этих предельных значений приводит к нестабильности параметров электронного пучка.
Известен форвакуумный импульсный плазменный источник электронов [патент РФ № 107657], который основан на генерации эмиссионной плазмы с помощью импульсного тлеющего разряда с полым катодом, а извлечение и ускорение электронов, формирующих низкоэнергетичный пучок большого радиуса, осуществляется постоянным напряжением (5-15 кВ), прикладываемым к ускоряющему промежутку источника. Данный источник обеспечивает генерацию импульсного электронного пучка с током до десятков ампер и длительностью импульса до 200 мкс в форвакуумном диапазоне давлений 5-10 Па. Однако использование тлеющего разряда с полым катодом в форвакуумном источнике электронов для генерации эмиссионной плазмы приводит к ограничению предельных (максимальных) амплитуды и длительности импульса тока разряда, а, соответственно, предельных тока и длительности импульса электронного пучка, что обусловлено неконтролируемым переходом тлеющего разряда в дуговой разряд с катодным пятном. Такой переход приводит к появлению катодного пятна на поверхности полого катода в произвольном месте, что приводит к шнурованию разряда и локальному повышению плотности эмиссионной плазмы вблизи эмиссионной сетки, стабилизирующей поверхность плазмы, что, в свою очередь, приводит к пробою ускоряющего промежутка, т.е. срыву генерации пучка. Кроме того, для достижения определенного тока и длительности импульса электронного пучка необходима тренировка поверхности полого катода, которая может занимать длительное время (несколько часов).
Наиболее близким аналогом является форвакуумный импульсный источник электронов [Kazakov A.V., Medovnik A.V., Oks E.M., Panchenko N.A. Broad-beam plasma-cathode electron beam source based on a cathodic arc for beam generation over a wide pulse-width range. - Review of Scientific Instruments. - 2020. - V. 91(9). - Art. No. 093304], который основан на генерации эмиссионной плазмы с помощью дугового разряда с катодными пятнами, область функционирования которых искусственно локализована. Конструкция данного форвакуумного источника электронов включает катодный узел, изолятор катодного узла, полый анод, высоковольтный изолятор, который имеет развитую сложную поверхность, ограничивающую развитие пробоя по поверхности диэлектрика и закрывающую эмиссионный электрод от потока обратных ионов, и сеточный ускоряющий электрод (экстрактор). Катодный узел источника состоит из специального токоввода, медного (либо магниевого) цилиндрического катода (диаметр 6 мм), керамического изолятора, который ограничивает рабочую поверхность катода, где функционируют катодные пятна, и поджигающего электрода. Полый анод обеспечивает расширение положительного столба дугового разряда и формирование развитой эмиссионной поверхности, граница которой стабилизируется сеточным эмиссионным электродом. В полом аноде может устанавливаться перераспределяющий электрод с целью увеличения однородности распределения эмиссионной плазмы. Применение дугового разряда с катодными пятнами для генерации эмиссионной плазмы устранило ограничение амплитуды и длительности импульса тока разряда. В совокупности использование дугового разряда и высоковольтного изолятора сложной формы обеспечили генерацию электронного пучка с током до десятков ампер и длительностью импульса до нескольких миллисекунд в диапазоне давлений 3-30 Па. Однако функционирование дугового разряда с катодным пятнами сопровождается формированием паров и потока микрокапель материала катода, при этом сама разрядная плазма содержит ионы материала катода. Эти пары и микрокапли, а также поток ионов материала катода приводят к формированию тонких пленок и локальных загрязнений на поверхности сеточного эмиссионного электрода, а также они могут проникать в ускоряющий промежуток источника и попадать в область транспортировки электронного пучка. В совокупности это приводит к снижению электрической прочности ускоряющего промежутка. Кроме того, нестабильности функционирования катодных пятен могут приводить к нестабильностям параметров электронного пучка.
В плазменном источнике электронов, описанном в [Галанский В.Л., Крейндель Ю.Е., Окс Е.М., Рипп А.Г., Щанин П.М. Эмиссионные свойства анодной плазмы дугового контрагированного разряда низкого давления // Журнал технической физики. - 1987. - Т. 57, № 5. - С. 1518-1521], для устранения негативного влияния функционирования катодных пятен между катодом и анодом разрядной системы установлен промежуточный электрод с узким контрагирующим каналом, который обеспечивает сжатие положительного столба дугового разряда, что экранирует катодную область разряда от области формирования эмиссионной плазмы. В источнике электронов реализован принудительный напуск рабочего газа в катодную область разряда, что необходимо для стабильного инициирования и функционирования дугового разряда, а вследствие перепада давлений, обеспечиваемого каналом контрагирования, в анодной области разряда и ускоряющем промежутке источника давление рабочего газа не превышает 0,1 Па. Конструкция данного плазменного источника электронов не обеспечивает генерацию электронных пучков при давлении рабочего газа более 0,1 Па.
Цель заявляемого технического решения состоит в повышении электрической прочности ускоряющего промежутка плазменного источника электронов, обеспечивающего генерацию импульсного низкоэнергетичного электронного пучка в форвакуумном диапазоне давлений от единиц до десятков Па, а также снижении вероятности попадания паров и микрокапель материала катода в область транспортировки электронного пучка. Поставленная цель достигается тем, что в известном форвакуумном источнике электронного пучка, содержащем цилиндрический катод, заключенный в трубчатый керамический изолятор, поджигающий электрод, полый цилиндрический анод, сеточный эмиссионный электрод, высоковольтный изолятор сложной формы и сеточный ускоряющий электрод, между катодом и полым анодом установлен вспомогательный плоский электрод, имеющий узкий контрагирующий канал, выполненный соосно с катодом и имеющий оптимальные геометрические размеры. Техническим результатом, обеспечиваемым приведенной совокупностью признаков, является увеличение электрической прочности укоряющего промежутка и существенное снижение попадания паров, микрокапель и ионов материала катода в область ускорения и транспортировки электронного пучка.
Сущность заявляемого технического решения поясняется схемой форвакуумного плазменного источника электронов на основе контрагированного дугового разряда, представленной на фиг. 1. Катодный узел форвакуумного плазменного источника состоит из токоввода 1, цилиндрического медного катода 2 (диаметр 6 мм), который заключен в трубчатый керамический изолятор 3, ограничивающий рабочую поверхность катода, и кольцевого поджигающего электрода 4, который размещается на внешней стороне керамического изолятора так, чтобы торцы кольцевого электрода и катода находились в одной плоскости. Катодный узел монтируется в изоляторе 5 специальной формы, обеспечивающей формирование полости в катодной области. Противоположный катодному узлу торец полого цилиндрического анода 6 (внутренний диаметр 114 мм, высота 150 мм) перекрыт мелкоструктурной эмиссионной сеткой (сеточный эмиссионный электрод) 7, которая электрически отделена от анода изолятором 8, что позволяет, подключая полый анод через сопротивление Rha, изменять эффективность извлечения электронов из эмиссионной плазмы. Между катодом 2 и полым анодом 6 установлен промежуточный плоский электрод 9, в котором соосно с катодом выполнен узкий контрагирующий канал. Промежуточный электрод электрически изолирован от других электродов с помощью изоляторов 5 и 10. Сеточный эмиссионный электрод 7 и сеточный ускоряющий электрод (экстрактор) 11 формируют ускоряющий промежуток. Электрическое разделение электродов ускоряющего промежутка 7 и 11 осуществляется высоковольтным изолятором 12, имеющим сложную развитую поверхность. За исключением катода, все электроды источника выполнены из нержавеющей стали, а в качестве материалов для изоляторов используются керамика и капролон. Оптимальные размеры контрагирующего канала, обеспечивающие необходимые рабочие параметры (ток разряда до десятков ампер при длительности импульса до единиц миллисекунд) и увеличение электрической прочности, являются следующими: диаметр канала 3-6 мм; а протяженность канала - 2-3 мм. Основное отличие от прототипа заключается в том, что между катодом и анодом установлен промежуточный электрод, в котором выполнен узкий контрагирующий канал, обеспечивающий экранирование катодной области разряда от анодной области, в которой происходит формирование эмиссионной плазмы.
Форвакуумный плазменный источник импульсного электронного пучка на основе контрагированного дугового разряда работает следующим образом. Генерация импульсного пучка осуществляется сочетанием постоянного напряжения до 10-12 кВ, подаваемого на ускоряющий промежуток источника, и импульсного функционирования контрагированного дугового разряда, формирующего эмиссионную плазму. Источник монтируется на фланце вакуумной камеры 13, при этом источник функционирует в изобарном режиме, т.е. давление в вакуумной камере и источнике одинаковое, а в катодную область разряда рабочий газ попадает через контрагирующий канал. После установки необходимого рабочего давления (5-30 Па) на ускоряющий промежуток источника с помощью высоковольтного блока 14 подается постоянное ускоряющее напряжение Ua до 10-12 кВ. С помощью импульсного блока питания разряда 15 между катодом и анодом, а также между катодом и поджигающим электродом подается импульсное напряжение с амплитудой до 1 кВ. После подачи импульса напряжения происходит пробой по поверхности диэлектрика между катодом и поджигающим электродом, что обеспечивает возникновение первичного катодного пятна на поверхности катода и впоследствии инициирование дугового разряда. После инициирования дуги, поскольку ток через поджигающий электрод ограничен сопротивлением, разряд замыкается на анод, а напряжение между катодом и анодом падает до напряжения горения (40-120 В). Катодные пятна обеспечивают формирование разрядной плазмы в катодной области разряда, а также в процессе их функционирования создаются пары и микрокапли материала катода. Разрядная плазма и побочные продукты функционирования катодных пятен распространяются от катода и достигают промежуточного электрода с контрагирующим каналом. Вблизи контрагирующего канала образуется двойной электростатический слой, который ускоряет и фокусирует электроны, поступающие в контрагирующий канал, а также тормозит и отражает ионы со стороны катодной области. Большая часть микрокапель материала катода попадает на поверхность промежуточного электрода и не проникает в полый анод. Пары материала катода частично ионизуются в катодной области, а образовавшиеся ионы отражаются от двойного электростатического слоя, большая часть оставшихся паров материала катода абсорбируется на поверхности промежуточного электрода, обращенной к катодному узлу. Вследствие торможения и отражения ионов, движущихся от катода, двойным электростатическим слоем и потери ионов на стенках контрагирующего канала, а также ухода ионов из канала в катодную область разряда основное формирование эмиссионной плазмы 16 обеспечивается вследствие ионизации рабочего газа в полом аноде ускоренными в двойном электростатическом слое электронами, выходящими из контрагирующего канала. После того как разрядная плазма заполняет полый анод и достигает эмиссионного сеточного электрода, под действием постоянного ускоряющего напряжения происходит извлечение и ускорение электронов, которые формируют электронный пучок 17. Пучок принимается заземленным коллектором 18. Полезным результатом является увеличение электрической прочности ускоряющего промежутка источника, генерирующего импульсный низкоэнергетичный электронный пучок в форвакуумном диапазоне давлений.
Результаты диагностики эмиссионной плазмы с помощью масс-зарядовой спектрометрии и оптической спектрометрии показали, что при генерации эмиссионной плазмы в форвакуумном источнике электронов с помощью контрагированного дугового разряда доля ионов и возбужденных атомов материала катода в плазме не превышает 5%, тогда как при использовании дугового разряда с «открытыми» катодными пятнами доля материала катода может достигать 90-95%. Результаты, представленные в таблице, иллюстрируют положительный эффект использования заявляемого технического решения, а именно увеличение электрической прочности ускоряющего промежутка форвакуумного источника электронного пучка. Электрическая прочность оценивалась по количеству импульсов электронного пучка, генерируемых без пробоя ускоряющего промежутка, на 1000 импульсов, при этом оценка проводилась после предварительной работы источника (после не менее 5000 импульсов разрядного тока).
Таблица. Среднее количество импульсов электронного пучка, генерируемых без пробоя ускоряющего промежутка на 1000 импульсов (Id - ток разряда; Ua - ускоряющее напряжение, τd - длительность импульса, p - давление газа).
Параметры эксперимента Id = 15 A,
Ua = 10 кВ,
τd = 1000 мкс,
p = 10 Па (Аргон)
Id = 25 A,
Ua = 10 кВ,
τd = 1000 мкс,
p = 10 Па (Аргон)
Id = 35 A,
Ua = 10 кВ,
τd = 1000 мкс,
p = 10 Па (Аргон)
Прототип 623 импульсов 518 импульсов 415 импульсов
Предлагаемое техническое решение 998 импульсов 952 импульсов 873 импульсов

Claims (1)

  1. Форвакуумный плазменный источник импульсного электронного пучка, включающий цилиндрический катод, заключенный в трубчатый керамический изолятор, кольцевой поджигающий электрод, размещенный на внешней стороне керамического изолятора так, чтобы торцы кольцевого электрода и катода находились в одной плоскости, полый цилиндрический анод, размещенный соосно с катодом, сеточный эмиссионный электрод, электрически отделенный от анода изолятором, высоковольтный изолятор, имеющий развитую поверхность, и сеточный ускоряющий электрод, отличающийся тем, что между катодом и полым анодом установлен электрически изолированный промежуточный плоский электрод, имеющий узкий контрагирующий канал, выполненный соосно с катодом, а поступление рабочего газа в катодную область осуществляется через контрагирующий канал из анодной области разряда.
RU2021114679U 2021-05-25 2021-05-25 Форвакуумный плазменный источник импульсного электронного пучка на основе контрагированного дугового разряда RU209138U1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2021114679U RU209138U1 (ru) 2021-05-25 2021-05-25 Форвакуумный плазменный источник импульсного электронного пучка на основе контрагированного дугового разряда

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2021114679U RU209138U1 (ru) 2021-05-25 2021-05-25 Форвакуумный плазменный источник импульсного электронного пучка на основе контрагированного дугового разряда

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU209138U1 true RU209138U1 (ru) 2022-02-02

Family

ID=80215095

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2021114679U RU209138U1 (ru) 2021-05-25 2021-05-25 Форвакуумный плазменный источник импульсного электронного пучка на основе контрагированного дугового разряда

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU209138U1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2816693C1 (ru) * 2023-04-21 2024-04-03 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники" Плазменный источник электронов с системой автоматического поджига тлеющего разряда в полом катоде, функционирующий в среднем вакууме

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2215383C1 (ru) * 2002-02-08 2003-10-27 Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники Плазменный электронный источник
RU107657U1 (ru) * 2011-03-01 2011-08-20 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники (ТУСУР) Форвакуумный плазменный электронный источник
WO2013116787A1 (en) * 2012-02-01 2013-08-08 Muons, Inc. Method and apparatus for lifetime extension of compact surface plasma source (csps)
RU134728U1 (ru) * 2013-06-24 2013-11-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники" Форвакуумный источник импульсного электронного пучка
US20180218875A1 (en) * 2017-02-01 2018-08-02 Fei Company Innovative source assembly for ion beam production

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2215383C1 (ru) * 2002-02-08 2003-10-27 Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники Плазменный электронный источник
RU107657U1 (ru) * 2011-03-01 2011-08-20 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники (ТУСУР) Форвакуумный плазменный электронный источник
WO2013116787A1 (en) * 2012-02-01 2013-08-08 Muons, Inc. Method and apparatus for lifetime extension of compact surface plasma source (csps)
RU134728U1 (ru) * 2013-06-24 2013-11-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники" Форвакуумный источник импульсного электронного пучка
US20180218875A1 (en) * 2017-02-01 2018-08-02 Fei Company Innovative source assembly for ion beam production

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
KAZAKOV A.V., Broad-beam plasma-cathode electron beam source based on a cathodic arc for beam generation over a wide pulse-width range, Review of Scientific Instruments, 2020, V. 91(9). *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2816693C1 (ru) * 2023-04-21 2024-04-03 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники" Плазменный источник электронов с системой автоматического поджига тлеющего разряда в полом катоде, функционирующий в среднем вакууме

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2821789B2 (ja) 遠隔イオン源プラズマ電子銃
Gielkens et al. A long‐pulse 300 keV electron gun with a plasma cathode for high‐pressure gas lasers
Vorobyov et al. Investigation of the stability of the electron source with a multi-aperture plasma emitter generating a large cross-section electron beam
RU209138U1 (ru) Форвакуумный плазменный источник импульсного электронного пучка на основе контрагированного дугового разряда
Pigache et al. Secondary‐emission electron gun for high pressure molecular lasers
Vorob’ev et al. An electron source with a multiarc plasma emitter for obtaining submillisecond pulsed megawatt beams
RU2313848C1 (ru) Сильноточная электронная пушка
Koval et al. The Effect of Gas on the Development of a Vaccum Arc with a Hollow Anode
Bayless Plasma‐cathode electron gun
RU2816693C1 (ru) Плазменный источник электронов с системой автоматического поджига тлеющего разряда в полом катоде, функционирующий в среднем вакууме
JPH0762989B2 (ja) 電子ビ−ム励起イオン源
RU2237942C1 (ru) Сильноточная электронная пушка
RU2759425C1 (ru) Плазменный эмиттер импульсного форвакуумного источника электронов на основе дугового разряда
Vorobyov et al. The multiarc plasma cathode electron source
RU2035790C1 (ru) Полый катод плазменного эмиттера ионов
Gleizer et al. Optimization of a low-pressure hollow-anode electrical discharge for generation of high-current electron beams
Moskvin et al. Plasma source for auxiliary anode plasma generation in the electron source with grid plasma cathode
Nikolaev et al. Production of Multiply Charged Bismuth Ion Beams in a Vacuum Arc Ion Source with a Submicrosecond Pulse Duration
SU908193A1 (ru) Источник ионов
Debolt et al. Recent results from the low inductance Z-discharge metal vapor ion source
Kazakov et al. Parameters of Constricted Arc for the Pulsed Forevacuum Plasma Electron Source
Burdovitsin et al. Plasma Electron Sources
RU2175469C1 (ru) Генератор объемной газоразрядной плазмы
RU2030015C1 (ru) Полый катод плазменного эмиттера ионов
RU2383079C1 (ru) Способ получения электронного пучка и устройство для его осуществления (варианты)