RU2737725C1 - Способ визуализации неоднородностей плоской полупроводниковой поверхности в терагерцовом излучении - Google Patents

Способ визуализации неоднородностей плоской полупроводниковой поверхности в терагерцовом излучении Download PDF

Info

Publication number
RU2737725C1
RU2737725C1 RU2020119508A RU2020119508A RU2737725C1 RU 2737725 C1 RU2737725 C1 RU 2737725C1 RU 2020119508 A RU2020119508 A RU 2020119508A RU 2020119508 A RU2020119508 A RU 2020119508A RU 2737725 C1 RU2737725 C1 RU 2737725C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
radiation
spp
semiconductor
prism
inhomogeneities
Prior art date
Application number
RU2020119508A
Other languages
English (en)
Inventor
Алексей Константинович Никитин
Илдус Шевкетович Хасанов
Лидия Александровна Зыкова
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Научно-технологический центр уникального приборостроения Российской академии наук (НТЦ УП РАН)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Научно-технологический центр уникального приборостроения Российской академии наук (НТЦ УП РАН) filed Critical Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Научно-технологический центр уникального приборостроения Российской академии наук (НТЦ УП РАН)
Priority to RU2020119508A priority Critical patent/RU2737725C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2737725C1 publication Critical patent/RU2737725C1/ru

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

Изобретение относится к оптическим методам контроля качества поверхности полупроводниковых и металлических изделий, в которых взаимодействие зондирующего излучения с поверхностью опосредовано поверхностной электромагнитной волной (ПЭВ), возбуждаемой падающим излучением и направляемой поверхностью. Заявленный способ визуализации неоднородностей плоской полупроводниковой поверхности в терагерцовом излучении включает воздействие на поверхность р-поляризованным излучением, для которого вещественная часть диэлектрической проницаемости полупроводника отрицательна, преобразование излучения в направляемые поверхностью поверхностные плазмон-поляритоны (ППП) и измерение интенсивности излучения, испускаемого с трека ППП. Излучение выбирают монохроматическим с частотой, при которой длина распространения ППП не превышает длину волны излучения, пучок зондирующего излучения коллимируют и направляют под углом генерации ППП на основание призмы нарушенного полного внутреннего отражения, обращенное к контролируемому участку поверхности и размещенное параллельно ему в пределах глубины проникновения поля ППП в окружающую среду. При этом регистрируют пространственное распределение интенсивности излучения одновременно по всему поперечному сечению пучка, выходящего из призмы. Технический результат – создание способа визуализации неоднородностей плоской поверхности полупроводника в терагерцовом излучении, основанного на преобразовании зондирующего излучения в поверхностные плазмон-поляритоны (ППП), направляемые контролируемой поверхностью, и детектировании излучения, испускаемого с трека ППП вследствие сохранения их оптической связи с элементом преобразования, и позволяющего упростить процедуру измерений, уменьшить ее трудоемкость и продолжительность, а также повысить латеральное разрешение измерений. 2 ил.

Description

Изобретение относится к оптическим методам контроля качества поверхности полупроводниковых и металлических изделий, в которых взаимодействие зондирующего излучения с поверхностью опосредовано поверхностной электромагнитной волной (ПЭВ), возбуждаемой падающим излучением и направляемой поверхностью [1]. Изобретение может найти применение в микроэлектронике при производстве полупроводниковых подложек (вэйферов) микроэлектронных схем, при создании полупроводниковых гетероструктур высокоскоростной оптоэлектроники (квантово-каскадных лазеров, солнечных элементов, светодиодов, биполярных транзисторов, фотодетекторов, элементов полупроводниковой интегральной оптики, преобразователей света и других устройств оптоэлектроники).
Для обнаружения дефектов на поверхности полупроводниковых вэйферов традиционно применяют метод сравнения амплитудно-фазовых характеристик оптического излучения, отраженного от эталонного и исследуемого участков поверхности [2]. Основным недостатком такого метода являются большая трудоемкость и продолжительность измерений, ввиду необходимости совместного сканирования приемника и источника излучения над поверхностью изделия.
Известно применение метода микроскопии темного поля для визуализации неоднородностей на поверхности вэйферов [3]. Однако этот метод применим только для обнаружения неоднородностей на поверхности прозрачных объектов, причем он требует применения очень мощного источника излучения и дорогостоящей оптической аппаратуры.
Известен способ визуального контроля оптической поверхности, включающий ввод лазерного излучения в тонкий слой прозрачной жидкости, помещенный между эталонной и контролируемой поверхностями оптических изделий и наблюдение света, рассеянного на аномалиях и дефектах поверхности [4]. Способ позволяет фиксировать наличие локальных аномалий поверхности без дорогостоящего оборудования, но является достаточно трудоемким, поскольку предполагает изготовление для каждого из контролируемого изделий прозрачного бездефектного эталона, сканирование пучка излучения по всей поверхности при условии постоянства эффективности ввода излучения в слой жидкости.
Известен оптический способ изучения и контроля качества поверхности заготовок микросхем с использованием ПЭВ ИК-диапазона, повышающий чувствительность рефлектометрических измерений [5]. Способ включает воздействие на поверхность заготовки монохроматическим ИК-излучением, для которого материал заготовки имеет отрицательную действительную часть диэлектрической проницаемости, преобразование излучения в пучок ПЭВ, направляемый поверхностью, последовательное освещение пучком контролируемого участка поверхности с различных направлений при одновременной регистрации трека и интегральной интенсивности пучка после преодоления им участка, а также обработку результатов измерений. Основными недостатками способа являются большая трудоемкость, низкое латеральное разрешение и большая продолжительность измерений.
Наиболее близким к заявляемому по технической сущности является способ обнаружения дефектов на поверхности полупроводника с помощью терагерцовых (ТГц) поверхностных плазмон-поляритонов (ППП) - разновидности ПЭВ [6]. Способ включает в себя воздействие на поверхность полупроводника серией идентичных импульсов p-поляризованного ТГц излучения, для которого вещественная часть диэлектрической проницаемости полупроводника отрицательна, преобразование излучения в пучок широкополосных ППП, пробег пучка ППП по контролируемой поверхности на макроскопическое расстояние (превышающее среднюю длину волны излучения на 2-3 порядка), преобразование пучка ППП в объемное излучение, регистрацию интегральной интенсивности этого излучения в различные фазы (стадии) импульсов, обработку результатов измерений и сравнение их с результатами, полученными на эталонном образце. Основными недостатками известного способа являются большие трудоемкость и продолжительность измерений, а также - их интегральный характер, сводящий на нет латеральное разрешение способа.
В основу изобретения поставлена задача разработки нового способа визуализации неоднородностей плоской поверхности полупроводника в терагерцовом излучении, основанного на преобразовании зондирующего излучения в поверхностные плазмон-поляритоны (ППП), направляемые контролируемой поверхностью, и детектировании излучения, испускаемого с трека ППП вследствие сохранения их оптической связи с элементом преобразования, и позволяющего упростить процедуру измерений, уменьшить ее трудоемкость и продолжительность, а также - повысить латеральное разрешение измерений, что делает возможным не только оценку размеров неоднородностей, но и локализацию их местоположения.
Сущность изобретения заключается в том, что в известном способе визуализации неоднородностей плоской полупроводниковой поверхности в терагерцовом излучении, включающего воздействие на поверхность р-поляризованным излучением, для которого вещественная часть диэлектрической проницаемости полупроводника отрицательна, преобразование излучения в направляемые поверхностью поверхностные плазмон-поляритоны (ППП) и измерение интенсивности излучения, испускаемого с трека ППП, излучение выбирают монохроматическим с частотой, при которой длина распространения ППП не превышает длину волны излучения, пучок зондирующего излучения коллимируют и направляют под углом генерации ППП на основание призмы нарушенного полного внутреннего отражения, обращенное к контролируемому участку поверхности и размещенное параллельно ему в пределах глубины проникновения поля ППП в окружающую среду; при этом регистрируют пространственное распределение интенсивности излучения одновременно по всему поперечному сечению пучка, выходящего из призмы.
Упрощение процедуры измерений в предлагаемом способе, обусловливающее уменьшение ее трудоемкости и продолжительности, достигается в результате однократного использования в качестве зонда пучка коллимированного монохроматического излучения, воздействующего на весь контролируемый участок поверхности, и регистрации распределения интенсивности излучения одновременно по всему поперечному сечению пучка, выходящего из призмы.
Повышение латерального разрешения измерений достигается вследствие выбора такой длины волны излучения X, при которой длина распространения ППП L меньше X, а также в результате генерации ППП коллимированным пучком монохроматического излучения не в одной точке контролируемого участка поверхности, а по всей его площади, находящейся под основанием призмы НПВО; это позволяет судить об эффективности генерации 111111 (зависящей от наличия неоднородности на поверхности) в данной точки поверхности, а, значит, - о наличии на ней неоднородности и об оптических характеристиках этой неоднородности, по интенсивности излучения, испускаемого через призму НПВО с данной точки поверхности.
Изобретение поясняется чертежами: на Фиг. 1 представлена схема устройства, реализующего заявляемый способ; на Фиг. 2 - расчетные зависимости коэффициента отражения Rp р-составляющей излучения (λ=140 мкм) от угла его падения ϕ на структуру "ТРХ - (полиметилпентен) -воздушный зазор величиной h=20 мкм - слой ZnS толщиной d - InSb (антимонид индия)" при генерировании этим излучением ППП на поверхности InSb.
На Фиг. 1 цифрами обозначены: 1 - источник монохроматического ТГц излучения; 2 - коллиматор; 3 - поляризатор; 4 - призма НПВО; 5 - плоская поверхность полупроводникового изделия; 6 - зазор, отделяющий основание призмы 4 от поверхности 5; 7 - пьезокерамический актуатор, регулирующий зазор 6; 8 - неоднородность на поверхности 5; 9 - матрица фотоприемников ТГц излучения; 10 - устройство для накопления и обработки электрических сигналов от матрицы 9.
На Фиг. 2 цифрами обозначены зависимости Rp(ϕ), рассчитанные для различных значений толщины d слоя сульфида цинка: кривая 1 - в = 0; 2 - d = 0.5 мкм; 3 - d = 1.0 мкм; 4 - d = 1.5 мкм; 5 - d = 2.0 мкм.
Способ реализуется следующим образом.
Излучение источника 1 с помощью коллиматора 2 преобразуют в пучок параллельных лучей с некоторым распределением интенсивности по его поперечному сечению. Прошедшему через коллиматор 2 излучению придают p-поляризацию (относительно плоскости падения) с помощью поляризатора 3 и направляют на боковую грань призмы 4 таким образом, чтобы преломленный на этой грани пучок излучения падал на основание призмы 4 под углом генерации ППП на поверхности 5 полупроводникового изделия. Эванесцентное (затухающее по экспоненте) поле излучения, претерпевшего полное внутреннее отражение от основания призмы 4, проникает в зазор 6, регулируемый пьезокерамикой 7 и отделяющий призму 4 от поверхности 5, достигает ее и генерирует на ней (с некоторой эффективностью) ППП. Вследствие больших джоулевых потерь ППП рассеивают основную долю своей энергии в тепло на расстоянии L<λ (где L - длина распространения ППП); поэтому объемная волна, испускаемая ППП в призму 4 (вследствие сохранения с ней оптической связи), имеет интенсивность значительно меньшую по сравнению с интенсивностью падающего излучения. Поскольку L<λ, то интенсивность излучения, испускаемого с элементарной площадки основания призмы 4 размером, не превышающим длину волны излучения, пропорциональна эффективности генерации ППП на соответствующем элементарном участке поверхности 5. Наличие на поверхности 5 неоднородности 8 скажется на эффективности генерации ППП, а, следовательно, и на интенсивности излучения, испускаемого с соответствующей площадки основания призмы 4. Пучок излучения, исходящий от освещенного участка основания призмы 4, выходит через ее вторую боковую грань и падает на матрицу фотоприемников 9. Пиксели матрицы 9 вырабатывают пропорциональные их освещенности электрические сигналы, которые одновременно регистрируются устройством 10. Выполнив нормировку распределения интенсивности, регистрируемую матрицей 9 до и после внедрения поверхности 5 в эванесцентное поле излучения у основания призмы 4, исследователь может визуализировать распределение неоднородностей по поверхности 5. Более того, последовательное выполнение вышеописанных измерений позволяет изучать динамику распределения неоднородностей с временным разрешением, определяемым постоянной времени пикселей матрицы 9.
В качестве примера применения заявляемого способа рассмотрим возможность реализации метода ППП-микроскопии в ТГц диапазоне на примере антимонида индия (InSb) с собственной проводимостью. При численном моделировании воспользуемся моделью Друде-Лоренца для описания дисперсии диэлектрической проницаемости полупроводника [7]:
Figure 00000001
где ε - высокочастотная диэлектрическая проницаемость; ωL и ωT - частота продольных и поперечных колебаний кристаллической решетки, соответственно; Г - постоянная затухания колебаний кристаллической решетки; γ - столкновительная частота электронов проводимости. Не содержащий примесей InSb характеризуется следующими значениями вышеперечисленных параметров: ωр = 81.0 см-1; ε = 15.68; ωL = 190.4 см-1; ωT = 179.1 см-1; Г = 2.86 см-1; γ = 10.7 см-1 [7].
Расчеты по формуле (1) показали, что вещественная часть диэлектрической проницаемости ε' антимонида индия становится отрицательной (необходимое условие существования ППП) при λ ≥ 134 мкм. Выберем длину волны зондирующего излучения λ=140 мкм, соответствующую одному из "окон прозрачности" атмосферы для ТГц излучения. На такой λ величина sInSb = -1.614 + i ⋅ 2.936, а длина распространения ППП L≈138 мкм, т.е. L≤λ. Материалом призмы НПВО выберем слабодисперсный полимер ТРХ (полиметилпентен) с показателем преломления np=1.46; критический угол ϕcr для излучения с λ=140 мкм на границе раздела "ТРХ - воздух" равен 43°14'. Расчеты зависимости коэффициента отражения по мощности Rp для p-составляющей такого излучения от структуры "ТРХ - воздушный зазор величиной h=20 мкм - InSb" (схема Отто для генерации ППП методом НПВО [1]) показали, что в этих условиях наиболее эффективное преобразование зондирующего излучения в ППП (соответствует минимальному значению коэффициента отражения Rp min = 0.04 на зависимости Rp (ϕ)) достигается при угле падения ϕ=ϕ*=52°45'. Промоделируем эволюцию кривой Rp(ϕ) при нанесении на поверхность InSb "неоднородности" в виде непоглощающего слоя из сульфида цинка (ZnS) толщиной d и с показателем преломления 2.950. Результаты моделирования представлены на Фиг. 2. Видно, что с увеличением толщины d слоя минимум кривой Rp (ϕ) смещается к критическому углу ϕcr, а значение Rp min увеличивается. Поэтому, при угле падения ϕ=ϕ* (см. Фиг. 2) участкам поверхности InSb не содержащим слоя ZnS (кривая 1) будет соответствовать интенсивность выходящего из призмы пучка равная 0.04 (от ее значения до внедрения поверхности InSb в эванесцентное поле зондирующего излучения), а участкам со слоем толщиной (например) d=1.0 мкм (кривая 3) - интенсивность равная 0.13. Поскольку современная измерительная аппаратура позволяет надежно регистрировать изменение интенсивности ТГц излучения с точностью до долей процента [8], то можно надеяться, что заявляемый метод микроскопии позволит достичь для слоя ZnS вертикального разрешения не хуже 1 нм, а при использовании матрицы 9 с пикселями размером меньше λ (например, микроболометрической матрицы [9]) латерального разрешения, сравнимого с длиной волны излучения, т.е. немного хуже дифракционного предела Аббе в λ/2.
Таким образом, рассмотренный пример наглядно демонстрирует возможность визуализации заявляемым способом неоднородностей плоской полупроводниковой поверхности в терагерцовом излучении, при которой существенно упрощается (по сравнению со способом-прототипом) процедура измерений, уменьшается ее трудоемкость и продолжительность, а также повышается до дифракционного предела Аббе латеральное разрешение измерений.
Источники информации:
[1] Поверхностные поляритоны. Электромагнитные волны на поверхностях и границах раздела сред / Под ред. В.М. Аграновича и Д.Л. Миллса. - М: Наука, 1985. - 525 с.
[2] Shankar N.G. and Zhong Z.W. Defect detection on semiconductor wafer surfaces // Microelectron. Eng., 2005, V. 77, p. 337-346.
[3] Stokowski S. and Vaez-Iravani M. Wafer inspection technology challenges for ULSI manufacturing // AIP Conference Proceedings, 1998, V. 449, p. 405-415.
[4] Стойлов Ю.Ю., Старцев A.B., Яловой В.И. Способ визуально-оптического контроля поверхности // Патент RU 2502954 от 27.12.2013.
[5] Васильев А.Ф., Гушанская Н.Ю., Жижин Г.Н., Яковлев В.А. Применение спектроскопии ПЭВ для изучения и контроля качества поверхности заготовок микросхем // Оптика и спектроскопия, 1987, Т. 63, Вып. 3, с. 682-684.
[6] Yang Т., Li Y., Stantchev R., Zhu Y., Qin Y., Zhou X., and Huang W. Detection of defects on the surface of a semiconductor by terahertz surface plasmon polaritons // Applied Optics, 2016, V. 55, No. 15, p. 4139-4144. (прототип).
[7] Handbook of optical constants of solids 1998 Ed. by E.D. Palik. Academ. Press, USA. - 804 p.
[8] Lewis R.A. A review of terahertz detectors // J. Phys. D: Appl. Phys., 2019, V. 52, 433001.
[9] Демьяненко M.A., Есаев Д.Г., Овсюк B.H., Фомин Б.И., Асеев А.Л., Князев Б.А., Кулипанов Г.Н., Винокуров Н.А. Матричные микроболометрические приемники для инфракрасного и терагерцового диапазонов // Оптический журнал, 2009, Т. 76, Вып. 12, С. 5-11.

Claims (1)

  1. Способ визуализации неоднородностей плоской полупроводниковой поверхности в терагерцовом излучении, включающий воздействие на поверхность р-поляризованным излучением, для которого вещественная часть диэлектрической проницаемости полупроводника отрицательна, преобразование излучения в направляемые поверхностью поверхностные плазмон-поляритоны (ППП) и измерение интенсивности излучения, испускаемого с трека ППП, отличающийся тем, что излучение выбирают монохроматическим с частотой, при которой длина распространения ППП не превышает длину волны излучения, пучок зондирующего излучения коллимируют и направляют под углом генерации ППП на основание призмы нарушенного полного внутреннего отражения, обращенное к контролируемому участку поверхности и размещенное параллельно ему в пределах глубины проникновения поля ППП в окружающую среду; при этом регистрируют пространственное распределение интенсивности излучения одновременно по всему поперечному сечению пучка, выходящего из призмы.
RU2020119508A 2020-06-05 2020-06-05 Способ визуализации неоднородностей плоской полупроводниковой поверхности в терагерцовом излучении RU2737725C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2020119508A RU2737725C1 (ru) 2020-06-05 2020-06-05 Способ визуализации неоднородностей плоской полупроводниковой поверхности в терагерцовом излучении

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2020119508A RU2737725C1 (ru) 2020-06-05 2020-06-05 Способ визуализации неоднородностей плоской полупроводниковой поверхности в терагерцовом излучении

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2737725C1 true RU2737725C1 (ru) 2020-12-02

Family

ID=73792347

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2020119508A RU2737725C1 (ru) 2020-06-05 2020-06-05 Способ визуализации неоднородностей плоской полупроводниковой поверхности в терагерцовом излучении

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2737725C1 (ru)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998025313A1 (en) * 1996-12-05 1998-06-11 Btg International Limited Radiation emitting devices
US20070215808A1 (en) * 2006-03-17 2007-09-20 Canon Kabushiki Kaisha Detection device and image forming device
US20160227639A1 (en) * 2015-02-03 2016-08-04 Ido Kaminer Apparatus and methods for generating electromagnetic radiation
RU168403U1 (ru) * 2016-06-09 2017-02-01 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Научно-технологический центр уникального приборостроения Российской академии наук (НТЦ УП РАН) Устройство для обнаружения неоднородностей на плоских гранях потока однотипных проводящих изделий в инфракрасном излучении
RU2709600C1 (ru) * 2019-05-15 2019-12-18 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Научно-технологический центр уникального приборостроения Российской академии наук (НТЦ УП РАН) Интерферометр Майкельсона для определения показателя преломления поверхностных плазмон-поляритонов терагерцевого диапазона
RU2709705C1 (ru) * 2019-06-28 2019-12-19 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Новосибирский национальный исследовательский государственный университет" (Новосибирский государственный университет, НГУ) Способ обнаружения объекта на выпуклой металлической поверхности за линией её горизонта

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998025313A1 (en) * 1996-12-05 1998-06-11 Btg International Limited Radiation emitting devices
US20070215808A1 (en) * 2006-03-17 2007-09-20 Canon Kabushiki Kaisha Detection device and image forming device
US20160227639A1 (en) * 2015-02-03 2016-08-04 Ido Kaminer Apparatus and methods for generating electromagnetic radiation
RU168403U1 (ru) * 2016-06-09 2017-02-01 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Научно-технологический центр уникального приборостроения Российской академии наук (НТЦ УП РАН) Устройство для обнаружения неоднородностей на плоских гранях потока однотипных проводящих изделий в инфракрасном излучении
RU2709600C1 (ru) * 2019-05-15 2019-12-18 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Научно-технологический центр уникального приборостроения Российской академии наук (НТЦ УП РАН) Интерферометр Майкельсона для определения показателя преломления поверхностных плазмон-поляритонов терагерцевого диапазона
RU2709705C1 (ru) * 2019-06-28 2019-12-19 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Новосибирский национальный исследовательский государственный университет" (Новосибирский государственный университет, НГУ) Способ обнаружения объекта на выпуклой металлической поверхности за линией её горизонта

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Zhong Progress in terahertz nondestructive testing: A review
US4750822A (en) Method and apparatus for optically detecting surface states in materials
US10371668B2 (en) Apparatus and methods for probing a material as a function of depth using depth-dependent second harmonic generation
US9228899B2 (en) Terahertz temporal and spatial resolution imaging system, imaging method and application thereof
US7145148B2 (en) Systems and methods for non-destructively detecting material abnormalities beneath a coated surface
US6788405B2 (en) Nonlinear optical system for sensing the presence of contamination on a semiconductor wafer
US7304305B2 (en) Difference-frequency surface spectroscopy
US20030235381A1 (en) Fiber-optic based surface spectroscopy
US6781686B2 (en) Femtosecond optical surface imaging
Li et al. Detection of physical defects in solar cells by hyperspectral imaging technology
TW201447271A (zh) 使用表面增強電場之缺陷偵測
US20120176623A1 (en) Apparatus and method for measuring characteristics of multi-layered thin films
JPWO2006085403A1 (ja) 実時間テラヘルツ・トモグラフィー装置および分光イメージング装置
JPH05281141A (ja) 結晶内のフォトルミネッセンス計測方法及び装置
US6795175B2 (en) System and method for imaging contamination on a surface
Kim et al. Transmission-type laser THz emission microscope using a solid immersion lens
US6882414B2 (en) Broadband infrared spectral surface spectroscopy
RU2737725C1 (ru) Способ визуализации неоднородностей плоской полупроводниковой поверхности в терагерцовом излучении
US6798502B2 (en) Microwave regime surface spectroscopy
JP4031712B2 (ja) 半導体多層膜の分光計測方法および分光計測装置
Takahashi et al. Super resolution optical measurements of nanodefects on Si wafer surface using infrared standing evanescent wave
Destic et al. THz QCL-based active imaging dedicated to non-destructive testing of composite materials used in aeronautics
RU2802546C1 (ru) Способ регулирования латерального разрешения микроскопии поверхностных плазмон-поляритонов
RU2444085C1 (ru) Устройство для бесконтактного измерения времени жизни неравновесных носителей заряда в полупроводниках (варианты)
Tan et al. Further study of spectral ripple with a laser scattering measurement apparatus