RU2718087C1

RU2718087C1 - Layered uv-blocking material for electrochromic module on glass

Info

Publication number: RU2718087C1
Application number: RU2019119172A
Authority: RU
Inventors: Дмитрий Павлович Княжев; Владислав Валерьевич Кравченко
Original assignee: Общество с ограниченной ответственностью "Октополимер"
Priority date: 2019-06-20
Filing date: 2019-06-20
Publication date: 2020-03-30

Abstract

FIELD: chemistry.SUBSTANCE: invention relates to the field of laminar articles and materials with layers, one of which is made of glass, which is the base of it, and the other, located next to it, is made entirely of specified material, specifically to laminar materials on glass for placing electrochromic modules on them, which block delivery of ultraviolet (UV) radiation to an electrochromic module. Essence of the invention consists in the fact that a laminated article with a glass base is proposed for placement of an electrochromic module on it. Multilayer sequence of individual layers of certain materials of appropriate thickness and in the appropriate order from surface of glass base is located on glass base for electrochromic module placement on it. Materials and composition of individual layers, their thickness and order are designed so that the end product has a set of required spectrophotometric properties in terms of the level of transmission of UV radiation and absorption of electromagnetic radiation in the visible wavelength range, along with stability of the level of spectral broadening in the central visible wavelength range and low optical turbidity, allowing wherein possibility of combined use with electrochromic modules for the purpose of making structural elements of electrochromic devices for translucent structures of architectural and transport applications.EFFECT: technical result of invention is aimed at implementation of layered UV-blocking material for electrochromic module on glass, suitable for use together with electrochromic module in order to manufacture structural elements of electrochromic devices for translucent structures of architectural and transport applications and having collectively low transmission levels of UV radiation and absorption of electromagnetic radiation in the visible wavelength range, along with high stability of the level of spectral broadening in the central visible wavelength range and low optical turbidity.9 cl, 8 dwg, 2 tbl

Description

Настоящее изобретение относится к области слоистых изделий и материалов со слоями, один из которых выполнен из стекла, являющегося основной его, а другой, расположенный рядом с ним, выполнен целиком из специфицированного материала, а именно к слоистым материалам на стекле для размещения на них электрохромных модулей, блокирующих поступление к электрохромному модулю ультрафиолетового (УФ) излучения.The present invention relates to the field of laminated products and materials with layers, one of which is made of glass, which is its main, and the other, located next to it, is made entirely of specified material, namely, laminated materials on glass for placement of electrochromic modules on them blocking the entry to the electrochromic module of ultraviolet (UV) radiation.

Известны слоистые материалы и пленки, в т.ч. на стеклянной основе, для блокирования поступления сквозь них УФ-излучения. Данные материалы, представленные, например, в патентах РФ №2195468, №2222560, №2190536, №2471838, №2453563, №2596041, №2429189, и №2494875, могут быть использованы для защиты от неблагоприятных климатических условий, а именно - от избыточного потока пагубного ультрафиолетового излучения в составе солнечного света - растений и живых организмов, полимерных материалов, в т.ч. декоративного и энергоэффективного назначения, могут применяться для предохранения от выцветания красок и предметов интерьера, а также для защиты от выгорания дисплейных решений и, как в случае патента РФ №2523814 проекционных автомобильных стекол для отображения показаний приборов на лобовом стекле (HUD; head-up display).Laminated materials and films are known, including glass-based, to block the passage of UV radiation through them. These materials, presented, for example, in Russian patents No. 2195468, No. 2222560, No. 2190536, No. 2471838, No. 2453563, No. 2596041, No. 2429189, and No. 2494875, can be used to protect from adverse climatic conditions, namely from excessive the flow of harmful ultraviolet radiation in the composition of sunlight - plants and living organisms, polymeric materials, including decorative and energy-efficient purposes, they can be used to prevent fading of paints and interior items, as well as to protect display solutions from burning out and, as in the case of RF patent No. 2523814, projection automobile windows for displaying instrument readings on a windshield (HUD; head-up display )

Одним из перспективных направлений применения таких решений по блокированию поступления УФ-излучения является защита от пагубного воздействия ультрафиолета устройств на основе электрохромных модулей. Электрохромные модули обладают меняющейся величиной интенсивности пропускания электромагнитного излучения различного диапазона длин волн, включающего видимую часть спектра, в зависимости от величины и полярности прикладываемого к ним напряжения. Устройства на основе электрохромных модулей могут быть использованы в широком спектре различных применений, в частности в качестве светофильтров, дисплеев, неслепящих зеркал заднего вида для транспорта и пр.One of the promising areas of application of such solutions to block the influx of UV radiation is to protect devices based on electrochromic modules from the harmful effects of ultraviolet radiation. Electrochromic modules have a varying magnitude of the transmission intensity of electromagnetic radiation of a different wavelength range, including the visible part of the spectrum, depending on the magnitude and polarity of the voltage applied to them. Devices based on electrochromic modules can be used in a wide range of different applications, in particular, as light filters, displays, dazzle-free rear-view mirrors for vehicles, etc.

Особый интерес представляет возможность использования устройств на основе электрохромных модулей в составе светопрозрачных конструкций для архитектурных и транспортных применений (как интерьерных, так и экстерьерных). Т.н. «умные» окна с интегрированными в них электроактивными устройствами на основе электрохромных модулей могут быть настроены пользователем через юстировку величины и/или полярности прикладываемого напряжения на пропускание той части приходящего солнечного излучения, при которой будет достигаться оптимальный уровень комфорта использования помещения. Аналогично, интерьерные решения с электрохромными модулями могут переводиться из светопропускающего состояния в состояние максимально непрозрачной перегородки по желанию пользователя. Специфика условий монтажа и эксплуатации накладывает на электрохромные модули, использующиеся в архитектурных и транспортных применениях, особые требования к стабильности проявляемых спектрофотометрических свойств, а также качеств хромирования в ходе многочисленных циклов переключения между крайними - т.н. контрастными -величинами достигаемого светопропускания в условно окрашенном и условно прозрачном состояниях. Электрохромные модули, используемые в составе светопрозрачных конструкций для строительных применений и в транспортных средствах, должны быть достаточно стабильны, чтобы выдерживать от нескольких тысяч до десятков тысяч переключений между крайними положениями контраста без потери величины контраста хромирования. Кроме того, временная стабильность оптических качеств таких электрохромных модулей должна характеризоваться отсутствием ухудшения их визуально наблюдаемых свойств как в обесцвеченном, так и в окрашенном состояниях по результату как минимум 5000 часов воздействия потока электромагнитного излучения в диапазоне от 300 нм до 900 нм общей мощностью 6500 Вт в температурном диапазоне от 40°С до 95°С и в диапазоне влажности окружающей среды от 5% до 95% (согласно стандартам ГОСТ Р 56773; ASTM Е2141-14).Of particular interest is the possibility of using devices based on electrochromic modules as part of translucent structures for architectural and transport applications (both interior and exterior). T.N. Smart windows with integrated electroactive devices based on electrochromic modules can be configured by the user, by adjusting the magnitude and / or polarity of the applied voltage, to transmit that part of the incoming solar radiation at which the optimum level of comfort of using the room is achieved. Similarly, interior solutions with electrochromic modules can be transferred from a light transmitting state to a state of the most opaque partition at the request of the user. The specifics of the installation and operating conditions imposes on the electrochromic modules used in architectural and transport applications, special requirements for the stability of the spectrophotometric properties shown, as well as the quality of chromium plating during numerous switching cycles between extreme ones - the so-called contrasting values of the achieved light transmission in conditionally colored and conditionally transparent states. Electrochromic modules used as part of translucent structures for building applications and in vehicles must be stable enough to withstand from several thousand to tens of thousands of switching between extreme contrast positions without losing the amount of chromium contrast. In addition, the temporal stability of the optical properties of such electrochromic modules should be characterized by the absence of deterioration of their visually observed properties in both bleached and colored states as a result of at least 5000 hours of exposure to electromagnetic radiation flux in the range from 300 nm to 900 nm with a total power of 6500 W temperature range from 40 ° C to 95 ° C and in the range of ambient humidity from 5% to 95% (according to GOST R 56773; ASTM E2141-14).

Известно, однако, что электрохимически-активные компоненты электрохромных модулей имеют тенденцию портиться, с точки зрения изменения их оптических свойств, уровня мутности по отношению к проходящему видимому свету и эффективности интеркаляции при окрашивании, в ходе продолжительного воздействия электромагнитного излучения ультрафиолетового диапазона длин волн, в т.ч. граничащей с видимым диапазоном области спектра. В результате, для обеспечения вышеописанного требуемого уровня стабильности электрохромных модулей, используемых в составе светопрозрачных конструкций для строительных применений и в транспортных средствах в открытых солнцу экспозициях, требуется применение дополнительных, блокирующих поступление к электрохромным модулям УФ-излучения способов защиты, способствующих повышению временной и циклической долговечности электрохромных модулей.However, it is known that the electrochemically active components of electrochromic modules tend to deteriorate, in terms of changes in their optical properties, the level of turbidity with respect to transmitted visible light and the efficiency of intercalation during staining, during prolonged exposure to electromagnetic radiation from the ultraviolet wavelength range, in t .h. bordering the visible range of the spectrum. As a result, in order to ensure the above-described required level of stability of electrochromic modules used in translucent structures for building applications and in vehicles exposed to the sun, additional protection methods are required that block the receipt of UV radiation to electrochromic modules, which increase the time and cyclic durability electrochromic modules.

Термин «электрохромный модуль» в последующем описании и формуле изобретения относятся к непосредственно законченному изделию, обладающему способностью проявлять электрохромизм через изменение интенсивности, цвета, фазы, поляризации, оптических функций и/или направления света, в ходе приложения к его элементам электрического напряжения. В свою очередь, термин «электрохромное устройство» в последующем описании и формуле изобретения относятся к составному устройству, включающему как сам электрохромный модуль - один или несколько - как элемент своей конструкции, проявляющий непосредственно электрохромные функции, так и все вспомогательные узлы, требующиеся для обеспечения функционирования устройства в рамках конкретного возможного применения - архитектурно-остеклительного, автомобильного, дисплейного и прочих возможных. К таковым относятся, например, токовводы для обеспечения приложения внешнего напряжения к электрохромным модулям устройства, конструкционные элементы, служащие для монтажа устройства, например, структурные рамы, рамная фурнитура, демпферы, направляющие и т.п.The term "electrochromic module" in the following description and claims relates to a directly finished product having the ability to exhibit electrochromism through a change in the intensity, color, phase, polarization, optical functions and / or direction of light, during the application of electrical voltage to its elements. In turn, the term "electrochromic device" in the following description and claims refers to a composite device that includes both the electrochromic module itself - one or more - as an element of its structure that directly exhibits electrochromic functions, and all the auxiliary nodes required to ensure functioning devices within the framework of a specific possible application - architectural-glazing, automotive, display and other possible. These include, for example, current leads to ensure the application of external voltage to the electrochromic modules of the device, structural elements used to mount the device, for example, structural frames, frame fittings, dampers, guides, etc.

Вышеупомянутые средства защиты электрохромных модулей от поступления к ним УФ-излучения описаны, например, в патентах США №6372159, №6122093, №8599467, №6433913 и №8115984, а также в патентах РФ №2569913, №2531063, №2224275.The aforementioned means of protecting electrochromic modules from UV radiation coming to them are described, for example, in US Pat.

Применение описываемых в приведенных патентах средств защиты электрохромных модулей от УФ-излучения имеет, однако, ряд существенных недостатков, ограничивающих эксплуатационные характеристики устройств на основе защищенных электрохромных модулей. Уровень поглощения электромагнитного излучения видимого диапазона длин волн на блокирующем УФ-излучение материале или УФ-стабилизаторе, вводимых в состав электрохромного модуля, либо входящих в состав конструкционного элемента электрохромного устройства, непосредственно либо опосредованно контактирующего с электрохромным модулем устройства, согласно приведенным патентам, слишком велик, в результате чего также велико искажение, вносимое в величину уровня контраста защищаемого электрохромного модуля. Это приводит, в свою очередь, к занижению максимального достижимого уровня светопропускания защищаемого от пагубного воздействия УФ-излучения электрохромного модуля в обесцвеченном состоянии. Кроме того, падение уровня спектрального уширения электрохромного устройства, защита электрохромного модуля которого осуществляется введением в состав непосредственно электрохромного модуля, либо в состав конструкционного элемента электрохромного устройства, непосредственно либо опосредованно контактирующего с электрохромным модулем устройства, блокирующего УФ-излучение материала или УФ-стабилизатора, согласно приведенным патентам, по стороне области коротких длин волн видимого диапазона спектра электромагнитного излучения приводит к искажению оттенка внешнего отражения электрохромного устройства, а также его оттенка при наблюдении проходящего света, выражающемуся в их смещении в красный диапазон цветовой палитры. Последнее приводит к проявлению эффекта фильтра по отношению к проходящему и внешне-отраженному излучению, что отрицательно сказывается на применимости защищаемого электрохромного модуля с точки зрения оптимизации средств эстетической выразительности при использовании устройств на основе подобных модулей при разработке дизайна архитектурных проектов и транспортных средств. Кроме того, это снижает комфортность использования экстерьерных светопрозрачных конструкций с такими защищенными электрохромными модулями при обеспечении интерьеров только внешним солнечным светом в течение светового дня - т.е. когда использование электрохромных модулей в ходе приведения их в окрашенное состояние наиболее эффективно и желательно. Наконец, описываемые в приведенных патентах решения характеризуются сравнительно высоким уровнем мутности электрохромных устройств на их основе, что также нежелательно для элементов светопрозрачных строительных и транспортных конструкций.The use of means for protecting electrochromic modules described in the cited patents against UV radiation, however, has a number of significant drawbacks that limit the operational characteristics of devices based on protected electrochromic modules. The absorption level of electromagnetic radiation of the visible wavelength range on a UV-blocking material or UV stabilizer, introduced into the electrochromic module, or included in the structural element of the electrochromic device, directly or indirectly in contact with the electrochromic module of the device, according to the cited patents, is too large, as a result, the distortion introduced into the value of the contrast level of the protected electrochromic module is also large. This, in turn, leads to an underestimation of the maximum achievable level of light transmission of the electrochromic module protected from the harmful effects of UV radiation in a bleached state. In addition, a decrease in the level of spectral broadening of the electrochromic device, the protection of the electrochromic module of which is carried out by introducing directly into the electrochromic module, or into the structural element of the electrochromic device, directly or indirectly in contact with the electrochromic module of the device that blocks the UV radiation of the material or UV stabilizer, according to cited patents, on the side of the region of short wavelengths of the visible range of the spectrum of electromagnetic radiation, leads to distortion of the hue of the external reflection of the electrochromic device, as well as its hue when observing transmitted light, expressed in their shift to the red range of the color palette. The latter leads to the manifestation of the filter effect with respect to transmitted and externally reflected radiation, which negatively affects the applicability of the protected electrochromic module in terms of optimizing aesthetic expressiveness when using devices based on such modules in the design of architectural projects and vehicles. In addition, this reduces the comfort of using exterior translucent structures with such protected electrochromic modules while providing interiors only with external sunlight during daylight hours - i.e. when the use of electrochromic modules in the course of bringing them into a colored state is most effective and desirable. Finally, the solutions described in the cited patents are characterized by a relatively high turbidity level of electrochromic devices based on them, which is also undesirable for elements of translucent building and transport structures.

Таким образом, в настоящее время имеется потребность в изделии, представляющем из себя слоистый УФ-блокирующий материал на стекле, пригодный для использования совместно с электрохромным модулем с целью изготовления конструкционных элементов электрохромных устройств для светопрозрачных конструкций архитектурного и транспортного применений, обладающим совокупно: достаточно высоким уровнем блокирования УФ-излучения для обеспечения удовлетворительной временной и циклической функциональной стабильности электрохромного модуля при солнечной экспозиции с точки зрения количества выдерживаемых циклов переключения, составляющего не менее 50000 циклов переключения между крайними положениями контраста электрохромного модуля, а также отсутствия ухудшения визуально наблюдаемых свойств электрохромного устройства на основе такого электрохромного модуля как в обесцвеченном, так и в окрашенном состояниях последнего по результату как минимум 5000 часов воздействия потока электромагнитного излучения в диапазоне от 300 нм до 900 нм общей мощностью 6500 Вт в температурном диапазоне от 40°С до 95°С и в диапазоне влажности окружающей среды от 5% до 95% (согласно стандартам ГОСТ Р 56773; ASTM Е2141-14); низким уровнем поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн, обеспечивающим искажение, вносимое в величину контраста электрохромного модуля, на уровне не выше чем 1 абс. % контраста; достаточно стабильным для сохранения собственного оттенка электрохромного модуля как в окрашенном, так и в обесцвеченном состояниях уровнем спектрального уширения в видимом диапазоне длин волн электромагнитного излучения, а также в граничных с ним областях ультрафиолетового и инфракрасного диапазонов; а также максимально низким уровнем мутности.Thus, at present, there is a need for a product, which is a layered UV-blocking material on glass, suitable for use in conjunction with an electrochromic module for the manufacture of structural elements of electrochromic devices for translucent structures of architectural and transport applications, which together have a sufficiently high level blocking UV radiation to provide satisfactory temporal and cyclic functional stability of the electrochromic module at exposure from the point of view of the number of withstanding switching cycles of at least 50,000 switching cycles between the extreme positions of the contrast of the electrochromic module, as well as the absence of deterioration of the visually observed properties of the electrochromic device based on such an electrochromic module in both the bleached and colored states of the latter as a result of both at least 5000 hours of exposure to electromagnetic radiation flux in the range from 300 nm to 900 nm with a total power of 6500 W in the temperature range o t 40 ° С to 95 ° С and in the range of environmental humidity from 5% to 95% (according to the standards of GOST R 56773; ASTM E2141-14); low absorption of electromagnetic radiation in the visible wavelength range, providing distortion introduced into the contrast value of the electrochromic module, at a level not higher than 1 abs. % contrast; stable enough to maintain its own shade of the electrochromic module in both colored and decolorized states by the level of spectral broadening in the visible wavelength range of electromagnetic radiation, as well as in the ultraviolet and infrared regions adjacent to it; as well as the lowest possible turbidity.

Наиболее близким к заявляемому решению по совокупности признаков является патент РФ №2523814, в котором описывается слоистый материал, включающий межслойную пленку и замедляющий элемент, помещенный между адгезивными слоями. При этом, пленка многослойного стекла содержит термопластичную смолу и поглотитель ультрафиолета. При этом, поглотителем ультрафиолета является соединение бензотриазола или соединение бензофенона и, по меньшей мере, одно соединение, выбранное из группы, состоящей из соединения малонового сложного эфира, соединения оксанилида и соединения триазина. При этом, суммарное содержание соединения малонового сложного эфира, соединения оксанилида и соединения триазина составляет не менее 0,8 части по массе, а суммарное содержание соединения бензотриазола или соединения бензофенона составляет не менее 0,8 части по массе в расчете на 100 частей по массе термопластичной смолы. При этом, адгезивный слой содержит адгезив, имеющий температуру стеклования, равную -20°С или ниже. Описываемый слоистый материал, как отмечается заявителем в патенте, может быть использован для изготовления HUD дисплея, который не портится даже при воздействии света, а также обладает повышенной ударопрочностью, и, как следствие, предлагаемый слоистый материал, может быть использован в качестве УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле.Closest to the claimed solution for the totality of features is RF patent No. 2523814, which describes a layered material including an interlayer film and a retarding element placed between adhesive layers. Moreover, the laminated glass film contains a thermoplastic resin and an ultraviolet absorber. Moreover, the ultraviolet absorber is a benzotriazole compound or a benzophenone compound and at least one compound selected from the group consisting of a malonic ester compound, an oxanilide compound and a triazine compound. In this case, the total content of the malonic ester compound, the oxanilide compound and the triazine compound is at least 0.8 parts by weight, and the total content of the benzotriazole compound or benzophenone compound is at least 0.8 parts by weight, based on 100 parts by weight of thermoplastic pitches. In this case, the adhesive layer contains an adhesive having a glass transition temperature of −20 ° C. or lower. The described layered material, as noted by the applicant in the patent, can be used to make a HUD display that does not deteriorate even when exposed to light, and also has increased impact resistance, and, as a result, the proposed layered material can be used as a UV-blocking material for an electrochromic module on glass.

Данное изделие, однако, не обладает достаточно высоким уровнем блокирования УФ-излучения для обеспечения удовлетворительной временной и циклической функциональной стабильности электрохромного модуля при его солнечной экспозиции, а также характеризуется крайне высоким уровнем мутности, что является ограничением его применимости. Это подтверждается как следствие приведенных в патенте примеров реализации, согласно которым описываемый слоистый материал обладает уровнем блокирования УФ-излучения, косвенно характеризующимся степенью изменения величины замедления не менее 3% при ассоциированном уровне мутности не менее 30% и степенью изменения величины замедления, превышающей 8%, при ассоциированном уровне мутности не менее 20%. Это не позволяет использовать данное изделие совместно с электрохромным модулем с целью изготовления конструкционных элементов электрохромных устройств для светопрозрачных конструкций архитектурного и транспортного применений.This product, however, does not have a sufficiently high level of UV blocking to ensure satisfactory temporal and cyclic functional stability of the electrochromic module during its solar exposure, and is also characterized by an extremely high turbidity level, which is a limitation of its applicability. This is confirmed as a consequence of the implementation examples cited in the patent, according to which the described layered material has a UV blocking level that is indirectly characterized by a degree of change in the retardation of at least 3% with an associated level of turbidity of at least 30% and a degree of change in the magnitude of the retardation of more than 8%, with an associated level of turbidity of at least 20%. This does not allow the use of this product in conjunction with an electrochromic module for the manufacture of structural elements of electrochromic devices for translucent structures of architectural and transport applications.

Технический результат настоящего изобретения направлен на обеспечение следующей совокупности характеристик слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, пригодного для использования совместно с электрохромным модулем с целью изготовления конструкционных элементов электрохромных устройств для светопрозрачных конструкций архитектурного и транспортного применений: низкого уровня пропускания УФ-излучения, характеризующегося величиной коэффициента полного интегрального пропускания ультрафиолета T_uv, не превышающей 40%; низкого уровня поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн, характеризующегося величиной интегрального поглощения А, не превышающей 14%; стабильного уровня спектрального уширения в диапазоне длин волн от 420 нм до 700 нм, характеризующегося максимумом модуля разницы интенсивности светопропускания в данном диапазоне длин волн ΔТ, не превышающим 0,18 долей; а также низкого уровня мутности, не превышающего 0,02 долей.The technical result of the present invention is aimed at providing the following set of characteristics of a layered UV-blocking material for an electrochromic module on glass, suitable for use with an electrochromic module for the manufacture of structural elements of electrochromic devices for translucent structures of architectural and transport applications: low transmission of UV radiation, characterized by the value of the coefficient of the total integrated transmission of ultraviolet T _uv , n e exceeding 40%; low level of absorption of electromagnetic radiation in the visible wavelength range, characterized by the value of the integral absorption A, not exceeding 14%; a stable level of spectral broadening in the wavelength range from 420 nm to 700 nm, characterized by a maximum modulus of the difference in transmittance in this wavelength range ΔT, not exceeding 0.18 shares; as well as a low turbidity level not exceeding 0.02 fractions.

Достижение технического результата согласно настоящему изобретению обеспечивается тем, что предлагается слоистый УФ-блокирующий материал для электрохромного модуля на стекле, содержащий стеклянную основу для размещения на ней электрохромного модуля, при этом на стеклянной основе для размещения на ней электрохромного модуля расположена многослойная последовательность индивидуальных слоев в следующем порядке от поверхности стеклянной основы: УФ-блокирующий слой, состоящий из полимерной матрицы и поглотителя ультрафиолета, и электропроводящий слой токовведения, при этом, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя состоит из вещества, выбранного из группы поливинилбутираля, а также сополимеров олигомерно-мономерной композиции метилметакрилата и метилакрилата; а поглотитель ультрафиолета состоит из вещества, выбранного из группы: бензотриазолов с молекулярными брутто-формулами C₄₁H₅₀N₆O₂, C₂₀H₂₃N₃O₃, C₃₀H₂₉N₃O, C₁₇H₁₈ClN₃O, C₂₇H₃₆ClN₃O₃, триазинов с эмпирической молекулярной формулой C₈₁H₁₀₈N₆O₈, бензофенона, моно-металлов и их сплавов из подгруппы Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Та, F, Ga, и W, а также их оксидов и сульфидов; при этом содержание указанного поглотителя ультрафиолета составляет от 0,003 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, причем электропроводящий слой токовведения состоит из материала группы прозрачных электропроводящих оксидов, включающей примесно-легированные оксиды ZnO, In₂O₃, SnO₂ и CdO, тройные соединения с Zn₂SnO₄, ZnSnO₃, Zn₂In₂O₅, Zn₃In₂O₆, In₂SnO₄, CdSnO₃ и многокомпонентные оксиды с комбинациями ZnO, In₂O₃ и SnO₂, при этом толщина стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля составляет от 0,01 мм до 28 мм, толщина УФ-блокирующего слоя составляет от 10 мкм до 18 мм, а толщина электропроводящего слоя токовведения составляет от 40 до 820 нм.The achievement of the technical result according to the present invention is ensured by the fact that a layered UV-blocking material for an electrochromic module on glass is provided, containing a glass base for placing an electrochromic module on it, while on a glass base for placing an electrochromic module on it there is a multilayer sequence of individual layers in the following order from the surface of the glass base: UV blocking layer consisting of a polymer matrix and an ultraviolet absorber, and an electric the conductive conductive layer, wherein the polymer matrix of the UV-blocking layer consists of a substance selected from the group of polyvinyl butyral, as well as copolymers of the oligomer-monomer composition of methyl methacrylate and methyl acrylate; and the ultraviolet absorber consists of a substance selected from the group: benzotriazoles with molecular gross formulas C ₄₁ H ₅₀ N ₆ O ₂ , C ₂₀ H ₂₃ N ₃ O ₃ , C ₃₀ H ₂₉ N ₃ O, C ₁₇ H ₁₈ ClN ₃ O , C ₂₇ H ₃₆ ClN ₃ O ₃ , triazines with an empirical molecular formula C ₈₁ H ₁₀₈ N ₆ O ₈ , benzophenone, mono-metals and their alloys from the subgroup Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Ta, F, Ga, and W, as well as their oxides and sulfides; wherein the content of said ultraviolet absorber is from 0.003 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer, wherein the conductive current conducting layer consists of a material of a group of transparent electrically conductive oxides, including impurity-doped oxides ZnO, In ₂ O ₃ , SnO ₂ and CdO, ternary compounds with Zn ₂ SnO ₄ , ZnSnO ₃ , Zn ₂ In ₂ O ₅ , Zn ₃ In ₂ O ₆ , In ₂ SnO ₄ , CdSnO ₃ and multicomponent oxides with combinations of ZnO, In ₂ O ₃ and SnO _2, and the thickness of the glass substrate to be placed on it amounted electrochromic module wish to set up from 0.01 mm to 28 mm, the thickness of the UV-blocking layer is from 10 microns to 18 mm, and the thickness of the electroconductive layer tokovvedeniya is from 40 to 820 nm.

В частном случае, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле может включать в качестве дополнительной компоненты фотоинициатор, выбранный из группы 2,2-диметокси-2-фенилацетофенонов и 1-гидроксициклогексил фенил кетона, причем содержание указанного фотоинициатора составляет от 0,1 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.In the particular case, the polymer matrix of the UV-blocking layer of the UV-blocking material for the electrochromic device on glass may include as an additional component a photoinitiator selected from the group of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenones and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, the content of which photoinitiator is from 0.1 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer.

В другом частном случае, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле может включать в качестве дополнительной компоненты пластификатор, выбранный из группы дибутилфталатов и диоктилфталатов, причем содержание указанного пластификатора составляет от 2 до 50 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.In another particular case, the polymer matrix of the UV blocking layer of the layered UV blocking material for an electrochromic device on glass may include as an additional component a plasticizer selected from the group of dibutyl phthalates and dioctyl phthalates, wherein the content of said plasticizer is from 2 to 50 parts by weight calculated per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer.

Кроме того, в еще одном частном случае, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле может включать в качестве дополнительной компоненты растворитель, выбранный из группы 1,2-пропиленкарбоната, диметилсульфоксида, N-метилпирролидона, диметилформамида и диметилацетамида, причем содержание указанного расвторителя составляет от 5 до 90 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.In addition, in another particular case, the polymer matrix of the UV blocking layer of the UV laminated blocking material for an electrochromic device on glass may include as an additional component a solvent selected from the group of 1,2-propylene carbonate, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and dimethylacetamide, and the content of the specified solvent is from 5 to 90 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer.

В еще одном варианте достижения технического результата согласно настоящему изобретению предлагается слоистый УФ-блокирующий материал для электрохромного модуля на стекле содержащий стеклянную основу для размещения на ней электрохромного модуля, при этом на стеклянной основе для размещения на ней электрохромного модуля расположена многослойная последовательность индивидуальных слоев в следующем порядке от поверхности стеклянной основы: УФ-блокирующий слой, состоящий из полимерной матрицы и поглотителя ультрафиолета, оптически прозрачная подложка для размещения электропроводящего слоя токовведения и непосредственно электропроводящий слой токовведения, при этом, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя состоит из вещества, выбранного из группы поливинилбутираля, а также сополимеров олигомерно-мономерной композиции метилметакрилата и метилакрилата; а поглотитель ультрафиолета состоит из вещества, выбранного из группы: бензотриазолов с молекулярными брутто-формулами C₄₁H₅₀N₆O₂, C₂₀H₂₃N₃O₃, C₃₀H₂₉N₃O, C₁₇H₁₈ClN₃O, C₂₇H₃₆ClN₃O₃, триазинов с эмпирической молекулярной формулой C₈₁H₁₀₈N₆O₈, бензофенона, моно-металлов и их сплавов из подгруппы Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Та, F, Ga, и W, а также их оксидов и сульфидов; при этом содержание указанного поглотителя ультрафиолета составляет от 0,003 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя; причем в качестве оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения используется материал из группы, включающей стекло из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковые пленки из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных, полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок; при этом электропроводящий слой токовведения состоит из материала группы прозрачных электропроводящих оксидов, включающей примесно-легированные оксиды ZnO, InO₃, SnO₂ и CdO, тройные соединения с Zn₂SnO₄, ZnSnO₃, Zn₂In₂O₅, Zn₃In₂O₆, In₂SnO₄, CdSnO₃ и многокомпонентные оксиды с комбинациями ZnO, In₂O₃ и SnO₂, при этом толщина стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля составляет от 0,01 мм до 28 мм, толщина УФ-блокирующего слоя составляет от 10 мкм до 18 мм, толщина оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения не превышает 28 мм, а толщина электропроводящего слоя токовведения составляет от 40 до 820 нм.In yet another embodiment of the technical result, the present invention provides a layered UV blocking material for an electrochromic module on glass containing a glass base for placing an electrochromic module on it, while on a glass base for placing an electrochromic module on it there is a multilayer sequence of individual layers in the following order from the surface of the glass base: UV blocking layer consisting of a polymer matrix and an ultraviolet absorber, optically ozrachnaya substrate for placing tokovvedeniya conductive layer and the conductive layer directly tokovvedeniya, thus, the polymer matrix is a UV-blocking layer comprises a substance selected from the group consisting of polyvinyl butyral, and copolymers, oligomeric monomer composition methyl methacrylate and methyl acrylate; and the ultraviolet absorber consists of a substance selected from the group: benzotriazoles with molecular gross formulas C ₄₁ H ₅₀ N ₆ O ₂ , C ₂₀ H ₂₃ N ₃ O ₃ , C ₃₀ H ₂₉ N ₃ O, C ₁₇ H ₁₈ ClN ₃ O , C ₂₇ H ₃₆ ClN ₃ O ₃ , triazines with an empirical molecular formula C ₈₁ H ₁₀₈ N ₆ O ₈ , benzophenone, mono-metals and their alloys from the subgroup Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Ta, F, Ga, and W, as well as their oxides and sulfides; wherein the content of said ultraviolet absorber is from 0.003 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer; moreover, as an optically transparent substrate for placement of the electrically conductive layer of current-conducting, material is used from the group including glass from a number of fluorine-silicate, sodium silicate or quartz glasses, as well as plastic films from a number of polyethylene terephthalate, polyvinyl butyral, ethylene vinyl acetate, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride polymethylmethacrylate or cellulose acetate films; the electrically conductive current-conducting layer consists of material from the group of transparent electrically conductive oxides, including impurity-doped oxides ZnO, InO ₃ , SnO ₂ and CdO, ternary compounds with Zn ₂ SnO ₄ , ZnSnO ₃ , Zn ₂ In ₂ O ₅ , Zn ₃ In ₂ O ₆ , In ₂ SnO ₄ , CdSnO ₃ and multicomponent oxides with combinations of ZnO, In ₂ O ₃ and SnO ₂ , while the thickness of the glass base for placement of the electrochromic module on it is from 0.01 mm to 28 mm, the thickness of the UV blocking the layer is from 10 μm to 18 mm, the thickness of the optically transparent substrate for accommodating the conductive layer is introduced it does not exceed 28 mm, and the thickness of the electrically conductive layer of current injection is from 40 to 820 nm.

Помимо этого, в частности, оптически-прозрачная подложка для размещения электропроводящего слоя токовведения может представлять собой два индивидуальных слоя-инкапсулятора, каждый из которых состоит из материала группы, включающей стекло из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковые пленки из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных, полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок; при этом оптически-прозрачная подложка расположена таким образом, что один из слоев-инкапсуляторов непосредственно контактирует с УФ-блокирующим слоем со стороны стеклянной основы слоистого УФ-блокирующего материала, а второй слой-инкапсулятор непосредственно контактирует с электропроводящим слоем токовведения с противоположной стороны, при этом слои-инкапсуляторы разделены между собой разделяющим газовым промежутком, выполняющим роль слоя-теплоизолятора, причем разделяющий газовый промежуток, выполняющий роль слоя-теплоизолятора, заполнен газом из группы: стабильных изотопов благородных инертных газов, а именно - Не, Ne, Ar, Хе, Kr; а также атмосферным воздухом, при этом толщины слоев-инкапсуляторов оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения не превышают 10 мм, а толщина разделяющего газового промежутка, выполняющего роль слоя-теплоизолятора, составляет не менее 2 мм.In addition, in particular, the optically transparent substrate for accommodating the electrically conductive current-conducting layer can be two individual encapsulator layers, each of which consists of a group material including glass from a number of fluorine-silicate, sodium-silicate or silica glasses, as well as plastic films from a number of polyethylene terephthalate, polyvinyl butyral, ethylene vinyl acetate, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polymethyl methacrylate or cellulose acetate films; wherein the optically transparent substrate is arranged such that one of the encapsulating layers directly contacts the UV blocking layer from the glass base side of the UV laminate, and the second encapsulating layer directly contacts the electrically conductive current conducting layer from the opposite side, the encapsulating layers are separated by a separating gas gap acting as a heat-insulating layer, and a separating gas gap acting as a heat-insulating layer and is filled with gas from the group of stable isotopes of inert noble gases, namely - Not, Ne, Ar, Xe, Kr; as well as atmospheric air, while the thickness of the encapsulator layers of the optically transparent substrate for accommodating the electrically conductive current-conducting layer does not exceed 10 mm, and the thickness of the separating gas gap, which acts as a thermal insulation layer, is at least 2 mm.

Кроме того, в еще одном частном случае, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле может включать в качестве дополнительной компоненты фотоинициатор, выбранный из группы 2,2-диметокси-2-фенилацетофенонов и 1-гидроксициклогексил фенил кетона, причем содержание указанного фотоинициатора составляет от 0,1 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.In addition, in another particular case, the polymer matrix of the UV blocking layer of the UV laminated blocking material for the electrochromic device on glass may include as an additional component a photoinitiator selected from the group of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenones and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, and the content of the specified photoinitiator is from 0.1 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer.

Наконец, в еще одном частном случае, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле может включать в качестве дополнительной компоненты растворитель, выбранный из группы 1,2-пропиленкарбоната, диметилсульфоксида, N-метилпирролидона, диметилформамида и диметилацетамида, причем содержание указанного расвторителя составляет от 5 до 90 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.Finally, in yet another particular case, the polymer matrix of the UV blocking layer of the UV laminate blocking material for an electrochromic device on glass may include, as additional components, a solvent selected from the group of 1,2-propylene carbonate, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and dimethylacetamide moreover, the content of the specified solvent is from 5 to 90 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer.

Использование в настоящем изобретении стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля обусловлено обеспечиваемым, таким образом, принципиальным выполнением соответствия эксплуатационным требованиям по отношению к итоговым сборкам электрохромных устройств с использованием описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, пригодных для изготовления конструкционных элементов светопрозрачных конструкций архитектурного и транспортного применений, а именно, в условиях, когда предполагается воздействие на устройство избыточных ветровых нагрузок в ряде экстерьерных архитектурных и транспортных применений в составе сборок светопрозрачных конструкций; а также, с точки зрения достаточной твердости, как характеристики устойчивости к царапанью, имеющей большое значение, например, с точки зрения устойчивости сборок светопрозрачных конструкций с использованием описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле по отношению к эродирующему воздействию мелкодисперсных взвесей твердых частиц - например, песка - в воздухе, также имеющему место в определенных частных случаях потенциальных экстерьерных архитектурных и транспортных применений. В случае использования стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля согласно настоящему изобретению, обеспечивается возможность достижения значений предела прочности на сжатие итоговой сборки слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, а также размещенного на ней электрохромного модуля от порядка 1000 МПа до порядка 8000 МПа, а также значений твердости поверхности такой сборки со стороны стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля обратной той, на которой размещается электрохромный модуль и располагается многослойная последовательность индивидуальных слоев многослойного УФ-блокирующего материала, составляющих порядка 5-8 единиц по шкале Мооса, в зависимости от конкретного типа используемого в качестве стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля стекла.The use in the present invention of a glass base for placing an electrochromic module on it is due to the ensured, thus, fundamental compliance with operational requirements in relation to the final assemblies of electrochromic devices using the described laminated UV blocking material for an electrochromic module on glass, suitable for the manufacture of structural elements of translucent designs of architectural and transport applications, namely, in conditions when the impact on the device of excessive wind loads in a number of exterior architectural and transport applications in the assembly of translucent structures; and also, from the point of view of sufficient hardness, as a characteristic of scratch resistance, which is of great importance, for example, from the point of view of the stability of assemblies of translucent structures using the described laminated UV blocking material for an electrochromic module on glass with respect to the eroding effect of fine suspensions of solid particles - for example, sand - in the air, which also occurs in certain special cases of potential exterior architectural and transport applications. In the case of using a glass base to place an electrochromic module on it according to the present invention, it is possible to achieve the compressive strength of the final assembly of the UV laminate for the electrochromic module on glass, as well as the electrochromic module placed on it, from about 1000 MPa to about 8000 MPa, as well as the values of the surface hardness of such an assembly from the side of the glass base to place on it an electrochromic module of the inverse of the one on which the electronic it is an electrochromic module and there is a multilayer sequence of individual layers of a multilayer UV-blocking material, comprising about 5-8 units on the Mohs scale, depending on the specific type used as a glass base for placing an electrochromic glass module on it.

При этом, поверх стеклянной основы располагается непосредственно УФ-блокирующий слой, обеспечивающий снижение уровня пропускания УФ-излучения при прохождении электромагнитного излучения сквозь многослойную структуру описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле согласно техническому результату настоящего изобретения. Причем данный УФ-блокирующий слой состоит из полимерной матрицы и непосредственно поглотителя ультрафиолета.At the same time, a UV blocking layer is directly placed on top of the glass base, which ensures a reduction in the level of transmission of UV radiation when electromagnetic radiation passes through the multilayer structure of the described layered UV blocking material for an electrochromic module on glass according to the technical result of the present invention. Moreover, this UV-blocking layer consists of a polymer matrix and directly an ultraviolet absorber.

Полимерная матрица выполняет роль основы УФ-блокирующего слоя описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле и состоит из вещества, выбранного из группы поливинилбутираля, а также сополимеров олигомерно-мономерной композиции метилметакрилата и метилакрилата. Использование сшитых полимеров из данной группы обеспечивает, за счет непосредственно эффекта сшивки, высокую степень механической стабильности непосредственно самого УФ-блокирующего слоя по отношению к растягивающим напряжениям, наряду с высокой адгезией между УФ-блокирующим слоем и соприлегающими к нему слоями многослойной структуры описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле: стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля, а также электропроводящего слоя токовведения - как непосредственно, так и размещенного на оптически прозрачной подложке, согласно варианту реализации настоящего изобретения, описываемому ниже. Наряду с этим, УФ-блокирующий слой многослойной структуры описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, в качестве основы которого используются полимерные матрицы из указанных веществ, характеризуется высокой прозрачностью в видимом диапазоне наряду со значениями величин оптических функций, при которых, для толщин УФ-блокирующего слоя лежащих в диапазоне допустимых значений, определенном и объясненном ниже, будет обеспечиваться протекание интерференционных процессов при прохождении сквозь многослойную структуру слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле электромагнитного излучения от внешних источников, способствующих возможности достижения заявленного в настоящем изобретении технического результата с точки зрения величины уровня поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн, а также стабильного уровня спектрального уширения в диапазоне длин волн от 420 нм до 700 нм.The polymer matrix acts as the basis for the UV blocking layer of the described layered UV blocking material for the electrochromic module on glass and consists of a substance selected from the group of polyvinyl butyral, as well as copolymers of the oligomer-monomer composition of methyl methacrylate and methyl acrylate. The use of crosslinked polymers from this group provides, due to the direct crosslinking effect, a high degree of mechanical stability of the UV blocking layer itself with respect to tensile stresses, along with high adhesion between the UV blocking layer and the adjacent layers of the multilayer structure of the described layered UV a blocking material for an electrochromic module on glass: a glass base for placing an electrochromic module on it, as well as an electrically conductive current-conducting layer - ak directly or placed on an optically transparent substrate, according to an embodiment of the present invention are described below. Along with this, the UV-blocking layer of the multilayer structure of the described layered UV-blocking material for the electrochromic module on glass, which are based on polymer matrices of these substances, is characterized by high transparency in the visible range along with the values of optical functions for which, for the thickness of the UV-blocking layer lying in the range of acceptable values, defined and explained below, will be the course of interference processes when passing through nogo-layer structure of a layered UV-blocking material for an electrochromic module on a glass of electromagnetic radiation from external sources, contributing to the possibility of achieving the claimed technical result in terms of the level of absorption of electromagnetic radiation in the visible wavelength range, as well as a stable level of spectral broadening in the length range waves from 420 nm to 700 nm.

В свою очередь, поглотитель ультрафиолета состоит из вещества, выбранного из группы: бензотриазолов с молекулярными брутто-формулами C₄₁H₅₀N₆O₂, C₂₀H₂₃N₃O₃, C₃₀H₂₉N₃O, C₁₇H₁₈ClN₃O, C₂₇H₃₆ClN₃O₃, триазинов с эмпирической молекулярной формулой C₈₁H₁₀₈N₆O₈, бензофенона, моно-металлов и их сплавов из подгруппы Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Та, F, Ga, и W, а также их оксидов и сульфидов. Данные вещества характеризуются большими значениями коэффициента экстинкции k, и, как следствие, высоким поглощением в диапазоне длин волн от 290 до 370 нм. Как было эмпирически выявлено, использование в качестве поглотителей ультрафиолета веществ указанной группы в концентрациях, по отношению к выступающей в качестве основы УФ-блокирующего слоя выше описанной полимерной матрицы, согласно диапазону, указанному и объясненному ниже, позволяет одновременно добиться низкого уровня пропускания УФ-излучения, а также низкого уровня мутности слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, согласно техническому результату настоящего изобретения, наряду с сохранением возможности обеспечения требуемого уровня поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн, а также стабильного уровня спектрального уширения в диапазоне длин волн от 400 нм до 750 нм, в случае одновременного поддержания толщин УФ-блокирующего слоя в диапазоне допустимых значений, определенном и объясненном ниже.In turn, the ultraviolet absorber consists of a substance selected from the group: benzotriazoles with molecular gross formulas C ₄₁ H ₅₀ N ₆ O ₂ , C ₂₀ H ₂₃ N ₃ O ₃ , C ₃₀ H ₂₉ N ₃ O, C ₁₇ H ₁₈ ClN ₃ O, C ₂₇ H ₃₆ ClN ₃ O ₃ , triazines with the empirical molecular formula C ₈₁ H ₁₀₈ N ₆ O ₈ , benzophenone, mono-metals and their alloys from the subgroup Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al , Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Ta, F, Ga, and W, as well as their oxides and sulfides. These substances are characterized by large values of the extinction coefficient k, and, as a consequence, high absorption in the wavelength range from 290 to 370 nm. As it was empirically revealed, the use of substances of the specified group as absorbers in ultraviolet radiation in concentrations relative to the UV-blocking layer acting as the basis for the above described polymer matrix, according to the range indicated and explained below, allows at the same time to achieve a low level of transmission of UV radiation, as well as a low level of turbidity of the layered UV-blocking material for the electrochromic module on glass, according to the technical result of the present invention, while maintaining the ability to provide the required level of absorption of electromagnetic radiation in the visible wavelength range, as well as a stable level of spectral broadening in the wavelength range from 400 nm to 750 nm, while maintaining the thickness of the UV blocking layer in the range of acceptable values defined and explained below.

При этом содержание поглотителя ультрафиолета в УФ-блокирующем слое должно поддерживаться в диапазоне от 0,003 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя. Указанный предел по нижней границе диапазона допустимых концентраций содержания поглотителя ультрафиолета в УФ-блокирующем слое связан с тем, что при меньшем содержании поглотителя ультрафиолета результирующая эффективность блокирования ультрафиолетового излучения описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле будет недостаточна для реализации технического результата настоящего изобретения. Так, согласно техническому результату настоящего изобретения, для обеспечения удовлетворительной временной и циклической функциональной стабильности электрохромного модуля при его солнечной экспозиции с точки зрения количества выдерживаемых циклов переключения, составляющего не менее 50000 циклов переключения между крайними положениями контраста электрохромного модуля, а также отсутствия ухудшения визуально наблюдаемых свойств электрохромного устройства на основе такого электрохромного модуля как в обесцвеченном, так и в окрашенном состояниях последнего по результату как минимум 5000 часов воздействия потока электромагнитного излучения в диапазоне от 300 нм до 900 нм общей мощностью 6500 Вт в температурном диапазоне от 40°С до 95°С и в диапазоне влажности окружающей среды от 5% до 95% (согласно стандартам ГОСТ Р 56773; ASTM Е2141-14), уровень пропускания УФ-излучения описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле должен характеризоваться величиной коэффициента полного интегрального пропускания ультрафиолета T_uv, не превышающей 40%. Как было эмпирически выявлено, достижение величин полного интегрального пропускания ультрафиолета T_uv меньше или равных этому значению реализуется для толщин УФ-блокирующего слоя в диапазоне допустимых значений, определенном и объясненном ниже, только в том случае, если концентрация содержащегося в УФ-блокирующем слое поглотителя ультрафиолета, состоящего из вещества перечисленной группы, составляет не менее 0,003 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя. В свою очередь при превышении верхнего предела по допустимому диапазону концентраций содержания поглотителя ультрафиолета в УФ-блокирующем слое, составляющего 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, сегрегационные эффекты вблизи границ УФ-блокирующего слоя, в т.ч. связанные с продолжительной по времени миграцией поглощающей ультрафиолет компоненты УФ-блокирующего слоя в полимерной матрице, провоцируемой экспонированием описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле солнечному излучению, будут приводить, как было эмпирически выявлено, к скачкообразному росту уровня мутности, с превышением им максимально допустимого граничного значения в 0,02 долей, согласно техническому результату настоящего изобретения. Таким образом, исходя из отмеченных ограничений, содержание поглотителя ультрафиолета в УФ-блокирующем слое должно поддерживаться в диапазоне от 0,003 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.The content of the ultraviolet absorber in the UV-blocking layer should be maintained in the range from 0.003 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV-blocking layer. The specified limit on the lower limit of the range of permissible concentrations of the ultraviolet absorber in the UV blocking layer is due to the fact that with a lower content of the ultraviolet absorber, the resulting ultraviolet blocking efficiency of the described laminated UV blocking material for the electrochromic module on glass will be insufficient to implement the technical result of the present invention . Thus, according to the technical result of the present invention, to ensure satisfactory temporal and cyclic functional stability of the electrochromic module during its solar exposure in terms of the number of withstand switching cycles of at least 50,000 switching cycles between the extreme positions of the contrast of the electrochromic module, as well as the absence of deterioration of visually observed properties an electrochromic device based on such an electrochromic module in both bleached and colored Ohms of the latter by the result of at least 5000 hours of exposure to electromagnetic radiation flux in the range from 300 nm to 900 nm with a total power of 6500 W in the temperature range from 40 ° C to 95 ° C and in the range of ambient humidity from 5% to 95% (according to standards GOST R 56773; ASTM E2141-14), the level of UV transmission of the described laminated UV blocking material for an electrochromic module on glass should be characterized by a value of the coefficient of the total integrated transmittance of ultraviolet T _uv , not exceeding 40%. As it was empirically revealed, the achievement of the total integrated ultraviolet transmittance T _uv less than or equal to this value is realized for the thickness of the UV blocking layer in the range of acceptable values defined and explained below, only if the concentration of the ultraviolet absorber contained in the UV blocking layer consisting of a substance of the listed group is at least 0.003 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer. In turn, when the upper limit on the permissible concentration range of the ultraviolet absorber concentration in the UV blocking layer is exceeded, which is 10 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer, segregation effects near the boundaries of the UV blocking layer, in t .h. associated with the long-term migration of ultraviolet-absorbing components of the UV-blocking layer in the polymer matrix, provoked by exposure of the described layered UV-blocking material for the electrochromic module on glass to solar radiation, will, as has been empirically revealed, lead to an abrupt increase in the level of turbidity, with the excess the maximum allowable boundary value of 0.02 shares, according to the technical result of the present invention. Thus, based on the noted limitations, the content of the ultraviolet absorber in the UV blocking layer should be maintained in the range from 0.003 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer.

При этом электропроводящий слой токовведения описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле необходим для обеспечения размещения непосредственно на нем применяемого электрохромного модуля, защита которого от пагубного ультрафиолетового излучения будет осуществляться слоистым УФ-блокирующим материалом, а также непосредственного обеспечения токовведения при подключении размещаемого на электропроводящем слое токовведения модуля к внешнему источнику питания для реализации его функционирования в рамках конечного эксплуатируемого устройства. Данный слой должен одновременно обладать высокой электропроводностью, характеризуемой низким коэффициентом поверхностного сопротивления не выше нескольких десятков Ом на квадрат, а также прозрачностью по отношению к видимому свету, с целью обеспечения возможности минимизации результирующего совокупного уровня поглощения электромагнитного излучения описываемым слоистым УФ-блокирующим материалом в видимом диапазоне длин волн, а также распространения стабильности уровня спектрального уширения на полный диапазон длин волн, по меньшей мере, от 420 нм до 700 нм, согласно техническому результату настоящего изобретения, за счет снижения вклада от поглощения излучения видимого диапазона длин волн спектра на электропроводящем слое токовведения. Согласно настоящему изобретению, электропроводящий слой токовведения должен состоять из материала группы прозрачных электропроводящих оксидов, включающей примесно-легированные оксиды ZnO, In₂O₃, SnO₂ и CdO, тройные соединения со Zn₂SnO₄, ZnSnO₃, Zn₂In₂O₅, Zn₃In₂O₆, In₂SnO₄, CdSnO₃ и многокомпонентные оксиды с комбинациями ZnO, In₂O₃ и SnO₂ Данные материалы, составляющие группу т.н. прозрачных токопроводящих оксидов (ТСО) отвечают двум ключевым требованиям, предъявляемым к электропроводящему слою токовведения в рамках настоящего изобретения: прозрачности по отношению к излучению видимого диапазона спектра, благодаря большой ширине запрещенной зоны от примерно 3,5-4 эВ, а также высокой их электрической проводимости, сравнимой с металлической и характеризуемой поверхностным сопротивлением от нескольких единиц Ом на квадрат, до примерно 50-60 Ом на квадрат, за счет выполнения легирующей компонентой оксидного сплава роли донора свободных электронов.In this case, the electrically conductive current conducting layer of the described layered UV blocking material for the electrochromic module on the glass is necessary to ensure that the applied electrochromic module is directly placed on it, which will be protected from harmful ultraviolet radiation by the layered UV blocking material, as well as directly providing current conductivity when connected to electrically conductive layer of the module current supply to an external power source for the implementation of its functional Ia operated within the final device. This layer should simultaneously have high electrical conductivity, characterized by a low coefficient of surface resistance not higher than several tens of Ohms per square, and also transparency with respect to visible light, in order to minimize the resulting cumulative absorption level of electromagnetic radiation by the described layered UV-blocking material in the visible range wavelengths, as well as extending the stability of the level of spectral broadening to the full range of wavelengths, at least at least from 420 nm to 700 nm, according to the technical result of the present invention, by reducing the contribution from the absorption of radiation of the visible range of wavelengths of the spectrum on the electrically conductive current-carrying layer. According to the present invention, the conductive conductive layer should consist of a material of a group of transparent conductive oxides, including impurity-doped oxides ZnO, In ₂ O ₃ , SnO ₂ and CdO, ternary compounds with Zn ₂ SnO ₄ , ZnSnO ₃ , Zn ₂ In ₂ O ₅ , Zn ₃ In ₂ O ₆ , In ₂ SnO ₄ , CdSnO ₃ and multicomponent oxides with combinations of ZnO, In ₂ O ₃ and SnO ₂ These materials that make up the so-called group transparent conductive oxides (TCO) meet two key requirements for the conductive current-conducting layer in the framework of the present invention: transparency in relation to the radiation of the visible spectrum, due to the large band gap of about 3.5-4 eV, as well as their high electrical conductivity comparable to metal and characterized by surface resistance from several units of Ohms per square, to about 50-60 Ohms per square, due to the alloying component of the oxide alloy po and a donor of free electrons.

При этом толщина стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле должна лежать в пределах от 0,01 мм до 28 мм. Требование к выдерживанию толщины стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля в указанном диапазоне значений продиктовано тем, что при превышении предела по верхней границе диапазона, составляющей 28 мм, будет наблюдаться существенное снижение уровня светопропускания в диапазоне длин волн электромагнитного излучения порядка 420-630 нм, связанное с поглощением проходящего излучения стекломассой. Кроме того, толща стекломассы будет также оказывать в этом случае значительный эффект на смещение пика поглощения результирующего слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле в сторону больших длин волн. В результате, совокупность данных эффектов будет приводить к невозможности достижения достаточно низкого уровня поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн, характеризующегося величиной интегрального поглощения А, не превышающей 14%, наряду с одновременно стабильным уровнем спектрального уширения в диапазоне длин волн от 420 нм до 700 нм, характеризующимся максимумом модуля разницы интенсивности светопропускания в данном диапазоне длин волн ΔT, не превышающим 0,18 долей, согласно техническому результату настоящего изобретения в том случае, если толщина стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля будет превышать максимально допустимый предел в 28 мм. С другой стороны, в том случае, если толщина стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле будет составлять менее 0,01 мм, такая основа не будет обеспечивать возможности достижения значений предела прочности на сжатие итоговой сборки слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле выше порядка 1000 МПа, что неудовлетворительно для случаев использования настоящего изобретения в качестве составного элемента светопрозрачных конструкций архитектурного и транспортного применений, т.е. в условиях, когда предполагается воздействие на устройство избыточных ветровых нагрузок в ряде экстерьерных архитектурных и транспортных применений в составе сборок светопрозрачных конструкций. Таким образом, толщину стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле следует поддерживать в граничных пределах от 0,01 мм до 28 мм.In this case, the thickness of the glass base for placement on it of the electrochromic module of the described layered UV blocking material for the electrochromic module on the glass should be in the range from 0.01 mm to 28 mm. The requirement to maintain the thickness of the glass base for placing an electrochromic module on it in the indicated range of values is dictated by the fact that if the limit is exceeded at the upper boundary of the range of 28 mm, there will be a significant decrease in light transmission in the wavelength range of electromagnetic radiation of about 420-630 nm, associated with the absorption of transmitted radiation by molten glass. In addition, the thickness of the glass melt will also have a significant effect in this case on the shift of the absorption peak of the resulting layered UV blocking material for the electrochromic module on the glass towards longer wavelengths. As a result, the combination of these effects will lead to the impossibility of achieving a sufficiently low level of absorption of electromagnetic radiation in the visible wavelength range, characterized by an integral absorption value A not exceeding 14%, along with a simultaneously stable level of spectral broadening in the wavelength range from 420 nm to 700 nm, characterized by a maximum modulus of the difference in light transmission intensity in this wavelength range ΔT, not exceeding 0.18 shares, according to the technical result of the present about the invention if the thickness of the glass base for placement on it of an electrochromic module will exceed the maximum allowable limit of 28 mm On the other hand, if the thickness of the glass base for placing the electrochromic module of the described laminated UV blocking material for the electrochromic module on the glass is less than 0.01 mm, such a base will not be able to achieve the ultimate compressive strength the assembly of a layered UV-blocking material for an electrochromic module on glass above about 1000 MPa, which is unsatisfactory for cases where the present invention is used as a component of light oprozrachnyh designs architectural and transportation applications, ie in conditions when it is assumed that the device will be exposed to excessive wind loads in a number of exterior architectural and transport applications as part of assemblies of translucent structures. Thus, the thickness of the glass base for placement on it of the electrochromic module of the described laminated UV blocking material for the electrochromic module on glass should be maintained within the boundary range from 0.01 mm to 28 mm.

При этом толщина УФ-блокирующего слоя должна составлять от 10 мкм до 18 мм. Это связано с тем, что в случае, если толщина УФ-блокирующего слоя описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле составляет менее 10 мкм, эффективность поглощения в нем электромагнитного излучения ультрафиолетовой части спектра, в особенности в диапазоне длин свыше 290 нм, как было эмпирически выявлено, недостаточна для того, чтобы добиться уровня пропускания УФ-излучения, характеризующегося величиной коэффициента полного интегрального пропускания ультрафиолета T_uv меньшей чем или равной 40%. С другой стороны, в случае превышения верхнего предела допустимого диапазона толщин УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, составляющего 18 мм, рост интенсивности рассеяния света сферической частицей по Ми в гетерогенной толще описываемого УФ-блокирующего слоя будет приводить к соответствующему росту уровня мутности свыше величины в 0,02 долей. Таким образом, исходя из вышеизложенных причин, достижение заявляемого технического результата настоящего изобретения возможно только в том случае, если толщина УФ-блокирующего слоя описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле лежит в пределах от 10 мкм до 18 мм.In this case, the thickness of the UV blocking layer should be from 10 μm to 18 mm. This is due to the fact that if the thickness of the UV-blocking layer of the described laminated UV-blocking material for the electrochromic module on the glass is less than 10 μm, the absorption efficiency in it of the electromagnetic radiation of the ultraviolet part of the spectrum, especially in the length range over 290 nm, as it was empirically revealed, it is insufficient to achieve a UV transmission level characterized by a total integrated ultraviolet transmission coefficient T _{uv of} less than or equal to 40%. On the other hand, if the upper limit of the thickness range of the UV blocking layer of the layered UV blocking material for the electrochromic module on glass is 18 mm, the increase in the intensity of light scattering by a spherical particle according to Mie in a heterogeneous thickness of the described UV blocking layer will lead to a corresponding increase in the turbidity level above a value of 0.02 fractions. Thus, based on the foregoing reasons, the achievement of the claimed technical result of the present invention is possible only if the thickness of the UV-blocking layer of the described laminated UV-blocking material for the electrochromic module on the glass is in the range from 10 μm to 18 mm.

Кроме того, толщина электропроводящего слоя токовведения должна составлять от 40 до 820 нм. Ограничение на данный диапазон допустимых толщин электропроводящего слоя токовведения связано с тем, что, в том случае, если его толщина составляет менее 40 нм, обеспечиваемая данным слоем величина электропроводимости будет слишком мала для реализации эффективного токовведения в размещаемый на описываемом слоистом УФ-блокирующем материале для электрохромного модуля на стекле электрохромный модуль от внешнего источника питания, необходимого для поддержания электрохимических обменных процессов в электрохромном модуле с целью его срабатывания. При этом, если толщина электропроводящего слоя токовведения описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле будет превышать значение в 820 нм, электропроводящий слой токовведения столь больших толщин, как проводник первого рода, будет характеризоваться крайне высокой спектральной характеристикой поглощения на длинах волн от порядка 450 нм в результате актов протекания резонансных осцилляционных процессов на межорбитальных электронных переходах в ходе преодоления электромагнитным излучением от внешних источников толщи электропроводящего слоя токовведения. В результате, величина интегрального поглощения А описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле будет выше значения в 14%; кроме того, достижение стабильности уровня спектрального уширения, проявляемой слоистым УФ-блокирующим материалом для электрохромного модуля на стекле в диапазоне длин волн от 420 нм до 700 нм, и характеризующейся максимумом модуля разницы интенсивности светопропускания в данном диапазоне длин волн ΔТ, не превышающим 0,18 долей, согласно техническому результату, на обеспечение реализации которого направлено настоящее изобретение, по нижней границе указанного диапазона длин волн электромагнитного излучения, составляющей 420 нм, будет принципиально невозможно. Исходя из этих факторов, было выработано требование к диапазону допустимых толщин электропроводящего слоя токовведения, которые должны лежать в пределе от 40 нм до 820 нм.In addition, the thickness of the electrically conductive current-conducting layer should be from 40 to 820 nm. The limitation on this range of permissible thicknesses of the electrically conductive current-conducting layer is due to the fact that, if its thickness is less than 40 nm, the value of the conductivity provided by this layer will be too small to realize effective current-carrying in an electrochromic material placed on the described laminated UV blocking material a module on glass an electrochromic module from an external power source necessary to maintain electrochemical metabolic processes in the electrochromic module with the aim of atyvaniya. Moreover, if the thickness of the electrically conductive current-conducting layer of the described layered UV-blocking material for the electrochromic module on glass exceeds 820 nm, the electrically conductive current-conducting layer of such large thicknesses as a first-type conductor will have an extremely high absorption spectral characteristic at wavelengths of the order of 450 nm as a result of acts of resonant oscillation processes at interorbital electronic transitions in the process of overcoming electromagnetic radiation from external sources of the thickness of the electrically conductive current-conducting layer. As a result, the integral absorption value A of the described laminated UV blocking material for the electrochromic module on glass will be higher than the value of 14%; in addition, achieving stability of the level of spectral broadening exhibited by the layered UV-blocking material for the electrochromic module on glass in the wavelength range from 420 nm to 700 nm, and characterized by a maximum modulus of the transmittance difference in this wavelength range ΔТ, not exceeding 0.18 shares, according to the technical result, the implementation of which the present invention is directed to ensure the implementation, at the lower boundary of the specified wavelength range of electromagnetic radiation, component 420 nm, there will be a prince pial impossible. Based on these factors, a requirement was developed for the range of permissible thicknesses of the electrically conductive layer of the current injection, which should lie in the range from 40 nm to 820 nm.

В частном случае, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле может включать в качестве дополнительной компоненты фотоинициатор, выбранный из группы 2,2-диметокси-2-фенилацетофенонов и 1-гидроксициклогексил фенил кетона. Данные фотоинициаторы служат для инициации радикальной полимеризации полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, состоящей из материала вышеперечисленной группы, причина выбора которой также приведена выше. Последнее позволяет обеспечить ускоренную стабилизацию слоевой структуры описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле наряду с одновременной максимизацией как когезии непосредственно УФ-блокирующего слоя, так и адгезии соприлегающих к нему стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля, а также электропроводящего слоя токовведения. При этом, использование конкретного фотоинициатора указанной группы позволяет избежать проблемы наложения существенной части спектра поглощения, относящейся к диапазону чувствительности фотоинициатора, на диапазон пика поглощения используемого в составе УФ-блокирующего слоя поглотителя ультрафиолета, состоящего, в свою очередь, из вещества, выбранного из группы: бензотриазолов с молекулярными брутто-формулами C₄₁H₅₀N₆O₂, C₂₀H₂₃N₃O₃, C₃₀H₂₉N₃O, C₁₇H₁₈ClN₃O, C₂₇H₃₆ClN₃O₃, триазинов с эмпирической молекулярной формулой C₈₁H₁₀₈N₆O₈, бензофенона, моно-металлов и их сплавов из подгруппы Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Та, F, Ga, и W, а также их оксидов и сульфидов, согласно приведенным выше причинам. В свою очередь концентрация входящего в состав полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя в качестве дополнительной компоненты фотоинициатора из указанной группы материалов должна находиться в пределах от 0,1 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя. Это связано с тем, что, в том случае, если концентрация фотоинициатора в составе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, толщина которого, как было указано и объяснено выше, должна составлять не менее 10 мкм, причем в составе слоя данной минимальной толщины должно присутствовать от 0,003 до 10 частей поглотителя ультрафиолета в расчете на 100 частей по массе основообразующей данный слой полимерной матрицы, составляет менее 0,1 частей по массе также из расчета на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, локальная плотность фотоинициатора в УФ-блокирующем слое, как было эмпирически выявлено, слишком мала, чтобы оказывать ожидаемый положительный эффект от его внедрения в состав полимерной матрицы. В свою очередь, если содержание фотоинициатора превышает значение массовой концентрации в 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, в окончательном, полностью отвержденном полимерном материале указанного состава будет присутствовать значительное количество остатков фотоинициатора, а также продуктов фотолиза инициатора. В соответствии с этим, конечная твердость полимерной основы УФ-блокирующего слоя описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле будет снижена, что, нежелательно с точки зрения обеспечения соответствия эксплуатационным требованиям по отношению к итоговым сборкам электрохромных устройств с использованием описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, пригодных для изготовления конструкционных элементов светопрозрачных конструкций архитектурного и транспортного применений. Кроме того, что более существенно, значительно возрастает степень эффективности сопутствующих неблагоприятных воздействий на спектрофотометрические качества полимерной матрицы и, как следствие, всего УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле в целом, выражающихся в ее пожелтении. В результате этого, соответственно, становится невозможным поддержание стабильного уровня спектрального уширения по отношению к проходящему сквозь УФ-блокирующий слой, и слоистый УФ-блокирующий материал для электрохромного модуля на стекле в целом, электромагнитному излучению, характеризующегося максимумом модуля разницы интенсивности светопропускания ΔT, не превышающим 0,18 долей, по правой границе заявленного согласно техническому результату настоящего изобретения требуемого диапазона длин волн электромагнитного спектра, составляющей 700 нм. В результате, конечный диапазон допустимых концентраций содержания указанного фотоинициатора в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле составляет от 0,1 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.In the particular case, the polymer matrix of the UV blocking layer of the UV laminate for the electrochromic device on glass may include as an additional component a photoinitiator selected from the group of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenones and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone. These photoinitiators serve to initiate the radical polymerization of the polymer matrix of the UV-blocking layer, consisting of the material of the above group, the reason for the choice of which is also given above. The latter allows for accelerated stabilization of the layer structure of the described layered UV-blocking material for an electrochromic device on glass, while maximizing both the cohesion of the directly UV-blocking layer and the adhesion of the adjacent glass base to place the electrochromic module on it, as well as the electrically conductive current-conducting layer . At the same time, the use of a specific photoinitiator of the indicated group allows avoiding the problem of overlapping a substantial part of the absorption spectrum, related to the sensitivity range of the photoinitiator, to the absorption peak range of the ultraviolet absorber used in the UV blocking layer, which, in turn, consists of a substance selected from the group: benzotriazoles with molecular gross formulas C ₄₁ H ₅₀ N ₆ O ₂ , C ₂₀ H ₂₃ N ₃ O ₃ , C ₃₀ H ₂₉ N ₃ O, C ₁₇ H ₁₈ ClN ₃ O, C ₂₇ H ₃₆ ClN ₃ O ₃ , triazines with the empirical molecular formula C ₈₁ H ₁₀₈ N ₆ O ₈ , benzophenone a, mono-metals and their alloys from the subgroup Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Ta, F, Ga, and W, as well as their oxides and sulfides, according to the above reasons. In turn, the concentration of the UV-blocking layer included in the polymer matrix as an additional component of the photoinitiator from this group of materials should be in the range from 0.1 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV-blocking layer. This is due to the fact that, if the concentration of the photoinitiator in the composition of the polymer matrix of the UV-blocking layer, the thickness of which, as indicated and explained above, should be at least 10 μm, and in the composition of the layer of this minimum thickness should be present from 0.003 to 10 parts of an ultraviolet absorber, based on 100 parts by weight of the backbone of this layer of the polymer matrix, is less than 0.1 parts by weight also based on 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer, the local photo density The initiator in the UV-blocking layer, as has been empirically revealed, is too small to have the expected positive effect of its incorporation into the composition of the polymer matrix. In turn, if the content of the photoinitiator exceeds the mass concentration of 10 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer, a significant amount of photoinitiator residues, as well as photolysis products, will be present in the final, fully cured polymer material of this composition initiator. Accordingly, the final hardness of the polymer base of the UV blocking layer of the described laminated UV blocking material for the electrochromic module on glass will be reduced, which is undesirable from the point of view of ensuring compliance with operational requirements with respect to the final assembly of electrochromic devices using the described laminated UV blocking material for an electrochromic module on glass, suitable for the manufacture of structural elements of translucent structures of architectural and trans sports applications. In addition, more significantly, the degree of effectiveness of the concomitant adverse effects on the spectrophotometric properties of the polymer matrix and, as a result, the entire UV-blocking layer of the layered UV-blocking material for the electrochromic module on the glass as a whole, expressed in yellowing, significantly increases. As a result of this, accordingly, it becomes impossible to maintain a stable level of spectral broadening with respect to passing through the UV blocking layer, and the layered UV blocking material for the electrochromic module on the glass as a whole, electromagnetic radiation, characterized by a maximum modulus of the transmittance difference ΔT not exceeding 0.18 shares, on the right border of the required range of wavelengths of the electromagnetic spectrum declared according to the technical result of the present invention, was as high as 700 nm. As a result, the final range of permissible concentrations of the specified photoinitiator in the polymer matrix of the UV blocking layer of the UV laminate for the electrochromic device on glass is from 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer .

В еще одном частном случае, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя может включать в качестве дополнительной компоненты пластификатор, выбранный из группы дибутилфталатов и диоктилфталатов. Использование пластификатора в составе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле обеспечивает ее дополнительную эластичность и пластическую упругость. Последнее может быть особенно желательно с точки зрения снижения величины паразитных растягивающих напряжений как непосредственно в УФ-блокирующем слое, так и на интерфейсе его границы с электропроводящим слоем токовведения, что дополнительно минимизирует вероятность эффекта температурно-индуцированной агрегации материала электропроводящего слоя токовведения в индивидуальные глобулярные образования с сопутствующей лавинообразной деградацией электропроводности слоя в ходе функционального циклирования токовведением в размещаемый на описываемом слоистом УФ-блокирующем материале для электрохромного модуля на стекле электрохромный модуль от внешнего источника питания, необходимым для поддержания электрохимических обменных процессов в электрохромном модуле с целью его срабатывания, но связанным с сопутствующей диссипацией тепловой энергии на паразитном контактном сопротивлении на электропроводящем слое токовведения. При этом, использование, в качестве дополнительно вводимого в состав полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя пластификатора, материалов указанной группы необходимо по причине их совместимости с основообразующими полимерами, допустимыми к использованию в настоящем патенте по выше изложенным причинам в качестве полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, состоящей из вещества, выбранного из группы поливинилбутираля, а также сополимеров олигомерно-мономерной композиции метилметакрилата и метилакрилата; а также низкой летучести и химической инертности. Эмпирическим путем доказано, что предложенные пластификаторы не оказывает отрицательного влияния на молекулярную массу и термостойкость основообразующей полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя. Кроме того, кинетические данные свидетельствуют об удовлетворительной способности предложенных пластификаторов регулировать скорость полимеризации при введении их в состав полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле. При этом концентрация содержания пластификатора должна составлять от 2 до 50 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя. При превышении верхнего предела указанного диапазона допустимой концентрации пластификатора в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя, составляющего 50 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, приводит, как было выявлено, за счет интенсивной миграции высококонцентрированных несвязанных компонент пластификатора на поверхность слоеобразующей полимерной матрицы, к ухудшению адгезии между УФ-блокирующим слоем и соприлегающими ему слоями слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле: стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля с одной стороны, и электропроводящего слоя токовведения с другой. Последнее приводит к локальной дефолиации, и, как следствие, агрегации электропроводящего слоя токовведения в ходе его функционального циклирования приложением и снятием питающего напряжения от внешнего источника питания с сопутствующим превышением предельного допустимого предела по оптической мутности описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, составляющим 0,02 долей согласно техническому результату настоящего изобретения. Помимо этого, превышение верхнего предела диапазона допустимых концентраций пластификатора в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя приводит к ухудшению теплостойкости используемой полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя. В свою очередь при концентрациях пластификатора в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя меньше минимально допустимого уровня, составляющего 2 части по массе пластификатора в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, продолжительная потеря в массе пластификатора в ходе эксплуатации светопрозрачных конструкций с электрохромными устройствами, включающими описываемый слоистый УФ-блокирующий материал для электрохромного модуля на стекле, в т.ч. в условиях суточного и годового перепадов температур, будет приводить к ухудшению механических свойств полимерной основы УФ-блокирующего слоя, а именно - его пластической упругости, на достижение которой направлено введение пластификатора в качестве дополнительной компоненты в составе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.In another particular case, the polymer matrix of the UV blocking layer may include, as an additional component, a plasticizer selected from the group of dibutyl phthalates and dioctyl phthalates. The use of a plasticizer in the polymer matrix of the UV-blocking layer of the described laminated UV-blocking material for the electrochromic module on glass provides its additional elasticity and plastic elasticity. The latter may be particularly desirable from the point of view of reducing the magnitude of parasitic tensile stresses both directly in the UV-blocking layer and at the interface of its boundary with the electrically conductive current-carrying layer, which further minimizes the likelihood of the effect of temperature-induced aggregation of the material of the electrically conductive current-carrying layer into individual globular formations with concomitant avalanche degradation of the electrical conductivity of the layer during functional cycling by current injection in th to the described layered UV-blocking material for the electrochromic module on glass electrochromic module from the external power source required to maintain the electrochemical metabolic processes in the electrochromic unit for the purpose of its actuation, but associated with concomitant dissipation of thermal energy in parasitic contact resistance for the electrically conductive layer tokovvedeniya. At the same time, the use of materials of this group as an additionally introduced into the polymer matrix UV-blocking layer of a plasticizer is necessary because of their compatibility with base-forming polymers acceptable for use in the present patent for the above reasons as a polymer matrix of a UV-blocking layer, consisting of a substance selected from the group of polyvinyl butyral, as well as copolymers of the oligomer-monomer composition of methyl methacrylate and methyl acrylate; as well as low volatility and chemical inertness. Empirically it is proved that the proposed plasticizers do not adversely affect the molecular weight and heat resistance of the base polymer matrix of the UV blocking layer. In addition, kinetic data indicate a satisfactory ability of the proposed plasticizers to regulate the polymerization rate when they are introduced into the polymer matrix of a UV blocking layer of the described laminated UV blocking material for an electrochromic module on glass. The concentration of the plasticizer should be from 2 to 50 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer. When the upper limit of the specified range of the permissible concentration of plasticizer in the polymer matrix of the UV blocking layer is exceeded, which is 50 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer, it was found to be due to intensive migration of highly concentrated unbound plasticizer components on the surface of the layer-forming polymer matrix, to deterioration of adhesion between the UV-blocking layer and the adjacent layers of the layered UV-blocking material for electrochrome th module on the glass: the glass substrate to be placed on her electrochromic module with one hand, and an electrically conductive layer on the other tokovvedeniya. The latter leads to local defoliation, and, as a result, aggregation of the electrically conductive current-conducting layer during its functional cycling by application and removal of the supply voltage from an external power source with a concomitant excess of the maximum permissible optical turbidity limit of the described layered UV-blocking material for an electrochromic module on glass, constituting 0.02 shares according to the technical result of the present invention. In addition, exceeding the upper limit of the range of permissible concentrations of plasticizer in the polymer matrix of the UV blocking layer leads to a deterioration in the heat resistance of the used polymer matrix of the UV blocking layer. In turn, when the concentration of plasticizer in the polymer matrix of the UV blocking layer is less than the minimum acceptable level of 2 parts by weight of plasticizer per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer, a prolonged loss in the mass of plasticizer during the operation of translucent structures with electrochromic devices including the described laminated UV blocking material for an electrochromic module on glass, including under the conditions of daily and annual temperature differences, it will lead to a deterioration in the mechanical properties of the polymer base of the UV blocking layer, namely, its plastic elasticity, the achievement of which is directed to the introduction of a plasticizer as an additional component in the polymer matrix of the UV blocking layer.

Кроме того, в еще одном частном случае, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле может включать в качестве дополнительной компоненты растворитель, выбранный из группы 1,2-пропиленкарбоната, диметилсульфоксида, N-метилпирролидона, диметилформамида и диметилацетамида. Использование растворителя в качестве дополнительной компоненты полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя способствует лучшей гомогенности распределения поглотителя ультрафиолета в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя и может в результате обеспечить дополнительной совокупное улучшение результирующих функциональных спектрофотометрических характеристик описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле, а именно: снижение уровня пропускания УФ-излучения наряду с одновременным уменьшением уровня мутности. Использование растворителей указанной группы инертных веществ обусловлено совокупностью ряда характеризующих их факторов, а именно: непосредственно инертностью данных растворителей наряду с характерными для них качествами полярных, апротонных растворителей, а также высоким значением диэлектрической постоянной и высокой диэлектрической проницаемостью, за счет чего они являются растворителями, пригодными для выбранных в качестве используемых сшитых полимеров слоеобразующей полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, состоящей из вещества, выбранного из группы поливинилбутираля, а также сополимеров олигомерно-мономерной композиции метилметакрилата и метилакрилата. Помимо этого, их относительно высокая полярность позволяет им создавать в целом инертные сольватирующие оболочки относительно входящего в состав УФ-поглощающего слоя поглотителя ультрафиолета из группы бензотриазолов с молекулярными брутто-формулами C₄₁H₅₀N₆O₂, C₂₀H₂₃N₃O₃, C₃₀H₂₉N₃O, C₁₇H₁₈ClN₃O, C₂₇H₃₆ClN₃O₃, триазинов с эмпирической молекулярной формулой C₈₁H₁₀₈N₆O₈, бензофенона, моно-металлов и их сплавов из подгруппы Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Та, F, Ga, и W, а также их оксидов и сульфидов, обеспечивая, таким образом, их лучшую искомую гомогенность. При этом концентрация содержания растворителя в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя может быть подобрана в рамках указанных допустимых пределов таким образом, чтобы обеспечить оптимальный уровень пластичности полимерной матрицы в ходе формирования УФ-блокирующего слоя на стеклянной основе описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, исходя из выбранного способа изготовления данного слоя и его толщины, лежащей в пределах обозначенного и объясненного выше диапазона. Тем не менее, концентрация содержания растворителя в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя в случае его добавления должна находиться в пределах от 5 до 90 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя. Ограничение по нижней границе указанного диапазона связано, по аналогии с изложенным выше для случая введения в состав полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя фотоинициатора, с тем, что в том случае, если концентрация растворителя в составе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, толщина которого, как было указано и объяснено выше, должна составлять не менее 10 мкм, причем в составе слоя данной минимальной толщины должно присутствовать от 0,003 до 10 частей поглотителя ультрафиолета в расчете на 100 частей по массе основообразующей данный слой полимерной матрицы, составляет менее 5 частей по массе также из расчета на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, локальная плотность растворителя в УФ-блокирующем слое, как было эмпирически выявлено, слишком мала, чтобы оказывать ожидаемый положительный эффект от его внедрения в состав полимерной матрицы. При этом, в случае превышения верхнего предела концентрации содержания растворителя в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя, составляющего 90 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, результирующая пластическая текучесть основообразующей полимерной матрицы и, как следствие, УФ-блокирующего слоя в целом во всем выше отмеченном и объясненном диапазоне допустимых толщин УФ-блокирующего слоя вплоть до верхней границы допустимой толщины, составляющей 18 мм, будет чрезмерно велика, в результате чего будет проявляться эффект анизотропии толщины УФ-блокирующего слоя по площади поверхности стеклянной основы слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле с соответствующей неравномерностью как уровня пропускания УФ-излучения, так и уровня поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн по площади поверхности стеклянной основы слоистого УФ-блокирующего материала. В результате, конечный диапазон допустимых концентраций содержания указанного растворителя в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле должен составлять от 5 до 90 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя.In addition, in another particular case, the polymer matrix of the UV blocking layer of the UV laminated blocking material for an electrochromic device on glass may include as an additional component a solvent selected from the group of 1,2-propylene carbonate, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and dimethylacetamide. The use of a solvent as an additional component of the polymer matrix of the UV blocking layer promotes better homogeneity of the distribution of the ultraviolet absorber in the polymer matrix of the UV blocking layer and can result in additional cumulative improvement in the resulting functional spectrophotometric characteristics of the described layered UV blocking material for an electrochromic device on glass, and namely: lowering the level of transmittance of UV radiation while reducing m turbidity. The use of solvents of this group of inert substances is due to a combination of a number of factors characterizing them, namely: the direct inertness of these solvents along with their characteristic qualities of polar, aprotic solvents, as well as a high dielectric constant and high dielectric constant, due to which they are solvents suitable for selected as used cross-linked polymers, a layer-forming polymer matrix of a UV-blocking layer consisting of a substance selected from the group of polyvinyl butyral, as well as copolymers of the oligomer-monomer composition of methyl methacrylate and methyl acrylate. In addition, their relatively high polarity allows them to create generally inert solvation shells relative to the ultraviolet absorber from the benzotriazole group with molecular gross formulas C ₄₁ H ₅₀ N ₆ O ₂ , C ₂₀ H ₂₃ N ₃ O _3, which is part of the UV absorbing layer , C ₃₀ H ₂₉ N ₃ O, C ₁₇ H ₁₈ ClN ₃ O, C ₂₇ H ₃₆ ClN ₃ O ₃ , triazines with the empirical molecular formula C ₈₁ H ₁₀₈ N ₆ O ₈ , benzophenone, mono-metals and their alloys from the subgroup Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Ta, F, Ga, and W, as well as their oxides and sulfides, thus providing their best desired homogeneously st. In this case, the concentration of solvent in the polymer matrix of the UV blocking layer can be selected within the specified allowable limits in such a way as to provide the optimum level of plasticity of the polymer matrix during the formation of the UV blocking layer on a glass basis of the described laminated UV blocking material for the electrochromic module glass, based on the selected method of manufacturing this layer and its thickness, lying within the designated and explained above range. However, the concentration of solvent in the polymer matrix of the UV blocking layer, if added, should be in the range of 5 to 90 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer. The restriction on the lower boundary of the specified range is related, by analogy with the above, for the case of introducing a UV blocking photoinitiator layer into the polymer matrix, so that if the concentration of solvent in the polymer matrix is a UV blocking layer, the thickness of which, as It was indicated and explained above that it should be at least 10 microns, and in the composition of the layer of this minimum thickness should be present from 0.003 to 10 parts of the ultraviolet absorber per 100 parts by weight of the base forming this layer th polymer matrix is less than 5 parts by weight also based on 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer, the local density of the solvent in the UV blocking layer was empirically revealed to be too small to have the expected positive effect from its introduction into the composition of the polymer matrix. In this case, if the upper limit of the concentration of solvent in the polymer matrix of the UV blocking layer is exceeded, which is 90 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer, the resulting plastic fluidity of the base polymer matrix and, as a result, UV -blocking layer as a whole in the entire above noted and explained range of permissible thicknesses of the UV-blocking layer up to the upper limit of the permissible thickness of 18 mm will be excessively large, as a result which will show the effect of anisotropy of the thickness of the UV blocking layer over the surface area of the glass base of the layered UV blocking material for the electrochromic module on glass with the corresponding unevenness of both the level of transmission of UV radiation and the level of absorption of electromagnetic radiation in the visible wavelength range over the glass surface basics of layered UV blocking material. As a result, the final range of permissible concentrations of the specified solvent in the polymer matrix of the UV blocking layer of the UV laminate for the electrochromic device on glass should be from 5 to 90 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer.

В еще одном варианте настоящего изобретения предлагается, что, поскольку толщина электропроводящего слоя токовведения слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле крайне мала и лежит, согласно вышеописанному диапазону допустимых значений толщин, в субмикронном масштабе величины, может быть полезно разместить электропроводящий слой токовведения на специальной оптически-прозрачной подложке.In yet another embodiment of the present invention, it is proposed that since the thickness of the electrically conductive current conducting layer of the laminated UV blocking material for the electrochromic module on glass is extremely small and lies, according to the above range of acceptable thicknesses, on a submicron scale of magnitude, it may be useful to place the conductive current conducting layer on special optically transparent substrate.

При этом требования к перечню, последовательности, составу и толщинам всех прочих слоев слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле аналогичны первому варианту достижения технического результата настоящего изобретения и продиктованы теми же причинами, изложенными и объясненными выше:In this case, the requirements for the list, sequence, composition and thickness of all other layers of the layered UV-blocking material for the electrochromic module on glass are similar to the first embodiment of the technical result of the present invention and are dictated by the same reasons set forth and explained above:

Таким образом, предлагается слоистый УФ-блокирующий материал для электрохромного модуля на стекле содержащий стеклянную основу для размещения на ней электрохромного модуля, при этом на стеклянной основе для размещения на ней электрохромного модуля расположена многослойная последовательность индивидуальных слоев в следующем порядке от поверхности стеклянной основы: УФ-блокирующий слой, состоящий из полимерной матрицы и поглотителя ультрафиолета, оптически прозрачная подложка для размещения электропроводящего слоя токовведения и непосредственно электропроводящий слой токовведения, при этом, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя состоит из вещества, выбранного из группы поливинилбутираля, а также сополимеров олигомерно-мономерной композиции метилметакрилата и метилакрилата; а поглотитель ультрафиолета состоит из вещества, выбранного из группы: бензотриазолов с молекулярными брутто-формулами C₄₁H₅₀N₆O₂, C₂₀H₂₃N₃O₃, C₃₀H₂₉N₃O, C₁₇H₁₈ClN₃O, C₂₇H₃₆ClN₃O₃, триазинов с эмпирической молекулярной формулой C₈₁H₁₀₈N₆O₈, бензофенона, моно-металлов и их сплавов из подгруппы Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Та, F, Ga, и W, а также их оксидов и сульфидов; при этом содержание указанного поглотителя ультрафиолета составляет от 0,003 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя; причем в качестве оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения используется материал из группы, включающей стекло из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковые пленки из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных, полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок; при этом электропроводящий слой токовведения состоит из материала группы прозрачных электропроводящих оксидов, включающей примесно-легированные оксиды ZnO, In₂O₃, SnO₂ и CdO, тройные соединения с Zn₂SnO₄, ZnSnO₃, Zn₂In₂O₅, Zn₃In₂O₆, In₂SnO₄, CdSnO₃ и многокомпонентные оксиды с комбинациями ZnO, In₂O₃ и SnO₂, при этом толщина стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля составляет от 0,01 мм до 28 мм, толщина УФ-блокирующего слоя составляет от 10 мкм до 18 мм, толщина оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения не превышает 28 мм, а толщина электропроводящего слоя токовведения составляет от 40 до 820 нм.Thus, a layered UV-blocking material for an electrochromic module on glass is proposed containing a glass base for placing an electrochromic module on it, while on a glass base for placing an electrochromic module on it there is a multilayer sequence of individual layers in the following order from the surface of the glass base: UV- a blocking layer consisting of a polymer matrix and an ultraviolet absorber, an optically transparent substrate for accommodating an electrically conductive current-conducting layer and directly conductive current-conducting layer, while the polymer matrix of the UV-blocking layer consists of a substance selected from the group of polyvinyl butyral, as well as copolymers of the oligomer-monomer composition of methyl methacrylate and methyl acrylate; and the ultraviolet absorber consists of a substance selected from the group: benzotriazoles with molecular gross formulas C ₄₁ H ₅₀ N ₆ O ₂ , C ₂₀ H ₂₃ N ₃ O ₃ , C ₃₀ H ₂₉ N ₃ O, C ₁₇ H ₁₈ ClN ₃ O , C ₂₇ H ₃₆ ClN ₃ O ₃ , triazines with an empirical molecular formula C ₈₁ H ₁₀₈ N ₆ O ₈ , benzophenone, mono-metals and their alloys from the subgroup Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Ta, F, Ga, and W, as well as their oxides and sulfides; wherein the content of said ultraviolet absorber is from 0.003 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer; moreover, as an optically transparent substrate for placement of the electrically conductive layer of current-conducting, material is used from the group including glass from a number of fluorine-silicate, sodium silicate or quartz glasses, as well as plastic films from a number of polyethylene terephthalate, polyvinyl butyral, ethylene vinyl acetate, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride polymethylmethacrylate or cellulose acetate films; wherein the electrically conductive current-conducting layer consists of material from the group of transparent electrically conductive oxides, including impurity-doped oxides ZnO, In ₂ O ₃ , SnO ₂ and CdO, ternary compounds with Zn ₂ SnO ₄ , ZnSnO ₃ , Zn ₂ In ₂ O ₅ , Zn ₃ In ₂ O ₆ , In ₂ SnO ₄ , CdSnO ₃ and multicomponent oxides with combinations of ZnO, In ₂ O ₃ and SnO ₂ , while the thickness of the glass base for placement of the electrochromic module on it is from 0.01 mm to 28 mm, the thickness of UV -blocking layer is from 10 μm to 18 mm, the thickness of the optically transparent substrate to accommodate the conductive layer of the current lead Nia does not exceed 28 mm, and the thickness of the electroconductive layer tokovvedeniya is from 40 to 820 nm.

Размещение электропроводящего слоя токовведения на предназначенной для этого оптически-прозрачной подложке позволит предотвратить вероятность эффекта агрегации материала электропроводящего слоя токовведения в индивидуальные глобулярные образования с сопутствующей лавинообразной деградацией электропроводности слоя, который может протекать в случае использования электропроводящего слоя токовведения слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле толщиной близкой к предельно допустимому значению по нижней границе разрешенного и объясненного выше диапазона. При этом, оптически-прозрачная подложка располагается таким образом, что она непосредственно контактирует с УФ-блокирующим слоем со стороны стеклянной основы слоистого УФ-блокирующего материала и с размещенным на ней электропроводящим слоем токовведения с противоположной стороны, причем в качестве оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения используется материал из группы, включающей стекло из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковые пленки из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных, полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок. Использование материалов данной группы обусловлено тем, что при использовании в качестве оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения стекла из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковых пленок из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных,Placing the electrically conductive current-conducting layer on an optically transparent substrate intended for this will prevent the likelihood of aggregation of the material of the electrically conductive current-introducing layer into individual globular formations with the concomitant avalanche-like degradation of the electrical conductivity of the layer, which can occur if an electrically conductive laminated UV-blocking current-conducting layer is used for the electrochromic module glass with a thickness close to the maximum permissible value for within the range allowed and explained above. At the same time, the optically transparent substrate is positioned so that it directly contacts the UV blocking layer on the side of the glass base of the laminated UV blocking material and with the electrically conductive current-conducting layer placed on it from the opposite side, and as an optically transparent substrate for placement the electrically conductive current-conducting layer uses material from the group including glass from a number of fluorine-silicate, sodium silicate or quartz glasses, as well as plastic films from a number lietilentereftalatnyh, PVB, ethylene-vinyl acetate, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polymethyl methacrylate or cellulose acetate films. The use of materials of this group is due to the fact that when used as an optically transparent substrate for the placement of an electrically conductive layer of current-conducting glass from a number of fluorosilicate, sodium silicate or quartz glasses, as well as plastic films from a number of polyethylene terephthalate, polyvinyl butyral, ethylene vinyl acetate,

полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок, обеспечивается достаточный для поддержания стабильности многослойной структуры описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, с точки зрения предотвращения возможной локальной или полной дефолиации, и, как следствие, агрегации электропроводящего слоя токовведения в ходе его функционального циклирования приложением и снятием питающего размещаемый на слоистом УФ-блокирующем материале электрохромный модуль напряжения от внешнего источника питания, уровень адгезии между оптически-прозрачной подложкой для размещения электропроводящего слоя токовведения и непосредственно прилегающим к ее поверхности электропроводящим слоем токовведения слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, состоящим из материала группы, приведенной и обоснованной выше. В случае настоящего изобретения, адгезионные качества группы материалов, подходящих для использования в качестве электропроводящего слоя токовведения по вышеизложенным причинам - примесно-легированных оксидов ZnO, In₂O₃, SnO₂ и CdO, тройных соединений с Zn₂SnO₄, ZnSnO₃, Zn₂In₂O₅, Zn₃In₂O₆, In₂SnO₄, CdSnO₃ и многокомпонентных оксидов с комбинациями ZnO, In₂O₃ и SnO₂, по отношению к перечисленным подходящим к использованию материалам оптически-прозрачной подложки для размещения на ней электропроводящего слоя токовведения, аналогичны таковым по отношению также, непосредственно, к описанному выше УФ-блокирующему слою, что обеспечивается образованием, преимущественно, ковалентных полярных связей между оптически-прозрачной подложкой и атомами размещаемого на ней электропроводящего слоя токовведения. Одновременно с этим, при использовании в качестве оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения материала из группы, включающей стекло из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковые пленки из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных, полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок, сохраняется также, за счет их высокой прозрачности в видимом диапазоне длин волн электромагнитного излучения и, в общем случае, малых значений коэффициента преломления, близких к n=1, возможность достижения совокупности прочих спектрофотометрических характеристик слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, обеспечивающих реализацию технического результата согласно настоящему изобретению.polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polymethylmethacrylate or cellulose acetate films are sufficient to maintain the stability of the multilayer structure of the described laminated UV blocking material for the electrochromic module on glass, from the point of view of preventing possible local or complete defoliation, and, as a result, aggregation of the conductive layer during its functional cycling by application and removal of the feed placed on a layered UV-blocking material the electrochromic voltage module from an external power source, the adhesion level between the optically transparent substrate for placement of the electrically conductive current-conducting layer and the electrically conductive current-conducting layer directly adjacent to its surface of the laminated UV-blocking material for the electrochromic module on glass, consisting of the material of the group given and justified above. In the case of the present invention, the adhesion properties of a group of materials suitable for use as an electrically conductive current-conducting layer for the above reasons are impurity-doped oxides ZnO, In ₂ O ₃ , SnO ₂ and CdO, ternary compounds with Zn ₂ SnO ₄ , ZnSnO ₃ , Zn ₂ In ₂ O ₅ , Zn ₃ In ₂ O ₆ , In ₂ SnO ₄ , CdSnO ₃ and multicomponent oxides with combinations of ZnO, In ₂ O ₃ and SnO ₂ , in relation to the above-mentioned suitable materials of an optically transparent substrate for placement on conductive current-conducting layer, similar to those with respect to t also directly to the UV blocking layer described above, which is ensured by the formation of predominantly covalent polar bonds between the optically transparent substrate and the atoms of the electrically conductive current-conducting layer placed on it. At the same time, when used as an optically transparent substrate for placing an electrically conductive layer of current-conducting material from the group including glass from a number of fluorine-silicate, sodium silicate or quartz glasses, as well as plastic films from a number of polyethylene terephthalate, polyvinyl butyral, ethylene vinyl acetate, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polymethylmethacrylate or cellulose acetate films is also retained due to their high transparency in the visible wavelength range of ele netic radiation and, in general, small values of the refractive index close to n = 1, the ability to achieve a plurality of points of the spectrophotometric characteristics of the laminated UV-blocking material for the electrochromic glass modules that implement the technical result of the present invention.

При этом толщина оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения не должна превышать 28 мм. Это ограничение связано с причинами, аналогичными тем, что накладывают сходное ограничение на предельную верхнюю границу диапазона допустимых толщин стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, и изложенным выше. При превышении предельного значения толщины, составляющего 28 мм, будет наблюдаться существенное снижение уровня светопропускания в диапазоне длин волн электромагнитного излучения порядка 420-630 нм, связанное с поглощением проходящего излучения толщей оптически-прозрачной подложки из указанной группы материалов для размещения электропроводящего слоя токовведения. Кроме того, среда оптически-прозрачной подложки будет также оказывать в этом случае значительный эффект на смещение пика поглощения результирующего слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле в сторону больших длин волн. В результате, совокупность данных эффектов будет приводить к невозможности достижения достаточно низкого уровня поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн, характеризующегося величиной интегрального поглощения А, не превышающей 14%, наряду с одновременно стабильным уровнем спектрального уширения в диапазоне длин волн от 420 нм до 700 нм, характеризующимся максимумом модуля разницы интенсивности светопропускания в данном диапазоне длин волн ΔT, не превышающим 0,18 долей, согласно техническому результату настоящего изобретения.At the same time, the thickness of the optically transparent substrate for accommodating the electrically conductive current-conducting layer should not exceed 28 mm. This limitation is related to reasons similar to those that impose a similar limitation on the limiting upper limit of the range of permissible thicknesses of the glass base for placing on it an electrochromic module of the described laminated UV blocking material for an electrochromic module on glass, and described above. If the limit value of the thickness of 28 mm is exceeded, there will be a significant decrease in the level of light transmission in the wavelength range of electromagnetic radiation of the order of 420-630 nm, associated with the absorption of transmitted radiation by the thickness of the optically transparent substrate from this group of materials to accommodate the electrically conductive layer of the current-conducting layer. In addition, the medium of the optically transparent substrate will also have a significant effect in this case on the shift of the absorption peak of the resulting layered UV blocking material for the electrochromic module on the glass towards longer wavelengths. As a result, the combination of these effects will lead to the impossibility of achieving a sufficiently low level of absorption of electromagnetic radiation in the visible wavelength range, characterized by an integral absorption value A not exceeding 14%, along with a simultaneously stable level of spectral broadening in the wavelength range from 420 nm to 700 nm, characterized by a maximum modulus of the difference in light transmission intensity in this wavelength range ΔT, not exceeding 0.18 shares, according to the technical result of the present about the invention.

Кроме того, возможен частный случай, когда оптически-прозрачная подложка для размещения электропроводящего слоя токовведения может представлять собой два индивидуальных слоя-инкапсулятора, разделенных между собой разделяющим газовым промежутком, выполняющим роль слоя-теплоизолятора. При этом оптически-прозрачная подложка расположена таким образом, что один из слоев-инкапсуляторов непосредственно контактирует с УФ-блокирующим слоем со стороны стеклянной основы слоистого УФ-блокирующего материала, а второй слой-инкапсулятор непосредственно контактирует с электропроводящим слоем токовведения с противоположной стороны, а между собой слои-инкапсуляторы разделены газовым промежутком. Разделение оптически-прозрачной подложки на два индивидуальных слоя-инкапсулятора, предназначенных, помимо непосредственно размещения на них электропроводящего слоя токовведения, также для инкапсулирования находящегося между ними газового промежутка, выполняющего роль слоя-теплоизолятора, дополнительно обеспечивает, за счет введения в структуру слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле теплоизолирующего газового слоя, такие полезные эффекты, как повышение теплоизоляционных свойств результирующих светопрозрачных конструкций, включающих сборки электрохромных устройств с использованием описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, повышение, в результате этого, обеспечиваемой ими звукоизоляции и защиты интерьеров от холода и избыточного проникновения солнечного тепла, а также повышение устойчивости непосредственно многослойной структуры описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле и, как следствие, размещаемого на ней электрохромного модуля, к резким перепадам температуры и рискам пагубного воздействия на функциональную стабильность электрохромных модулей влаги за счет снижения вероятности образования конденсата. При этом каждый из слоев-инкапсуляторов должен состоять из материала из группы, включающей стекло из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковые пленки из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных, полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок. Причины использования материалов данной группы в качестве материалов каждого из слоев-инкапсуляторов описываемой, включающей разделяющий газовый промежуток, оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения аналогичны таковым для непосредственно второго варианта достижения технического результата согласно настоящему изобретению - т.е. случая использования в составе многослойной структуры слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения - приведенным выше, и обусловлены тем, что, во-первых, при использовании в качестве слоев-инкапсуляторов оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения стекла из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковых пленок из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных,In addition, a special case is possible when an optically transparent substrate for accommodating an electrically conductive current-conducting layer can be two individual encapsulator layers separated by a separating gas gap, which acts as a heat-insulating layer. In this case, the optically transparent substrate is positioned in such a way that one of the encapsulating layers directly contacts the UV blocking layer on the side of the glass base of the laminated UV blocking material, and the second encapsulating layer directly contacts the electrically conductive current-conducting layer on the opposite side, and between encapsulator layers are separated by a gas gap. The separation of the optically transparent substrate into two individual encapsulator layers, which, in addition to directly placing an electrically conductive current-conducting layer on them, also to encapsulate the gas gap between them, which acts as a thermal insulation layer, is additionally provided by introducing a layered UV blocking structure material for an electrochromic device on a glass of a heat-insulating gas layer, such beneficial effects as improving the insulating properties result translucent structures, including the assembly of electrochromic devices using the described layered UV blocking material for the electrochromic module on glass, increasing, as a result, the sound insulation they provide and protecting the interiors from cold and excessive penetration of solar heat, as well as increasing the stability of the directly multilayer structure of the described layered UV-blocking material for an electrochromic device on glass and, as a consequence, placed on it electrochromic module, to sharp temperature changes and risks of harmful effects on the functional stability of electrochromic moisture modules by reducing the likelihood of condensation. At the same time, each of the encapsulating layers should consist of material from the group including glass from a number of fluorosilicate, sodium silicate or quartz glasses, as well as plastic films from a number of polyethylene terephthalate, polyvinyl butyral, ethylene vinyl acetate, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polymethylmethyl films. The reasons for using materials of this group as materials for each of the encapsulator layers described, including the gas-separating gap, of an optically transparent substrate for accommodating the electrically conductive current-conducting layer are similar to those for the directly second embodiment of the technical result according to the present invention - i.e. cases of using a layered UV-blocking material for an electrochromic device on a glass of an optically transparent substrate for placing an electrically conductive current-conducting layer as described above, as a part of a multilayer structure, due to the fact that, firstly, when using an optically transparent substrate as encapsulator layers for placement of an electrically conductive layer of current-carrying glass from a number of fluorine-silicate, sodium-silicate or quartz glasses, as well as plastic films from a number of polyethylene terephthalate, olivinilbutiralnyh, ethylene-vinyl acetate,

полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок, обеспечивается достаточный для поддержания стабильности многослойной структуры описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, с точки зрения предотвращения возможной локальной или полной дефолиации, и, как следствие, агрегации электропроводящего слоя токовведения в ходе его функционального циклирования приложением и снятием питающего размещаемый на слоистом УФ-блокирующем материале электрохромный модуль напряжения от внешнего источника питания, уровень адгезии между непосредственно контактирующим с электропроводящим слоем токовведения слоем-инкапсулятором оптически-прозрачной подложки и прилегающим к ее поверхности электропроводящим слоем токовведения слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, состоящим из материалов, перечисленных и обоснованных выше. В случае настоящего изобретения, адгезионные качества группы материалов, подходящих для использования в качестве электропроводящего слоя токовведения по вышеизложенным причинам - примесно-легированных оксидов ZnO, In₂O₃, SnO₂ и CdO, тройных соединений с Zn₂SnO₄, ZnSnO₃, Zn₂In₂O₅, Zn₃In₂O₆, In₂SnO₄, CdSnO₃ и многокомпонентных оксидов с комбинациями ZnO, In₂O₃ и SnO₂, по отношению к перечисленным подходящим к использованию материалам слоев-инкапсуляторов оптически-прозрачной подложки для размещения на ней электропроводящего слоя токовведения, аналогичны таковым по отношению также, непосредственно, к описанному выше УФ-блокирующему слою, что обеспечивается образованием, преимущественно, ковалентных полярных связей между оптически-прозрачной подложкой и атомами размещаемого на ней электропроводящего слоя токовведения. Одновременно с этим, при использовании в качестве обоих индивидуальных слоев-инкапсуляторов оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения материалов из группы, включающей стекло из ряда фтор-силикатного, натрий-силикатного или кварцевого стекол, а также пластиковые пленки из ряда полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных, полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок, сохраняется также, за счет их высокой прозрачности в видимом диапазоне длин волн электромагнитного излучения и, в общем случае, малых значений коэффициента преломления, близких к n=1, возможность достижения совокупности прочих спектрофотометрических характеристик слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, обеспечивающих реализацию технического результата согласно настоящему изобретению.polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polymethylmethacrylate or cellulose acetate films are sufficient to maintain the stability of the multilayer structure of the described laminated UV blocking material for the electrochromic module on glass, from the point of view of preventing possible local or complete defoliation, and, as a result, aggregation of the conductive layer during its functional cycling by application and removal of the feed placed on a layered UV-blocking material the electrochromic voltage module from an external power source, the adhesion level between the layer-encapsulator of the optically transparent substrate directly in contact with the electrically conductive current-conducting layer and the electrically conductive current-conducting layer of the laminated UV-blocking material adjacent to its surface for the electrochromic glass module, consisting of the materials listed and justified above. In the case of the present invention, the adhesion properties of a group of materials suitable for use as an electrically conductive current-conducting layer for the above reasons are impurity-doped oxides ZnO, In ₂ O ₃ , SnO ₂ and CdO, ternary compounds with Zn ₂ SnO ₄ , ZnSnO ₃ , Zn ₂ In ₂ O ₅ , Zn ₃ In ₂ O ₆ , In ₂ SnO ₄ , CdSnO ₃ and multicomponent oxides with combinations of ZnO, In ₂ O ₃ and SnO ₂ , in relation to the listed materials of the encapsulator layers of the optically transparent substrate suitable for use for placing on it an electrically conductive current-conducting layer, similar What are the relative also directly to the above described UV-blocking layer, which ensures the formation, preferably, polar covalent bonds between the optically-transparent substrate and the atoms placeable thereon electroconductive layer tokovvedeniya. At the same time, when using an optically transparent substrate as both individual encapsulator layers, for the placement of an electrically conductive layer of current-conducting materials from the group including glass from a number of fluorine-silicate, sodium silicate or quartz glasses, as well as plastic films from a number of polyethylene terephthalate, polyvinyl butyral , ethylene vinyl acetate, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polymethyl methacrylate or cellulose acetate films, is also retained due to their high pr transparency in the visible wavelength range of electromagnetic radiation and, in general, the smaller the refractive index values close to n = 1, the ability to achieve a plurality of points of the spectrophotometric characteristics of the laminated UV-blocking material for the electrochromic module on glass that implement the technical result of the present invention.

При этом толщины слоев-инкапсуляторов оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения не должны превышать 10 мм. Причины данного ограничения также аналогичны причинам ограничения на максимальную толщину одинарной оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения, изложенным выше в описании первого частного случая настоящего изобретения: при превышении любым индивидуальным слоем-инкапсулятором оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения предельного значения толщины, составляющего 10 мм, при, очевидно, не нулевом значении толщины другого слоя-инкапсулятора, будет наблюдаться существенное снижение уровня светопропускания в диапазоне длин волн электромагнитного излучения порядка 420-630 нм, связанное с поглощением проходящего излучения совокупной толщей описываемой трехслойной оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения со слоями-инкапсуляторами указанных материалов. Кроме того, среда оптически-прозрачной подложки будет также оказывать в этом случае значительный эффект на смещение пика поглощения результирующего слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле в сторону больших длин волн. При этом, как можно заметить, ограничение на предельно допустимую толщину каждого из индивидуальных слоев-инкапсуляторов оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения меньше по величине, чем предельная допустимая толщина однослойной оптически-прозрачной подложки из вышеизложенного второго варианта реализации настоящего изобретения, состоящей из материала той же указанной группы, что и для слоев-инкапсуляторов, что связано с дополнительными паразитными интерференционными процессами, протекающими в ходе переизлучения проходящего электромагнитного излучения между индивидуальными слоями-инкапсуляторами оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения, усиливающими выраженность данного эффекта смещения пика поглощения результирующего слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле в сторону больших длин волн начиная с меньших значений толщин каждого из слоев-инкапсуляторов в отдельности. В результате, совокупность описанных эффектов будет приводить к невозможности достижения достаточно низкого уровня поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн, характеризующегося величиной интегрального поглощения А, не превышающей 14%, наряду с одновременно стабильным уровнем спектрального уширения в диапазоне длин волн от 420 нм до 700 нм, характеризующимся максимумом модуля разницы интенсивности светопропускания в данном диапазоне длин волн ΔТ, не превышающим 0,18 долей, согласно техническому результату настоящего изобретения.In this case, the thickness of the encapsulator layers of the optically transparent substrate for placement of the electrically conductive current-conducting layer should not exceed 10 mm. The reasons for this limitation are also similar to the reasons for limiting the maximum thickness of a single optically transparent substrate for accommodating an electrically conductive current-carrying layer described above in the description of the first particular case of the present invention: when any individual encapsulating layer exceeds an optically transparent substrate for placing an electrically conductive current-conducting layer with a thickness limit value component of 10 mm, with, obviously, not a zero value of the thickness of another layer-encapsulator, will be observed Xia significant reduction in light transmission in the wavelength range of electromagnetic radiation of the order of 420-630 nm associated with absorption of the radiation passing the aggregate thickness of the described three-layer optically-transparent substrate for placement of an electrically conductive layer tokovvedeniya encapsulator with layers of said materials. In addition, the medium of the optically transparent substrate will also have a significant effect in this case on the shift of the absorption peak of the resulting layered UV blocking material for the electrochromic module on the glass towards longer wavelengths. Moreover, as you can see, the limit on the maximum permissible thickness of each of the individual layers of encapsulators of the optically transparent substrate for accommodating the electrically conductive current-conducting layer is less than the maximum allowable thickness of the single-layer optically transparent substrate from the above second embodiment of the present invention, consisting of material of the same specified group as for encapsulator layers, which is associated with additional parasitic interference processes occurring and during re-emission of transmitted electromagnetic radiation between individual encapsulator layers of an optically transparent substrate for placement of an electrically conductive current-conducting layer, enhancing the severity of this effect of the absorption peak shift of the resulting layered UV-blocking material for the electrochromic module on the glass toward longer wavelengths starting from smaller thicknesses each of the layers-encapsulators separately. As a result, the combination of the described effects will lead to the impossibility of achieving a sufficiently low level of absorption of electromagnetic radiation in the visible wavelength range, characterized by an integral absorption value A not exceeding 14%, along with a simultaneously stable level of spectral broadening in the wavelength range from 420 nm to 700 nm, characterized by a maximum modulus of the difference in light transmission intensity in this wavelength range ΔT, not exceeding 0.18 shares, according to the technical result of present invention.

В свою очередь разделяющий газовый промежуток, выполняющий роль слоя-теплоизолятора, должен быть заполнен газом из группы: стабильных изотопов благородных инертных газов, а именно - Не, Ne, Ar, Хе, Kr; а также атмосферным воздухом. Обладающие существенно более низкой теплопроводностью по сравнению с допустимыми к использованию материалами слоев-инкапсуляторов, данные газы, за счет, соответственно, сниженной, также по сравнению с прочими материалами многослойной структуры описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, способности проводить энергию путем хаотического движения составляющих их среду частиц, непосредственно обеспечивают полезные эффекты повышения теплоизоляционных свойств результирующих светопрозрачных конструкций, включающих сборки электрохромных устройств с использованием описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле. Так, известно, что воздух обладает более чем в 30 раз меньшим коэффициентом теплопроводности с, по сравнению со стеклами, составляющим порядка 0,022 Вт/м⋅К при температуре 300 К и давлении газа 100 кПа, по сравнению с порядка 0,6-1,1 Вт/м⋅К для стекла в зависимости от конкретного химического состава. Будучи инертными одноатомными газами, благородные газы ряда: Не, Ne, Ar, Хе и Kr обеспечивают сходное, и, для конкретных газов, меньшее отношение их теплопроводности к теплопроводности стекла - от 30 до 70 раз. При этом, теплопроводность пригодных, по выше изложенным причинам, к использованию в качестве материала слоев-инкапсуляторов пластиковых пленок, а именно: полиэтилентерефталатных, поливинилбутиральных, этиленвинилацетатных, полиэтиленовых, полипропиленовых, поливинилхлоридных, полиметилметакрилатных или ацетилцеллюлозных пленок, в среднем выше, чем теплопроводность соответственно также пригодных для использования в качестве материалов слоев-инкапсуляторов стекол. По этой причине приведенные доводы, объясняющие причины выбора приведенного перечня газов для газового промежутка, выполняющего роль слоя-теплоизолятора, выполняются, соответственно, также и в отношении указанного перечня пластиковых пленок. В свою очередь нестабильные изотопы приведенного перечня благородных инертных газов и радон Rn не входят в перечень допустимых к использованию в рамках настоящего изобретения материалов заполнения газового промежутка, выполняющего роль слоя-теплоизолятора, по причине радиотоксичности, являющейся следствием их высокой радиоактивности. Так, наличие радона, все известные изотопы которого радиоактивны, а также радиоактивных продуктов его распада во вдыхаемом воздухе вызывает стохастические эффекты хронического облучения.In turn, the separating gas gap, which acts as a heat-insulating layer, must be filled with gas from the group: stable isotopes of noble inert gases, namely, He, Ne, Ar, Xe, Kr; as well as atmospheric air. Having significantly lower thermal conductivity compared to the materials of the encapsulator layers acceptable for use, these gases, due to, respectively, reduced, also compared with other materials of the multilayer structure of the described laminated UV blocking material for the electrochromic module on glass, the ability to conduct energy by the chaotic motion of their constituent particles directly provide the beneficial effects of increasing the heat-insulating properties of the resulting translucent structures, including the assembly of electrochromic devices using the described layered UV-blocking material for the electrochromic module on glass. So, it is known that air has a more than 30 times lower thermal conductivity coefficient c, in comparison with glasses, of the order of 0.022 W / m⋅K at a temperature of 300 K and a gas pressure of 100 kPa, compared with about 0.6-1, 1 W / m⋅K for glass, depending on the specific chemical composition. Being inert monatomic gases, the noble gases of the series: He, Ne, Ar, Xe and Kr provide a similar, and, for specific gases, lower ratio of their thermal conductivity to the thermal conductivity of glass - from 30 to 70 times. At the same time, the thermal conductivity is suitable, for the reasons stated above, for the use of plastic films as encapsulator layers, namely: polyethylene terephthalate, polyvinyl butyral, ethylene vinyl acetate, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polymethyl methacrylate or cellulose acetate films of higher average and higher cellulose, respectively suitable for use as materials of glass encapsulator layers. For this reason, the above arguments explaining the reasons for choosing the above list of gases for the gas gap, which acts as a heat-insulating layer, are fulfilled, respectively, also with respect to the specified list of plastic films. In turn, the unstable isotopes of the above list of noble inert gases and radon Rn are not included in the list of materials allowed for use in the framework of the present invention to fill the gas gap, which acts as a thermal insulation layer, due to radiotoxicity due to their high radioactivity. Thus, the presence of radon, all known isotopes of which are radioactive, as well as the radioactive products of its decay in inhaled air, cause the stochastic effects of chronic radiation.

При этом, толщина разделяющего газового промежутка, выполняющего роль слоя-теплоизолятора, должна составлять не менее 2 мм. Это связано с тем, что при уменьшении толщины разделяющего газового промежутка, выполняющего роль слоя-теплоизолятора, ниже данного значения начинается конвекция воздуха или газа внутри газового промежутка между обращенными к нему поверхностями двух слоев-инкапсуляторов, что приводит к увеличению теплопроводности и нивелированию положительного эффекта включения газового промежутка в структуру оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле.At the same time, the thickness of the separating gas gap, which acts as a heat-insulating layer, should be at least 2 mm. This is due to the fact that with a decrease in the thickness of the separating gas gap acting as a heat insulating layer, below this value, convection of air or gas inside the gas gap between the surfaces of two encapsulator layers facing it begins, which leads to an increase in thermal conductivity and leveling of the positive switching effect a gas gap into the structure of an optically transparent substrate to accommodate an electrically conductive current-conducting layer of the described laminated UV blocking material for electrically electrochromic module on glass.

Кроме того, аналогично частным случаям первого варианта достижения технического результата согласно настоящему изобретению, в еще трех частных случаях второго варианта реализации настоящего изобретения, полимерная матрица УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле может включать в качестве дополнительных компонент:In addition, similarly to the special cases of the first embodiment of the technical result according to the present invention, in three further particular cases of the second embodiment of the present invention, the polymer matrix of the UV blocking layer of the UV laminate for the electrochromic device on glass may include, as additional components:

- фотоинициатор, выбранный из группы 2,2-диметокси-2-фенилацетофенонов и 1-гидроксициклогексил фенил кетона, причем концентрация входящего в состав полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя в качестве дополнительной компоненты фотоинициатора из указанной группы материалов должна находиться в пределах от 0,1 до 10 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя;- a photoinitiator selected from the group of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenones and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, the concentration of the UV blocking layer included in the polymer matrix as an additional component of the photoinitiator from this group of materials should be in the range of 0.1 up to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer;

- пластификатор, выбранный из группы дибутилфталатов и диоктилфталатов, причем концентрация содержания пластификатора должна составлять от 2 до 50 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя;- a plasticizer selected from the group of dibutyl phthalates and dioctyl phthalates, and the concentration of the plasticizer should be from 2 to 50 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer;

- растворитель, выбранный из группы 1,2-пропиленкарбоната, диметилсульфоксида, N-метилпирролидона, диметилформамида и диметилацетамида, причем концентрация содержания растворителя в полимерной матрице УФ-блокирующего слоя в случае его добавления должна находиться в пределах от 5 до 90 частей по массе в расчете на 100 частей по массе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя;- a solvent selected from the group of 1,2-propylene carbonate, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and dimethylacetamide, and the concentration of the solvent in the polymer matrix of the UV blocking layer, if added, should be in the range from 5 to 90 parts by weight, calculated per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer;

При этом причины, по которым введение данных дополнительных компонент в состав полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле может быть выгодно с точки зрения результирующих качеств предлагаемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле, а также причины выбора материалов конкретных приведенных групп и ограничений, накладываемых на их допустимые концентрации в составе полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя, полностью аналогичны таковым для соответствующих дополнительных компонент УФ-блокирующего слоя слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного устройства на стекле согласно соответствующим же частным случаям первого варианта реализации настоящего изобретения, приведенным и объясненным выше.Moreover, the reasons why the introduction of these additional components into the polymer matrix of the UV blocking layer of the layered UV blocking material for the electrochromic device on glass can be beneficial in terms of the resulting qualities of the proposed layered UV blocking material for the electrochromic device on glass, as well as the reasons for choosing the materials of the specific groups and the restrictions imposed on their allowable concentrations in the composition of the polymer matrix of the UV blocking layer are completely analogs are similar to those for the respective additional components of the UV blocking layer of the laminated UV blocking material for the electrochromic device on glass according to the corresponding particular cases of the first embodiment of the present invention, given and explained above.

В таблице ниже приводятся примеры конкретной реализации предлагаемого изделия. В рамках них все полученные образцы слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, согласно настоящему изобретению, формировались на стеклянной основе для размещения на ней электрохромного модуля, представлявшей собой плоскополированное натрий-силикатное флоат-стекло марки M1 толщиной 4 мм. Размер стеклянной основы для размещения на ней электрохромного модуля во всех примерах составлял 200×175 мм.The table below provides examples of specific implementations of the proposed product. In the framework of them, all the obtained samples of a layered UV-blocking material for an electrochromic module on glass, according to the present invention, were formed on a glass base to place an electrochromic module on it, which was 4 mm thick M1 grade silicate float glass. The size of the glass base for placement of the electrochromic module on it in all examples was 200 × 175 mm.

При этом в качестве полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя в случае примеров 1-4, 7-12 и 14-16 выступали готовые ненасыщенные олигомерно-мономерные композиции, включающие реакционноспособные олигомеры и мономеры метакрилаты, используемые при изготовлении заливных ударопрочных триплексов для остекления транспортных средств и стекол строительного назначения, линейки «Акролат» (согласно техническим условиям ТУ 2243-069-10488057-2012). При этом в рамках указанных примеров в композицию полимерной матрицы УФ-блокирующего слоя дополнительно In this case, as the polymer matrix of the UV-blocking layer in the case of examples 1-4, 7-12 and 14-16, finished unsaturated oligomer-monomer compositions, including reactive oligomers and methacrylate monomers, used in the manufacture of high-impact triplexes for glazing vehicles and glass for construction purposes, the Akrolat line (according to the technical specifications of TU 2243-069-10488057-2012). Moreover, within the framework of these examples, the composition of the polymer matrix of the UV-blocking layer is additionally

вводились соответствующие фотоинициаторы, пластификаторы и растворители, а также непосредственно соответствующий поглотитель ультрафиолета в соответствующих концентрациях согласно указанному в таблице. В результате, используемый УФ-блокирующий слой формировался из первоначального полимерного геля, получаемого смешиванием при комнатной температуре перечисленных в таблице соответствующих компонент в указанной пропорции. Формирование конечного УФ-блокирующего слоя требуемой указанной в таблице толщины на поверхности стеклянной основы осуществлялось экструзией под давлением. Дальнейшая стабилизация полимерной матрицы геля обеспечивалась выдерживанием под ультрафиолетом, с интенсивностью облучения 10 Вт/м² в диапазоне 320-400 нм в течение 90 мин, а затем в термокамере при 70°С.appropriate photoinitiators, plasticizers and solvents were introduced, as well as the corresponding UV absorber in appropriate concentrations, as indicated in the table. As a result, the UV blocking layer used was formed from the initial polymer gel obtained by mixing at room temperature the corresponding components listed in the table in the specified proportion. The formation of the final UV-blocking layer of the required thickness indicated in the table on the surface of the glass base was carried out by extrusion under pressure. Further stabilization of the polymer matrix of the gel was ensured by exposure to ultraviolet, with an irradiation intensity of 10 W / m ² in the range of 320-400 nm for 90 min, and then in a heat chamber at 70 ° C.

При этом в рамках примеров 5, 6 и 13 в качестве слоеобразующей основы УФ-блокирующего слоя описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле выступала полимерная матрица на основе поливинилбутираля (PVB) марки SDW3A. При этом в указанную полимерную PVB-смолу замешивался при температуре 40°С пластификатор, в роли которого выступал дибутилбензол-1,2-дикарбонат, в соответствующей концентрации, указанной в таблице. Из полученной смеси затем формовалась валковой экструзией лента соответствующей, согласно указанному в таблице, толщины, на которую далее осаждался поглотитель ультрафиолета, в роли которого выступал субстехиометрический оксид титана TiO_X. Осаждение поглотителя ультрафиолета осуществлялось в рамках данных примеров методом физической конденсации из паровой фазы (PVD) путем реализации процесса распыления стальных титановых катодных мишеней в магнетронной плазме реакционной газовой смеси, в роли распылительной составляющей которой выступал Ar, а реакционной, способствующей плазмохимической реакции образования субстехиометрического соединения оксида титана - соответственно, кислород О₂. Соотношение аргон/кислород смеси рабочих газов составляло 55% / 45%, при этом давление смесей рабочих газов в рамках данных примеров поддерживалось в диапазоне от 1,8⋅10^-3 до 3,4⋅10^-3 мм.рт.ст. Мощность горения плазменного разряда при этом составляла 0,84 кВт, при напряжении в разрядном промежутке 540 В и силе тока на поверхность мишени 1,5 А для каждого из указанных примеров. Полученный указанным способом в виде гибкой пленки УФ-блокирующий слой затем соламинировался со стеклянной основой слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле.Moreover, in the framework of examples 5, 6 and 13, a polymer matrix based on polyvinyl butyral (PVB) of the SDW3A brand was used as the layer-forming base of the UV-blocking layer of the described layered UV-blocking material for the electrochromic module on glass. At the same time, a plasticizer, dibutylbenzene-1,2-dicarbonate, in the corresponding concentration indicated in the table, was mixed in the indicated polymer PVB resin at a temperature of 40 ° C. From the resulting mixture, a tape was then formed by roll extrusion, corresponding to the thickness indicated in the table, on which the ultraviolet absorber was then deposited, in which the substoichiometric titanium oxide TiO _X acted. The UV absorber was deposited within the framework of these examples by the method of physical vapor condensation (PVD) by implementing the process of sputtering steel titanium cathode targets in the magnetron plasma of a reaction gas mixture, in the role of the atomizing component of which Ar acted, and the reaction component, which facilitates the plasma-chemical reaction of the formation of a substoichiometric oxide compound titanium - respectively, oxygen O ₂ . The argon / oxygen ratio of the working gas mixture was 55% / 45%, while the pressure of the working gas mixtures within the framework of these examples was maintained in the range from 1.8⋅10 ^-3 to 3.4⋅10 ^-3 mm Hg. The burning power of the plasma discharge was 0.84 kW, with a voltage in the discharge gap of 540 V and a current strength of 1.5 A for the target surface for each of these examples. The UV-blocking layer obtained in the form of a flexible film by this method was then laminated with a glass base of a layered UV-blocking material for an electrochromic module on glass.

При этом в качестве материала электропроводящего слоя токовведения описываемого слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле в рамках представленных конкретных примеров реализации выступали оксид олова, легированный фтором (fluorine tin oxide - FTO; в случае примеров 1, 7, 9-10), оксид индия-олова (indium tin oxide - ITO; в случаях примеров 2-6. 11 и 13-16), а также германий-содержащий оксид цинка (germanium zinc oxide - GZO; в случаях примеров 8 и 12), соответствующих толщин, согласно указанному в таблице. При этом получение электропроводящий слоев токовведения оксида индий-олова ITO и германий-содержащего оксида цинка GZO осуществлялось в рамках данных примеров методом физической конденсации слоев из паровой фазы (PVD) на предлежащую им поверхность путем реализации процесса распыления керамических предоксидированных катодных мишеней соответствующих материалов в магнетронной плазме инертной газовой среды аргона Ar. При этом давление аргона Ar при осаждении данных электропроводящих слоев токовведения поддерживалось в диапазоне от 1,2⋅10^-3 до 1,7⋅10^-3 мм.рт.ст. Мощность горения плазменного разряда при этом во всех соответствующих примерах составляла 0,5 кВт, при напряжении в разрядном промежутке, находившемся в диапазоне 240-280 В и соответствующей силе тока на поверхность мишени, находившейся в диапазоне 1,7-2,1 А.In this case, tin oxide doped with fluorine (fluorine tin oxide - FTO; in the case of examples 1, 7, 9-10) was used as the material of the electrically conductive current-conducting layer of the described layered UV-blocking material for glass on the glass in the framework of the presented specific examples of implementation indium tin oxide (indium tin oxide - ITO; in the cases of examples 2-6. 11 and 13-16), as well as germanium-containing zinc oxide (germanium zinc oxide - GZO; in the cases of examples 8 and 12), the corresponding thicknesses, as indicated in the table. In this case, the preparation of the conductive layers of the current introduction of indium tin oxide ITO and germanium-containing zinc oxide GZO was carried out in the framework of these examples by the method of physical condensation of layers from the vapor phase (PVD) on the surface adjacent to them by the process of sputtering ceramic pre-oxidized cathode targets of the corresponding materials in magnetron plasma inert gas medium argon Ar. In this case, the argon pressure Ar during deposition of these electrically conductive current-conducting layers was maintained in the range from 1.2310 ^-3 to 1.7⋅10 ^-3 mm Hg. The burning power of the plasma discharge in this case was 0.5 kW in all relevant examples, with a voltage in the discharge gap in the range of 240-280 V and a corresponding current strength on the target surface in the range of 1.7-2.1 A.

В свою очередь получение электропроводящих слоев токовведения из оксида олова, легированного фтором, FTO, в рамках соответствующих примеров осуществлялось методом химической температурно-катализированной конденсации слоев (CVD) на предлежащую им поверхность в ходе реализации процесса спрей-пиролитического синтеза слоя из смеси прекурсоров, в роли которых выступали фторид аммония NH₄F и дибутил-диацетат олова DBTDA, при температуре пиролиза, составлявшей для всех соответствующих приведенных примеров 150°С, с последующим пост-отжигом слоя при температуре, поддерживавшейся для всех соответствующих приведенных примеров в диапазоне 270-350°С.In turn, the preparation of electrically conductive fluorine-doped tin oxide current conducting layers, FTO, in the framework of relevant examples, was carried out by chemical temperature-catalyzed layer condensation (CVD) on the surface that precedes them during the process of spray-pyrolytic synthesis of a layer from a mixture of precursors, in the role of which were ammonium fluoride NH ₄ F and tin dibutyl diacetate DBTDA, at a pyrolysis temperature of 150 ° C for all the corresponding examples cited, followed by post-annealing of the layer at the temperature maintained for all relevant examples given in the range of 270-350 ° C.

При этом, в рамках примеров 5 и 6 электропроводящий слой токовведения слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, состоявший из оксида индий-олова ITO, толщиной 140 и 146 нм соответственно, осаждался непосредственно поверх УФ-блокирующего слоя.Moreover, in the framework of Examples 5 and 6, the electrically conductive current-conducting layer of a layered UV blocking material for an electrochromic module on glass, consisting of ITO indium tin oxide, 140 and 146 nm thick, respectively, was deposited directly on top of the UV blocking layer.

При этом в рамках остальных приведенных примеров электропроводящие слои токовведения слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле размещались на поверхности соответствующей оптически-прозрачной подложки, Moreover, in the framework of the remaining examples, the electrically conductive current-conducting layers of the layered UV-blocking material for the electrochromic module on glass were placed on the surface of the corresponding optically transparent substrate,

соединявшейся с УФ-блокирующем слоем путем соламинации с полимерной слоеобразующей матрицей последнего, за исключением примера 13, где оптически-прозрачная подложка с размещенным на ней электропроводящим слоем токовведения соединялась с УФ-блокирующим слоем путем их соприлегания с последующей краевой фиксацией стеклопакетным компаундным полисульфидным герметиком на основе диоксида марганца марки POLY-S. При этом в качестве оптически-прозрачной подложки в указанных примерах использовались:connected to the UV-blocking layer by solamination with a polymer layer-forming matrix of the latter, with the exception of Example 13, where the optically transparent substrate with an electrically conductive current-conducting layer placed on it was connected to the UV-blocking layer by their contact, followed by edge fixing with a glass-based compound polysulfide based sealant POLY-S brand manganese dioxide. In this case, as an optically transparent substrate in these examples were used:

- плоскополированное натрий-силикатное флоат-стекло марки M1 толщиной 3 мм (СМ1 3 мм; примеры 1, 9, 10 и 16);- plane-polished sodium silicate float glass of the M1 grade 3 mm thick (CM1 3 mm; examples 1, 9, 10 and 16);

- сверхтонкое кварцевое стекло Corning Glass марки Willow толщиной 0,18 мм (Willow 0,18 мм; примеры 2-4, 8);- ultra-thin quartz glass Corning Glass of the Willow brand with a thickness of 0.18 mm (Willow 0.18 mm; examples 2-4, 8);

- полиэтилентерефталатная пленка толщиной 0,17 мм (PET 0,17 мм; примеры 11, 12 и 15);- polyethylene terephthalate film with a thickness of 0.17 mm (PET 0.17 mm; examples 11, 12 and 15);

а также многокомпонентные структуры, представляющие собой два индивидуальных слоя-инкапсулятора, один из которых (далее - первый обозначенный по тексту) непосредственно контактирует с УФ-блокирующим слоем со стороны стеклянной основы слоистого УФ-блокирующего материала, а второй - непосредственно контактирует с располагаемым на нем электропроводящим слоем токовведения с противоположной стороны, при этом слои-инкапсуляторы разделены между собой разделяющим газовым промежутком, выполняющим роль слоя-теплоизолятора:as well as multicomponent structures, which are two individual encapsulator layers, one of which (hereinafter referred to as the first one in the text) is in direct contact with the UV blocking layer on the side of the glass base of the layered UV blocking material, and the second is in direct contact with the layer on it an electrically conductive current-conducting layer on the opposite side, while the encapsulator layers are separated by a separating gas gap, which acts as a thermal insulation layer:

- в случае примера 7 структура оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения представляла собой: первый слой-инкапсулятор, в качестве материала которого использовалось сверхтонкое кварцевое стекло Corning Glass марки Willow толщиной 0,18 мм; соединенный с ним газовый промежуток толщиной 8 мм, заполненный смесью аргона Ar и осушенного атмосферного воздуха (соотношение аргона к атмосферному воздуху составляло 90/10); второй слой-инкапсулятор, в качестве материала которого использовалось плоскополированное натрий-силикатное флоат-стекло марки M1 толщиной 3 мм; при этом соединение указанных слоев осуществлялось при помощи дистанционной рамки из поливинилхлоридного профиля холодной экструзии с сопутствующей краевой фиксацией стеклопакетным компаундным полисульфидным герметиком на основе диоксида марганца марки POLY-S (Willow 0,18 мм - 8 мм Ar (90%) -С M1 3 мм);- in the case of Example 7, the structure of the optically transparent substrate for accommodating the electrically conductive current-conducting layer was: the first encapsulator layer, the material of which was used ultra-thin quartz glass Corning Glass Willow brand with a thickness of 0.18 mm; a gas gap connected to it with a thickness of 8 mm, filled with a mixture of argon Ar and dried atmospheric air (the ratio of argon to atmospheric air was 90/10); the second layer is an encapsulator, the material of which was used plane-polished sodium silicate float glass grade M1 with a thickness of 3 mm; in this case, the connection of these layers was carried out using a remote frame made of cold-extrusion polyvinylchloride profile with concomitant edge fixation with a glass packet compound polysulfide sealant based on POLY-S brand manganese dioxide (Willow 0.18 mm - 8 mm Ar (90%) -С M1 3 mm );

- в случае примера 13 структура оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения представляла собой: первый слой-инкапсулятор, в качестве материала которого использовалось плоскополированное натрий-силикатное флоат-стекло марки M1 толщиной 4 мм; соединенный с ним газовый промежуток толщиной 16 мм, заполненный осушенным атмосферным воздухом; второй слой-инкапсулятор, в качестве материала которого использовалось плоскополированное натрий-силикатное флоат-стекло марки M1 толщиной 4 мм; при этом соединение указанных слоев осуществлялось при помощи дистанционной рамки из поливинилхлоридного профиля холодной экструзии с сопутствующей краевой фиксацией стеклопакетным компаундным полисульфидным герметиком на основе диоксида марганца марки POLY-S (С M1 4 мм - 16 мм Воздух - С M1 4 мм);- in the case of Example 13, the structure of the optically transparent substrate for accommodating the electrically conductive current-conducting layer was as follows: the first encapsulator layer, the material of which was used flat-coated M1 grade 4 mm silicate float glass; a 16 mm thick gas gap connected to it, filled with dried atmospheric air; the second layer is an encapsulator, the material of which was used plane-polished sodium silicate float glass grade M1 with a thickness of 4 mm; in this case, the connection of these layers was carried out using a distance frame of a cold extrusion polyvinyl chloride profile with concomitant edge fixation with a glass packet compound polysulfide sealant based on POLY-S brand manganese dioxide (C M1 4 mm - 16 mm Air - C M1 4 mm);

- в случае примера 14 структура оптически-прозрачной подложки для размещения электропроводящего слоя токовведения представляла собой: первый слой-инкапсулятор, в качестве материала которого использовалось сверхтонкое кварцевое стекло Corning Glass марки Willow толщиной 0,18 мм; соединенный с ним газовый промежуток толщиной 6 мм, заполненный смесью аргона Ar и осушенного атмосферного воздуха (соотношение аргона к атмосферному воздуху составляло 90/10); второй слой-инкапсулятор, в качестве материала которого использовалась полиэтилентерефталатная пленка толщиной 0,17 мм; при этом соединение указанных слоев осуществлялось при помощи дистанционной рамки из поливинилхлоридного профиля холодной экструзии с сопутствующей краевой фиксацией стеклопакетным компаундным полисульфидным герметиком на основе диоксида марганца марки POLY-S (Willow 0,18 мм - 6 мм Ar (90%) - PET 0,17 мм);- in the case of example 14, the structure of the optically transparent substrate for accommodating the electrically conductive layer of the current-conducting layer was: the first encapsulator layer, the material of which was used ultra-thin quartz glass Corning Glass Willow brand with a thickness of 0.18 mm; a gas gap 6 mm thick connected to it, filled with a mixture of argon Ar and dried atmospheric air (the ratio of argon to atmospheric air was 90/10); the second encapsulator layer, the material of which was used polyethylene terephthalate film with a thickness of 0.17 mm; the connection of these layers was carried out using a remote frame made of cold-extrusion PVC profile with concomitant edge fixation with a glass packet compound polysulfide sealant based on POLY-S brand manganese dioxide (Willow 0.18 mm - 6 mm Ar (90%) - PET 0.17 mm)

Как можно видеть, материалы и концентрации индивидуальных компонент слоев слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, а также их толщины, выдержанные в приводимых примерах во всех случаях соответствуют допустимым согласно формуле настоящего изобретения требованиям.As you can see, the materials and concentrations of the individual components of the layers of the layered UV-blocking material for the electrochromic module on the glass, as well as their thickness, sustained in the examples given, in all cases correspond to the requirements acceptable according to the formula of the present invention.

Характеризация полученных в рамках приводимых примеров практической реализации образцов слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле производилась методом спектрофотометрии в диапазоне длин волн электромагнитного излучения от 350 до 1050 нм. Типичные спектры пропускания анализировавшихся образцов представлены на фиг. 1 и фиг. 2 для случая примеров 1 и 10 соответственно. В свою очередь на фиг. 3 и 4 представлены спектры поглощения образцов The characterization of the samples of the layered UV-blocking material for the electrochromic module on glass obtained in the framework of the given examples was carried out by spectrophotometry in the wavelength range of electromagnetic radiation from 350 to 1050 nm. Typical transmission spectra of the analyzed samples are shown in FIG. 1 and FIG. 2 for the case of examples 1 and 10, respectively. In turn, in FIG. Figures 3 and 4 show the absorption spectra of samples

слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле тех же соответствующих примеров.a layered UV blocking material for an electrochromic module on glass of the same relevant examples.

По результатам анализа полученных спектров были математически выявлены соответствующие интегральные характеристики функциональных качеств образцов, приведенные в таблице ниже. Кроме того, на основании интерполяционного машинного сравнения характерных интенсивностей регистрации сигнала на спектрах пропускания и отражения образцов (типичные спектры отражения анализировавшихся образцов представлены на фиг. 5 и фиг. 6 для случая примеров 1 и 10 соответственно) путем разрешения дифференциального уравнения непрерывности в неявном виде были определены значения мутности Н образцов слоистого УФ-блокирующего материала для электрохромного модуля на стекле, полученных в рамках приводимых примеров практической реализации согласно настоящему изобретению, также приведенные для каждого из описываемых примеров в таблице ниже (<0,01 долей согласно паспортному пределу разрешения использовавшегося спектрофотометра и совокупной погрешности применяемого расчетного метода). Примеры соответствующих расчетов (Min/Max) для образцов, полученных в рамках приведенных примеров реализации 1 и 10, представлены на фиг. 7 и 8 соответственно.According to the results of the analysis of the obtained spectra, the corresponding integral characteristics of the functional qualities of the samples are shown in the table below. In addition, based on an interpolation machine comparison of the characteristic signal recording intensities on the transmission and reflection spectra of the samples (typical reflection spectra of the analyzed samples are presented in Fig. 5 and Fig. 6 for the cases of Examples 1 and 10, respectively), the differential equation of continuity was implicitly resolved the turbidity N of the samples of the layered UV-blocking material for the electrochromic module on glass was determined, obtained in the framework of the given practical examples According to the present invention, also shown for each of the described examples in the table below (<0.01 fractions according to the passport resolution limit of the used spectrophotometer and the total error of the applied calculation method). Examples of corresponding calculations (Min / Max) for samples obtained in the framework of the given implementation examples 1 and 10 are presented in FIG. 7 and 8, respectively.

Как можно видеть на основании вышеизложенного, представленное изделие по результатам его практической реализации согласно настоящему изобретению в рамках As can be seen from the foregoing, the presented product according to the results of its practical implementation according to the present invention in the framework

каждого из приведенных примеров демонстрирует одновременно низкий уровень пропускания УФ-излучения, характеризующийся величиной коэффициента полного интегрального пропускания ультрафиолета T_uv, не превышающей 16%; низкий уровень поглощения электромагнитного излучения в видимом диапазоне длин волн, характеризующийся величиной интегрального поглощения А, не превышающей 13%; стабильный уровень спектрального уширения в диапазоне длин волн от 420 нм до 700 нм, характеризующийся максимумом модуля разницы интенсивности светопропускания в данном диапазоне длин волн ΔT, не превышающим 0,14 долей; а также низкий уровень мутности, не превышающий 0,01 долей, соответствуя, таким образом, критериям пригодности его использования совместно с электрохромным модулем с целью изготовления конструкционных элементов электрохромных устройств для светопрозрачных конструкций архитектурного и транспортного применений, и, в результате, отвечая всем критериям, приведенным в описании технического результата настоящего изобретения.each of the given examples demonstrates at the same time a low level of transmission of UV radiation, characterized by the value of the coefficient of the total integrated transmission of ultraviolet T _uv , not exceeding 16%; low level of absorption of electromagnetic radiation in the visible wavelength range, characterized by the value of the integral absorption A, not exceeding 13%; a stable level of spectral broadening in the wavelength range from 420 nm to 700 nm, characterized by a maximum modulus of the difference in transmittance in this wavelength range ΔT, not exceeding 0.14 fractions; as well as a low level of turbidity, not exceeding 0.01 shares, thus meeting the criteria for suitability for its use in conjunction with an electrochromic module for the manufacture of structural elements of electrochromic devices for translucent structures of architectural and transport applications, and, as a result, meeting all criteria, given in the description of the technical result of the present invention.

Claims

1. Layered UV-blocking material for the electrochromic module on glass, including an ultraviolet absorber, which includes benzotriazole, benzophenol and triazine compounds, characterized in that the layered UV-blocking material contains a glass base for placement of the electrochromic module on it, while a multilayer sequence of individual layers in the following order from the surface of the glass base: a UV-blocking layer consisting of one of a polymer matrix and an ultraviolet absorber, and an electrically conductive current-conducting layer, wherein the polymer matrix of the UV blocking layer consists of a substance selected from the group of polyvinyl butyral, as well as copolymers of the oligomer-monomer composition of methyl methacrylate and methyl acrylate; and the ultraviolet absorber consists of a substance selected from the group: benzotriazoles with molecular gross formulas C ₄₁ H ₅₀ N ₆ O ₂ , C ₂₀ H ₂₃ N ₃ O ₃ , C ₃₀ H ₂₉ N ₃ O, C ₁₇ H ₁₈ ClN ₃ O , C ₂₇ H ₃₆ ClN ₃ O ₃ , triazines with an empirical molecular formula C ₈₁ H ₁₀₈ N ₆ O ₈ , benzophenone, monometals and their alloys from the subgroup Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Ta, F, Ga, and W, as well as their oxides and sulfides; wherein the content of said ultraviolet absorber is from 0.003 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer, wherein the conductive current conducting layer consists of a material of a group of transparent electrically conductive oxides, including impurity-doped oxides ZnO, In ₂ O ₃ , SnO ₂ and CdO, ternary compounds with Zn ₂ SnO ₄ , ZnSnO ₃ , Zn ₂ In ₂ O ₅ , Zn ₃ In ₂ O ₆ , In ₂ SnO ₄ , CdSnO ₃ and multicomponent oxides with combinations of ZnO, In ₂ O ₃ and SnO _2, and the thickness of the glass substrate to be placed on it amounted electrochromic module wish to set up from 0.01 mm to 28 mm, the thickness of the UV-blocking layer is from 10 microns to 18 mm, and the thickness of the electroconductive layer tokovvedeniya is from 40 to 820 nm.

2. A layered UV blocking material for an electrochromic device on glass according to claim 1, characterized in that the polymer matrix of the UV blocking layer includes, as an additional component, a photoinitiator selected from the group of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenones and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, and the content of the specified photoinitiator is from 0.1 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer.

3. A layered UV blocking material for an electrochromic device on glass according to claim 1, characterized in that the polymer matrix of the UV blocking layer includes, as an additional component, a plasticizer selected from the group of dibutyl phthalates and dioctyl phthalates, wherein the content of said plasticizer is from 2 to 50 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer.

4. Layered UV blocking material for an electrochromic device on glass according to claim 1, characterized in that the polymer matrix of the UV blocking layer includes, as additional components, a solvent selected from the group of 1,2-propylene carbonate, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and dimethylacetamide, wherein the content of said dispersant is from 5 to 90 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer.

5. Layered UV-blocking material for the electrochromic module on glass, including an ultraviolet absorber, which includes compounds of benzotriazole, benzophenol and triazine, characterized in that the layered UV-blocking material contains a glass base for placement of the electrochromic module on it, while a multilayer sequence of individual layers in the following order from the surface of the glass base: a UV-blocking layer consisting of a polymer matrix and an ultraviolet absorber, an optically transparent substrate for accommodating an electrically conductive current-conducting layer and a directly conductive current-conducting layer, while the polymer matrix of the UV-blocking layer consists of a substance selected from the group of polyvinyl butyral, as well as copolymers of the oligomer-monomer composition of methyl methacrylate and methyl acrylate ; and the ultraviolet absorber consists of a substance selected from the group: benzotriazoles with molecular gross formulas C ₄₁ H ₅₀ N ₆ O ₂ , C ₂₀ H ₂₃ N ₃ O ₃ , C ₃₀ H ₂₉ N ₃ O, C ₁₇ H ₁₈ ClN ₃ O , C ₂₇ H ₃₆ ClN ₃ O ₃ , triazines with an empirical molecular formula C ₈₁ H ₁₀₈ N ₆ O ₈ , benzophenone, monometals and their alloys from the subgroup Ti, Zn, Sn, In, Zr, Fe, Al, Si, Cr, Nb, Mo, Hf, Ta, F, Ga, and W, as well as their oxides and sulfides; wherein the content of said ultraviolet absorber is from 0.003 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer; moreover, as an optically transparent substrate for placement of the electrically conductive layer of the current-carrying, material is used from the group including glass from a number of fluorine-silicate, sodium silicate or quartz glasses, as well as plastic films from a number of polyethylene terephthalate, polyvinyl butyral, ethylene vinyl acetate, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, or cellulose acetate films; the electrically conductive current-conducting layer consists of material from the group of transparent electrically conductive oxides, including impurity-doped oxides ZnO, InO ₃ , SnO ₂ and CdO, ternary compounds with Zn ₂ SnO ₄ , ZnSnO ₃ , Zn ₂ In ₂ O ₅ , Zn ₃ In ₂ O ₆ , In ₂ SnO ₄ , CdSnO ₃ and multicomponent oxides with combinations of ZnO, In ₂ O ₃ and SnO ₂ , while the thickness of the glass base for placement of the electrochromic module on it is from 0.01 mm to 28 mm, the thickness of the UV blocking the layer is from 10 μm to 18 mm, the thickness of the optically transparent substrate for accommodating the conductive layer is introduced it does not exceed 28 mm, and the thickness of the electrically conductive layer of current injection is from 40 to 820 nm.

6. A layered UV-blocking material for an electrochromic device on glass according to claim 5, characterized in that the optically transparent substrate for accommodating the electrically conductive current-conducting layer is two individual encapsulator layers, each of which consists of a material of a group including glass from a series of fluorine -silicate, sodium-silicate or quartz glasses, as well as plastic films from a number of polyethylene terephthalate, polyvinyl butyral, ethylene vinyl acetate, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride polymethylmethacrylate or cellulose acetate films; wherein the optically transparent substrate is arranged such that one of the encapsulating layers directly contacts the UV blocking layer on the glass base side of the UV laminate, and the second encapsulating layer directly contacts the electrically conductive current conducting layer on the opposite side, wherein -encapsulators are separated by a separating gas gap acting as a heat-insulating layer, and a separating gas gap acting as a heat-insulating layer and is filled with gas from the group of stable isotopes of inert noble gases, namely - Not, Ne, Ar, Xe, Kr; as well as atmospheric air, while the thickness of the layers of encapsulators of the optically transparent substrate for accommodating the electrically conductive current-conducting layer does not exceed 10 mm, and the thickness of the separating gas gap, which acts as a thermal insulation layer, is at least 2 mm.

7. Layered UV-blocking material for an electrochromic device on glass according to claim 5, characterized in that the polymer matrix of the UV-blocking layer includes as an additional component a photoinitiator selected from the group of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenones and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, wherein the content of said photoinitiator is from 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer.

8. Layered UV blocking material for an electrochromic device on glass according to claim 5, characterized in that the polymer matrix of the UV blocking layer includes, as an additional component, a plasticizer selected from the group of dibutyl phthalates and dioctyl phthalates, wherein the content of said plasticizer is from 2 to 50 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer.

9. Layered UV-blocking material for an electrochromic device on glass according to claim 5, characterized in that the polymer matrix of the UV-blocking layer includes, as additional components, a solvent selected from the group of 1,2-propylene carbonate, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and dimethylacetamide, wherein the content of said dispersant is from 5 to 90 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer matrix of the UV blocking layer.