RU2796418C1 - Pumping system with reserve and method for pumping using this pumping system - Google Patents
Pumping system with reserve and method for pumping using this pumping system Download PDFInfo
- Publication number
- RU2796418C1 RU2796418C1 RU2022117911A RU2022117911A RU2796418C1 RU 2796418 C1 RU2796418 C1 RU 2796418C1 RU 2022117911 A RU2022117911 A RU 2022117911A RU 2022117911 A RU2022117911 A RU 2022117911A RU 2796418 C1 RU2796418 C1 RU 2796418C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- pump
- pumping
- roots
- subsystem
- valve
- Prior art date
Links
Images
Abstract
Description
ОБЛАСТЬ ТЕХНИКИ, К КОТОРОЙ ОТНОСИТСЯ ИЗОБРЕТЕНИЕFIELD OF TECHNOLOGY TO WHICH THE INVENTION RELATES
Настоящее изобретение относится к области вакуумной технологии. Точнее говоря, настоящее изобретение относится к насосной системе с резервом, содержащей по меньшей мере один основной насос Рутса и параллельно установленные две насосные подсистемы. Настоящее изобретение относится также к способу перекачивания посредством этой насосной системы. The present invention relates to the field of vacuum technology. More specifically, the present invention relates to a redundant pumping system comprising at least one main Roots pump and two pumping subsystems installed in parallel. The present invention also relates to a method for pumping through this pumping system.
УРОВЕНЬ ТЕХНИКИBACKGROUND OF THE INVENTION
Вакуумные насосные системы являются устройствами, необходимыми во многих областях промышленности, например, в пищевой и фармацевтической промышленности в процессах лиофилизации, дистилляции, упаковки и кристаллизации, и, в частности, также в полупроводниковой промышленности. Vacuum pump systems are indispensable devices in many areas of industry, for example in the food and pharmaceutical industry in the processes of lyophilization, distillation, packaging and crystallization, and in particular also in the semiconductor industry.
Для достижения производственных процессов всегда более высокого качества в полупроводниковой промышленности, существенно, что производственные процессы осуществляются в хорошо управляемых атмосферах. Вакуумные насосы позволяют вакуумировать камеры обработки и обеспечивать чистую среду низкого давления, необходимую для многих процессов, а также удалять неиспользуемый технологический газ и побочные продукты. Процесс производства полупроводниковых устройств часто предусматривает последовательное нанесение и шаблонирование множественных слоев. Многие из этих этапов процесса требуют условия вакуума в камере обработки для предотвращения влияния и загрязнения молекулами газа, присутствующими в воздухе. Несколько этапов процесса производства полупроводниковых устройств обычно осуществляются в камере обработки, например, вакуумной печи, где пластины обрабатываются, например, путем химического осаждения из паровой фазы или химического парового травления. Все эти процессы требуют низкого фонового давления во избежание загрязнения в основном водным паром, а также способности подачи внутрь камеры обработки технологический газ. Этот технологический газ должен подаваться в камеру обработки с точным расходом, обычно высоким. Таким образом, насосные системы для вакуумирования и поддержания заранее определенного давления технологических газов в камерах обработки полупроводников должны быть способны вакуумировать камеру обработки до низкого конечного давления, обычно, по меньшей мере 10-2 мбар, и справляться с высоким расходом, порядка нескольких десятков тысяч литров в минуту. С этой целью, насос Рутса, также именуемый форвакуумным насосом, и безмасляный откачивающий насос обычно объединяются. Насос Рутса позволяет работать при высоком расходе, и откачивающий насос, благодаря своей высокой степени сжатия, позволяет достичь достаточно низкого конечного давления. To achieve consistently higher quality manufacturing processes in the semiconductor industry, it is essential that manufacturing processes are carried out in well-controlled atmospheres. Vacuum pumps can evacuate process chambers and provide the clean, low pressure environment needed for many processes, as well as remove unused process gas and by-products. The manufacturing process for semiconductor devices often involves the sequential deposition and patterning of multiple layers. Many of these process steps require vacuum conditions in the processing chamber to prevent influence and contamination from gas molecules present in the air. Several steps in the manufacturing process for semiconductor devices are typically carried out in a processing chamber, such as a vacuum furnace, where the wafers are processed, for example, by chemical vapor deposition or chemical vapor etching. All of these processes require a low background pressure to avoid contamination mainly by water vapor, as well as the ability to feed process gas into the treatment chamber. This process gas must be supplied to the treatment chamber at a precise flow rate, usually high. Thus, pumping systems for evacuating and maintaining a predetermined pressure of process gases in semiconductor processing chambers must be able to evacuate the processing chamber to a low final pressure, typically at least 10 -2 mbar, and cope with high flow rates, in the order of several tens of thousands of liters. in a minute. For this purpose, a Roots pump, also referred to as a foreline pump, and an oil-free recovery pump are usually combined. The Roots pump allows operation at high flow rates and the suction pump, thanks to its high compression ratio, allows a sufficiently low final pressure to be achieved.
В настоящее время, в полупроводниковой промышленности, сотни или даже тысячи пластин одновременно обрабатываются в одной камере обработки. Отказ насосной системы в ходе процесса производства таким образом может приводить к повреждениям пластин и, следовательно, к значительным финансовым потерям. Во избежание таких последствий отказ насосной системы, известна насосная система с резервом, которая обычно обеспечивается. Целью резервной системы является гарантирование, что в случае отказа насоса, поддерживающего условия процесса в камере обработки, второй насос может перенимать его функции для предотвращения слишком важных изменений в условиях процесса и в итоге повреждений пластин. Nowadays, in the semiconductor industry, hundreds or even thousands of wafers are simultaneously processed in a single processing chamber. The failure of the pumping system during the production process in this way can lead to damage to the plates and, consequently, to significant financial losses. In order to avoid such consequences of failure of the pumping system, a redundant pumping system is known, which is usually provided. The purpose of the redundant system is to ensure that in the event of a failure of the pump maintaining the process conditions in the processing chamber, a second pump can take over its functions to prevent too important changes in process conditions and resulting plate damage.
Несколько насосных систем с резервом, в частности, в области полупроводниковой промышленности, известны из уровня техники. В первой известной насосной системе с резервом, схематически проиллюстрированные на фиг. 1, две насосные подсистемы установлены параллельно. Каждый из двух подсистем содержит насос Рутса и нагнетательный насос, в качестве откачивающего насоса для форвакуумного насоса. Для каждой насосной подсистемы клапан располагается на канале, соединяющей насосы Рутса и камеру обработки. Насосные подсистемы выполнены таким образом, что каждая из подсистем может вакуумировать только камеру обработки при желаемом расходе. Это означает, что в ходе нормальной работы, всегда действуют две подсистемы, но открыт только один клапан. В случае отказа насосной подсистемы с открытым клапаном, этот клапан закрывается, и клапан другой насосной подсистемы открывается, чтобы вторая подсистема могла действовать вместо первой. Several pumping systems with a reserve, in particular in the field of the semiconductor industry, are known from the prior art. In the first known redundant pumping system, schematically illustrated in FIG. 1, two pumping subsystems are installed in parallel. Each of the two subsystems contains a Roots pump and a pressure pump, as a back pump for the foreline pump. For each pumping subsystem, a valve is located on the channel connecting the Roots pumps and the treatment chamber. The pumping subsystems are designed in such a way that each of the subsystems can only evacuate the treatment chamber at the desired flow rate. This means that during normal operation, two subsystems are always active, but only one valve is open. In the event of a failure of a pumping subsystem with an open valve, that valve closes and the valve of the other pumping subsystem opens to allow the second subsystem to take over from the first.
Однако такого рода системы с резервом обладают рядом недостатков. Когда происходит отказ, наблюдаются сильные колебания давления и загрязнение камеры обработки. Это обычно приводит к тяжелым повреждениям пластин, присутствующих в камере обработки и к существенным финансовым потерям. However, these types of redundant systems have a number of disadvantages. When a failure occurs, large pressure fluctuations and contamination of the processing chamber are observed. This usually results in severe damage to the plates present in the processing chamber and significant financial losses.
Вторая известная насосная система с резервом, используемая в полупроводниковой промышленности, проиллюстрированная на фиг. 2, содержит насос Рутса, соединенный с камерой обработки, и параллельно установленные два нагнетательных насоса. Эти два нагнетательных насоса отделены от насоса Рутса двумя клапанами. В ходе нормальной работы, открыт только один из двух клапанов, и только один из нагнетательных насосов действует в качестве откачивающего насоса для насоса Рутса. В случае отказа этого откачивающего насоса, соответствующий клапан закрывается, и другой клапан открывается, что позволяет второму нагнетательному насосу действовать в качестве откачивающего насоса для насоса Рутса. The second known standby pumping system used in the semiconductor industry, illustrated in FIG. 2 comprises a Roots pump connected to the treatment chamber and two pressure pumps installed in parallel. These two pressure pumps are separated from the Roots pump by two valves. During normal operation, only one of the two valves is open and only one of the charge pumps acts as a bleed pump for the Roots pump. In the event of failure of this bleed pump, the corresponding valve closes and another valve opens, allowing the second booster pump to act as a bleed pump for the Roots pump.
Эта вторая известная насосная система с резервом улучшенные характеристики по сравнению с вышеупомянутой первой известной насосной системой с резервом в отношении загрязнений при отказе нагнетательного насоса. Однако в случае отказа насос Рутса системы происходят очень серьезные повреждения пластин в камере обработки.This second known reserve pumping system has improved performance compared to the aforementioned first known reserve pumping system against contaminants in the event of a pressure pump failure. However, if the Roots pump system fails, very serious damage to the plates in the processing chamber occurs.
Таким образом, целью настоящего изобретения является предложение новой насосной системы с резервом и соответствующего способа перекачивания, благодаря которым условия давления в камере обработки могут поддерживаться постоянными, даже при отказе одного из насосов системы. Таким образом, задача настоящего изобретения состоит в том, чтобы предложить новую насосную систему с резервом и соответствующий способ перекачивания, позволяющие полностью преодолеть или по меньшей мере значительно уменьшить вышеописанные недостатки известных систем. Thus, the aim of the present invention is to propose a new pumping system with a reserve and a corresponding method of pumping, thanks to which the pressure conditions in the treatment chamber can be maintained constant, even if one of the pumps of the system fails. Thus, the object of the present invention is to propose a new pumping system with a reserve and a corresponding method of pumping, allowing to completely overcome or at least significantly reduce the above-described disadvantages of the known systems.
СУЩНОСТЬ ИЗОБРЕТЕНИЯSUMMARY OF THE INVENTION
Согласно настоящему изобретению, эти задачи решаются в частности посредством элементов двух независимых пунктов формулы изобретения. Более преимущественные варианты осуществления следуют из зависимых пунктов формулы изобретения и описания. According to the present invention, these tasks are solved in particular by means of the elements of two independent claims. More advantageous embodiments follow from the dependent claims and the description.
В частности, задачи настоящего изобретения решаются в первом аспекте вакуумной насосной системой с резервом, содержащей основной насос Рутса, имеющий впускное отверстие для всасывания газа, соединенное с камерой обработки и выпускное отверстие для выброса газа, соединенное с первой насосной подсистемой и второй насосной подсистемой, причем первая насосная подсистема и вторая насосная подсистема предусмотрены для параллельного перекачивания газа, откачанного основным насосом Рутса, причем первая насосная подсистема содержит первый вспомогательный насос Рутса, первый нагнетательный насос и первый клапан, расположенный между выпускным отверстием для выброса газа основного насоса Рутса и впускным отверстием для всасывания газа первого вспомогательного насоса Рутса, и вторая насосная подсистема содержит второй вспомогательный насос Рутса, второй нагнетательный насос и второй клапан, расположенный между выпускным отверстием для выброса газа основного насоса Рутса и впускным отверстием для всасывания газа второго вспомогательного насоса Рутса, причем первая насосная подсистема и вторая насосная подсистема выполнены с возможностью перекачивания с одним и тем же расходом, и основной насос Рутса выполнен с возможностью перекачивания с расходом F, равным расходу перекачивания основной насосной подсистемы плюс расход перекачивания вспомогательной насосной подсистемы.In particular, the objects of the present invention are solved in a first aspect by a standby vacuum pumping system comprising a main Roots pump having a gas suction inlet connected to a processing chamber and a gas ejection outlet connected to a first pumping subsystem and a second pumping subsystem, wherein the first pumping subsystem and the second pumping subsystem are provided for parallel pumping of gas pumped out by the main Roots pump, wherein the first pumping subsystem comprises the first auxiliary Roots pump, the first pressure pump and the first valve located between the outlet for gas ejection of the main Roots pump and the inlet for suction gas of the first auxiliary Roots pump, and the second pumping subsystem comprises a second auxiliary Roots pump, a second injection pump and a second valve located between the outlet for gas ejection of the main Roots pump and the inlet for gas suction of the second auxiliary Roots pump, the first pumping subsystem and the second the pumping subsystem is configured to pump at the same flow rate, and the main Roots pump is configured to pump at a flow rate F equal to the pumping flow rate of the main pumping subsystem plus the pumping flow rate of the auxiliary pumping subsystem.
Благодаря такой вакуумной насосной системой с резервом, можно гарантировать, что уровень давления в камере обработки может поддерживаться постоянным даже в случае отказа одного из насосов системы. Это, в частности, позволяет избегать колебаний давления или загрязнений камеры обработки в случае отказа. Поскольку основной насос Рутса способен работать при расходе перекачивания, равном суммарному расходу двух насосных подсистем, основной насос Рутса может, в случае отказа одной из подсистем, сжимать газы, откачанные из камеры обработки, в достаточной степени, чтобы условия перекачивания для все еще действующей подсистемы не изменялись. В случае отказа основного насоса Рутса, газ может перекачиваться только подсистемами. Насосная система с резервом согласно настоящему изобретению позволяет преодолевать недостатки систем, известных из уровня техники. Thanks to this redundant vacuum pumping system, it can be ensured that the pressure level in the treatment chamber can be kept constant even if one of the system's pumps fails. This in particular avoids pressure fluctuations or contamination of the treatment chamber in the event of a failure. Since the main Roots pump is capable of operating at a pumping rate equal to the total flow of the two pumping subsystems, the main Roots pump can, in the event of a failure of one of the subsystems, compress the gases pumped out of the treatment chamber sufficiently so that the pumping conditions for the still operating subsystem are not changed. In the event of failure of the main Roots pump, gas can only be pumped by the subsystems. The redundant pumping system of the present invention overcomes the shortcomings of prior art systems.
В предпочтительных вариантах осуществления настоящего изобретения, первый нагнетательный насос и/или второй нагнетательный насос прямого вытеснения выбираются из группы, состоящей из безмасляного винтового насоса, безмасляного кулачково-зубчатого насоса, спирального насоса и диафрагменного насоса.In preferred embodiments of the present invention, the first positive displacement pump and/or the second positive displacement pump are selected from the group consisting of an oil-free screw pump, an oil-free cam pump, a volute pump, and a diaphragm pump.
В дополнительном предпочтительном варианте осуществления настоящего изобретения, вакуумная насосная система с резервом содержит перепускной канал с третьим клапаном, установленным параллельно основному насосу Рутса. Благодаря перепускному каналу и третьему клапану, можно откачивать газ из камеры обработки, даже если основной насос Рутса становится препятствием перекачивания вследствие отказа. In a further preferred embodiment of the present invention, the reserve vacuum pumping system comprises a bypass with a third valve installed in parallel with the main Roots pump. Thanks to the bypass and the third valve, gas can be pumped out of the treatment chamber even if the main Roots pump becomes a pumping obstacle due to failure.
В другом предпочтительном варианте осуществления настоящего изобретения, первый нагнетательный насос и второй нагнетательный насос соединены с установками обработки отбросных газов, преимущественно газоочистителями. Это позволяет возвращать в оборот технологические газы и обрабатывать побочные продукты, откачанные из камеры обработки. In another preferred embodiment of the present invention, the first booster pump and the second booster pump are connected to waste gas treatment plants, preferably scrubbers. This allows the process gases to be recycled and the by-products pumped out of the processing chamber to be treated.
В еще одном предпочтительном варианте осуществления настоящего изобретения, расход перекачивания основных насосов Рутса составляет от 5000 л/мин до 100000 л/мин, преимущественно от 10000 л/мин до 70000 л/мин, предпочтительно от 25000 л/мин до 55000 л/мин. Таким образом, вакуумную насосную систему с резервом настоящего изобретения можно реализовать в существующих производственных линий, в особенности в полупроводниковой промышленности. In another preferred embodiment of the present invention, the pumping flow of the main Roots pumps is from 5000 l/min to 100000 l/min, preferably from 10000 l/min to 70000 l/min, preferably from 25000 l/min to 55000 l/min. Thus, the reserve vacuum pumping system of the present invention can be implemented in existing production lines, especially in the semiconductor industry.
В дополнительном предпочтительном варианте осуществления настоящего изобретения, вакуумная насосная система с резервом содержит средство обнаружения отказа для обнаружения отказа любого из основного насоса Рутса, первого вспомогательного насоса Рутса, второго вспомогательного насоса Рутса, первого нагнетательного насоса или второго нагнетательного насоса. Благодаря этому средству обнаружения отказа, можно быстро обнаруживать любой отказ и при необходимости затем переключать клапан. In a further preferred embodiment of the present invention, the redundant vacuum pumping system comprises a failure detection means for detecting a failure of any of the main Roots pump, the first auxiliary Roots pump, the second auxiliary Roots pump, the first booster pump, or the second booster pump. With this failure detection facility, any failure can be quickly detected and the valve can then be switched if necessary.
В дополнительном предпочтительном варианте осуществления настоящего изобретения, средство обнаружения отказа выполнены с возможностью приводить в действие первый клапан, второй клапан и/или третий клапан в случае обнаружения отказа. Это особенно преимущественно, поскольку в случае обнаружения отказа нужный клапан может автоматически приводиться в действие средством обнаружения отказа.In a further preferred embodiment of the present invention, the failure detection means are configured to actuate the first valve, the second valve and/or the third valve in the event of a failure being detected. This is particularly advantageous since, in the event of a failure being detected, the desired valve can be automatically actuated by the failure detection means.
Во втором аспекте, задачи настоящего изобретения решаются способом перекачивания посредством вакуумной насосной системы с резервом согласно настоящему изобретению, причем основной насос Рутса приводится в действие все время при номинальном расходе, равном сумме расхода первой насосной подсистемы и расхода второй насосной подсистемы. Этот способ перекачивания позволяет гарантировать, что даже в случае отказа любого из насосов вакуумной насосной системы с резервом, в камере обработки может поддерживаться постоянный уровень давления и можно избежать повреждений пластины. In a second aspect, the objects of the present invention are solved by the method of pumping by means of a vacuum pumping system with a reserve according to the present invention, and the main Roots pump is driven at all times at a nominal flow equal to the sum of the flow of the first pumping subsystem and the flow of the second pumping subsystem. This pumping method ensures that even in the event of failure of any of the pumps in the standby vacuum pumping system, a constant pressure level can be maintained in the treatment chamber and damage to the plate can be avoided.
В первом предпочтительном варианте осуществления второго аспекта настоящего изобретения, насосная система содержит перепускной канал с третьим клапаном причем третий клапан переключается в открытое положение, при обнаружении отказа основного насоса Рутса средством обнаружения отказа. Благодаря этому газ, который нужно откачивать из камеры обработки, может откачиваться через перепускной канал в случае отказа основного насоса Рутса вакуумной насосной системы с резервом. In a first preferred embodiment of the second aspect of the present invention, the pumping system comprises a bypass with a third valve, wherein the third valve switches to an open position when a failure of the main Roots pump is detected by the failure detection means. This allows the gas to be pumped out of the treatment chamber to be pumped out through the bypass in the event of failure of the main Roots pump of the redundant vacuum pumping system.
В другом предпочтительном варианте осуществления второго аспекта настоящего изобретения, средство обнаружения отказа закрывает первый клапан при обнаружении отказа первого вспомогательного насоса Рутса или первого нагнетательного насоса. Таким образом, первый клапан может автоматически закрываться в случае отказа любого из насосов первой насосной подсистемы. In another preferred embodiment of the second aspect of the present invention, the failure detection means closes the first valve upon detecting a failure of the first auxiliary Roots pump or the first booster pump. Thus, the first valve can automatically close in the event of a failure of any of the pumps of the first pumping subsystem.
В еще одном предпочтительном варианте осуществления второго аспекта настоящего изобретения, средство обнаружения отказа закрывает второй клапан при обнаружении отказа второго вспомогательного насоса Рутса или второго нагнетательного насоса. Таким образом, второй клапан может автоматически закрываться в случае отказа любого из насосов второй насосной подсистемы. In yet another preferred embodiment of the second aspect of the present invention, the failure detection means closes the second valve upon detecting a failure of the second auxiliary Roots pump or the second booster pump. Thus, the second valve can be automatically closed in the event of failure of any of the pumps of the second pumping subsystem.
КРАТКОЕ ОПИСАНИЕ ЧЕРТЕЖЕЙBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
Конкретные варианты осуществления и преимущества настоящего изобретения явствуют из прилагаемых чертежей, где: Specific embodiments and advantages of the present invention are apparent from the accompanying drawings, where:
фиг. 1 - схема первой насосной системы с резервом, известной из уровня техники;fig. 1 is a diagram of a first pumping system with a reserve, known from the prior art;
фиг. 2 - схема второй насосной системы с резервом, известной из уровня техники; иfig. 2 is a diagram of a second pumping system with a reserve, known from the prior art; And
фиг. 3 - схема предпочтительного варианта осуществления насосной системы с резервом согласно настоящему изобретению.fig. 3 is a diagram of a preferred embodiment of a redundant pumping system according to the present invention.
ПОДРОБНОЕ ОПИСАНИЕ ПРЕДПОЧТИТЕЛЬНОГО ВАРИАНТА ОСУЩЕСТВЛЕНИЯDETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT
Фиг. 1 схематически иллюстрирует первую насосную систему 100 с резервом, известную из уровня техники. Известная насосная система 100 с резервом содержит две насосные подсистемы 110 и 120, установленные параллельно для перекачивания из камеры 101 обработки. Как упомянуто выше, насосные системы с резервом обеспечиваются в ситуации, когда нужно быть абсолютно уверенным в том, что уровень давления в камере 101 поддерживается все время в ходе определенных производственных процессов, в особенности в полупроводниковой промышленности.Fig. 1 schematically illustrates a first
Насосная система 100 должна быть выполнена с возможностью не только достижения заранее определенного конечного давления, но и работы при большом расходе F газов. Это особенно важно в случае применения процессов химического парового травления или химического осаждения из паровой фазы. Эти процессы требуют, чтобы технологические газы поступали в камеру 101 с постоянным расходом, эти газы и остатки процессов, должны откачиваться насосной системой 100. Для достижения достаточно низкого конечного давления и обеспечения возможности перекачивания газов с большим расходом, известные насосные системы, обычно используемые в полупроводниковой промышленности, используют комбинацию нагнетательного насоса, преимущественно, безмасляного винтового насоса, и насоса Рутса, известного также как форвакуумный насос. Благодаря безмасляному винтовому насосу с его высокой степенью сжатия, может достигаться низкое конечное давление, тогда так насос Рутса позволяет эффективно обеспечивать очень большой расход газов. The
Согласно фиг. 1, каждая из двух насосных подсистем 110, 120 содержит, таким образом, насос 111, 121 Рутса и безмасляный винтовой насос 112, 122. Как упомянуто выше, две подсистемы установлены параллельно и соединенны с камерой 101 обработки посредством двух клапанов 113, 123. Насосная система 100 является резервной в том смысле, что, в ходе нормальной работы, клапан 113 открыт, и клапан 123 закрыт. Таким образом, расход F газов, откачиваемых из камеры 101 обработки в ходе нормальной работы, обеспечивается только подсистемой 110. Только в случае отказа любого насоса этой подсистемы, клапан 113 закрывается, и клапан 123 открывается, благодаря чему камера 101 вакуумируется только подсистемой 120. According to FIG. 1, each of the two
Однако насосная система с резервом, наподобие системы 100, показанной на фиг. 1, имеет много недостатков. Во-первых, она страдает сильными колебаниями давления, когда система должна переключаться от подсистемы 110 к подсистеме 120. Эти колебания давления приводит к загрязнению в камере 101 обработки, неприемлемому во многих применениях. Кроме того, в течение определенного времени после обнаружения отказа подсистемы 110, давление в камере 101 обработки будет расти, приводя в итоге к повреждению пластины, оставшейся в камере 101. Наконец, поскольку в ходе нормальной работы насосы 121 и 122 подсистемы 120 действуют все время, давление между впускным отверстием насоса Рутса 121 и клапаном 123 остается равным конечному давлению подсистемы 120. Это означает, что, когда клапан 123 внезапно открывается в порядке реакции на обнаружение отказа подсистемы 110, давление в камере обработки изменяется. Такие изменения давление не позволяют гарантировать высококачественные условия процесса в камере обработки.However, a redundant pumping system like
Фиг. 2 схематически иллюстрирует вторую насосную систему 200 с резервом, известную из уровня техники. Система 200 отличается от системы 100 тем, что каждая из двух насосных подсистем 210, 220 содержит только нагнетательный насос 212, 222, например, безмасляный винтовой насос. Чтобы работать с высоким расходом F газа, система 200 содержит насос 202 Рутса, “взаимный” к обеим подсистемам 210 и 220. В ходе нормальной работы, клапан 213 открыт, и клапан 223 закрыт. Таким образом, полный расход F газа обеспечивается только насосом 202 Рутса и безмасляным винтовым насосом 212. В случае отказа безмасляного винтового насоса 212, клапан 213 закрывается, и клапан 223 открывается, благодаря чему, газ может откачиваться с расходом F комбинацией насоса 202 Рутса и безмасляного винтового насоса 222. Fig. 2 schematically illustrates a second
Хотя система 200 с резервом, по сравнению с системой 100 с резервом, обладает улучшенными характеристиками в отношении способности поддерживать постоянное давление в камере 201 обработки в случае отказа безмасляного винтового насоса 212, ее основной недостаток состоит в том, что отказ насоса 202 Рутса приводит к неприемлемому и постоянному росту давления в камере 201 обработки. Although the
фиг. 3 схематически иллюстрирует насосную систему 300 с резервом согласно предпочтительному варианту осуществления настоящего изобретения. Насосная система 300 содержит основной насос 302 Рутса, соединенный с камерой 301 обработки, и две насосные подсистемы 310 и 320, каждая из которых содержит вспомогательный насос 311 Рутса, соответственно 321, и нагнетательной насос 312, соответственно 322 прямого вытеснения, например, безмасляные винтовые насосы. В ходе нормальной работы, клапан 313 и клапан 323 всегда открыты, половина расхода F газа, откачанного из камеры 301 обработки, перекачивается подсистемой 310, и другая половина перекачивается подсистемой 320. Для правильного осуществления этого изобретения существенно, чтобы основной насос 302 Рутса мог работать на скорости перекачивания, равной суммарной скорости перекачивания подсистем 310 и 320. Другими словами, в ходе нормальной работы, основной насос 302 Рутса не участвует в перекачивающем действии, и давление P1 на его впускном отверстии 302a равно давлению P2 на его выпускном отверстии 302b, т.е. степень сжатия основного насоса 302 Рутса при нормальной работе равна 1. Этого можно добиться с помощью основного насоса Рутса, скорость перекачивания которого может адаптироваться или с помощью основного насоса Рутса, максимальная скорость перекачивания которого равна скорости перекачивания подсистем 310 и 320.fig. 3 schematically illustrates a
Основополагающую идею настоящего изобретения можно лучше объяснить на конкретном примере осуществления. В этом примере, предположим, что расход F газа, который требуется откачать из камеры обработки, равен 20000 л/мин. Как упомянуто выше, насосная система 300 с резервом, отвечающая изобретению, выполнен так, что основной насос 302 Рутса может работать со скоростью перекачивания, равной F и таким образом, что каждая подсистема 310 и 320 имеет скорость перекачивания, равную F/2, в этом примере равную 10000 л/мин. Поскольку расходы на входе и выходе существующего основного насоса 302 Рутса равны, степень сжатия основного насоса 302 Рутса в ходе нормальной работы Knormal равна 1. The underlying idea of the present invention can be better explained with a specific embodiment. In this example, let's assume that the flow rate F of the gas to be pumped out of the treatment chamber is 20,000 l/min. As mentioned above, the
это означает, что в ходе нормальной работы, характеристики насосной системы 300 в отношении скорости перекачивания и конечного давления такие же, как если бы основной насос 302 Рутса отсутствовал, был отключен или был неисправен (при условии, что он не представляет препятствия для вакуумирования). В ходе нормальной работы, конечное давление полной системы 300 задается конечным давлением каждой из подсистем 310, соответственно 320, деленным на K0, степенью сжатия при нулевом расходе и при давлении на его выпускном отверстии. Обычно, подсистемы 310, соответственно, 320, имеют конечное давление порядка 0,1 мбар. Основные насосы Рутса имеют в этом диапазоне давления степень сжатия K0 порядка 50. Поэтому конечное давление всей системы 300 составляет порядка 2*10-4 мбар. this means that during normal operation,
В случае отказа подсистемы 320, клапан 323 будет закрываться, и полный расход F будет обеспечиваться комбинацией основного насоса 302 Рутса и подсистемы 310. Поскольку расход подсистемы 310 фиксирован и равен F/2, основной насос 302 Рутса должен сжимать газ, откачанный из камеры обработки с коэффициентом 2. Это происходит автоматически, как только расход за пределами основных насосов 302 Рутса падает от F до F/2 вследствие отказа подсистемы 320. Естественно, давление P3 на впускном отверстии подсистемы 311a становится два раза выше, чем в ходе нормальной работы, но поскольку основной насос 302 Рутса теперь участвует в перекачивающем действии путем сжатия газа, откачанного из камеры 301 обработки, с коэффициентом 2, отказ подсистемы 320 не влияет на конечное давление, а также скорость перекачивания, и давление в камере обработки может поддерживаться постоянным даже в этом случае. In the event of failure of
Кроме того, как упомянуто выше, отказ основного насоса 302 Рутса, вовсе не влияет на характеристики системы 300 при условии, что две подсистемы 310 и 320 работают нормально. Поскольку чрезвычайно маловероятно, что основной насос 302 Рутса и одна из подсистем 310 или 320 одновременно выйдут из строя, насосная система 300 с резервом согласно настоящему изобретению позволяет преодолевать недостатки систем с резервом, известную из уровня техники. In addition, as mentioned above, the failure of the main Roots pump 302 does not affect the performance of the
Кроме того, в насосной системе 300 можно дополнительно обеспечить перепускной канал 303 с клапаном 304. Дополнительный перепускной канал 303 позволяет вакуумировать камеру 301 обработки с помощью двух подсистем 310 и 320 и поддерживать постоянное давление в камере 301, даже если основной насос 302 Рутса становится сопротивлением перекачиванию вследствие отказа. В таком случае, поток F отклоняется перепускным каналом 304 и направляться в двух подсистемах 310 и 320. In addition, a
Кроме того, предпочтительно соединять выпускное отверстие для выброса газа обоих нагнетательных насосов 312 и 322 с по меньшей мере одной установкой обработки отработанных газов, преимущественно газоочистителями. In addition, it is preferable to connect the gas discharge outlet of both pressure pumps 312 and 322 to at least one exhaust gas treatment unit, preferably scrubbers.
Наконец, следует указать, что выше изложен один подходящий неограничительный вариант осуществления. Специалисты в данной области техники могут предложить модификации раскрытого неограничительного варианта осуществления, не выходящие за рамки его сущности и объема. Таким образом, описанный неограничительный вариант осуществления следует считать лишь иллюстрацией некоторых из более заметных признаков и применений. Другие полезные результаты можно получить путем применения неограничительных вариантов осуществления другим способом или их изменения способами, известными специалистами в данной области техники.Finally, it should be pointed out that one suitable non-limiting embodiment has been set forth above. Those skilled in the art may suggest modifications to the disclosed non-limiting embodiment without departing from its spirit and scope. Thus, the non-limiting embodiment described should be considered merely illustrative of some of the more prominent features and uses. Other useful results can be obtained by applying the non-limiting embodiments in a different way or modifying them in ways known to those skilled in the art.
Claims (19)
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2796418C1 true RU2796418C1 (en) | 2023-05-23 |
RU2796418C9 RU2796418C9 (en) | 2024-03-26 |
Family
ID=
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2421632C2 (en) * | 2005-02-02 | 2011-06-20 | Эдвардс Лимитед | Method of pump system operation |
RU111207U1 (en) * | 2011-06-16 | 2011-12-10 | Рамиль Рафикович Ишмуратов | TWO-Tier VACUUM LIQUID TRANSFER SYSTEM BY BYPASS CHANNEL |
RU2562899C2 (en) * | 2010-05-11 | 2015-09-10 | Эдвардс Лимитед | Vacuum generation system |
US20170200622A1 (en) * | 2014-05-30 | 2017-07-13 | Ebara Corporation | Vacuum evacuation system |
WO2018100342A1 (en) * | 2016-11-29 | 2018-06-07 | Edwards Limited | Vacuum pumping arrangement |
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2421632C2 (en) * | 2005-02-02 | 2011-06-20 | Эдвардс Лимитед | Method of pump system operation |
RU2562899C2 (en) * | 2010-05-11 | 2015-09-10 | Эдвардс Лимитед | Vacuum generation system |
RU111207U1 (en) * | 2011-06-16 | 2011-12-10 | Рамиль Рафикович Ишмуратов | TWO-Tier VACUUM LIQUID TRANSFER SYSTEM BY BYPASS CHANNEL |
US20170200622A1 (en) * | 2014-05-30 | 2017-07-13 | Ebara Corporation | Vacuum evacuation system |
WO2018100342A1 (en) * | 2016-11-29 | 2018-06-07 | Edwards Limited | Vacuum pumping arrangement |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101099854B1 (en) | Apparatus and method for control, pumping and abatement for vacuum process chambers | |
US8136549B2 (en) | Sluice system for a vacuum facility | |
CN110199122B (en) | Vacuum pumping arrangement | |
TWI388729B (en) | Fore-line preconditioning for vacuum pumps | |
KR100384907B1 (en) | Vacuum device | |
RU2796418C1 (en) | Pumping system with reserve and method for pumping using this pumping system | |
US6598615B1 (en) | Compact independent pressure control and vacuum isolation for a turbomolecular pumped plasma reaction chamber | |
CN210489583U (en) | Semiconductor manufacturing machine platform | |
RU2796418C9 (en) | Pumping system with reserve and method for pumping using this pumping system | |
US20200109470A1 (en) | Vacuum evacuation system | |
CN115210468B (en) | Redundant pumping system and pumping method using the same | |
GB2437968A (en) | Vacuum pumping arrangement for evacuating a plurality of process chambers | |
TWI853109B (en) | Redundant pumping system and pumping method by means of this pumping system | |
US9726176B2 (en) | Vacuum pumping | |
US11905955B1 (en) | Extending life cycles of vacuum pumps used in manufacturing processes | |
JP2002257040A (en) | Vacuum exhaust device | |
WO2023114030A3 (en) | A system for processing fluids | |
JP2000195802A (en) | Vacuumizing system and vacuum vapor phase treating apparatus |