RU2711344C1 - Устройство источника плазмы несамостоятельного газового разряда с эффектом полого катода - Google Patents

Устройство источника плазмы несамостоятельного газового разряда с эффектом полого катода Download PDF

Info

Publication number
RU2711344C1
RU2711344C1 RU2019118007A RU2019118007A RU2711344C1 RU 2711344 C1 RU2711344 C1 RU 2711344C1 RU 2019118007 A RU2019118007 A RU 2019118007A RU 2019118007 A RU2019118007 A RU 2019118007A RU 2711344 C1 RU2711344 C1 RU 2711344C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
hollow cathode
discharge
hollow
self
plasma source
Prior art date
Application number
RU2019118007A
Other languages
English (en)
Inventor
Александр Алексеевич Федоров
Татьяна Леонидовна Шапошникова
Александр Иванович Гаврилов
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный технологический университет" (ФГБОУ ВО "КубГТУ")
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный технологический университет" (ФГБОУ ВО "КубГТУ") filed Critical Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный технологический университет" (ФГБОУ ВО "КубГТУ")
Priority to RU2019118007A priority Critical patent/RU2711344C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2711344C1 publication Critical patent/RU2711344C1/ru

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

Изобретение относится к области ионно-лучевой вакуумной обработке материалов и может быть использовано в плазменных источниках заряженных частиц и, в частности, в машиностроении для упрочнения режущего инструмента, повышения эксплуатационных свойств деталей машин и механизмов. Устройство источника плазмы несамостоятельного газового разряда с эффектом полого катода, содержащее полый катод основного разряда, анод основного разряда, полый катод вспомогательного разряда, устройство для подачи газа, ускоряющий электрод, коллектор, эмиссионное окно в виде сетки отличается тем, что эмиссионное окно выполнено в виде коаксиальных полых цилиндров, радиусы которых связаны соотношением R=nR, где n - порядковый номер цилиндра, начиная с первого, а длина L цилиндров связана с радиусом первого цилиндра соотношениемТехнический результат - повышение равномерности обработки крупногабаритных изделий и скорости процесса. 2 ил.

Description

Изобретение относится к области ионно-лучевой вакуумной обработке материалов и может быть использовано в плазменных источниках заряженных частиц и в частности в машиностроении для упрочнения режущего инструмента, повышения эксплуатационных свойств деталей машин и механизмов.
Известно устройство источника плазмы [С.А. Линник, А.В. Гайдайчук, И.В.Шаманин. Источник плазмы тлеющего разряда с эффектом полого катода для модификации свойств поверхности и нанесения покрытий. - Известия Томского политехнического университета. 20П. Т.318. №2. с. 86], включающее вакуумную камеру, полый катод, анод, крышку с отверстием для подачи газа, разделительную переборку с отверстием, источник напряжения.
Недостатком прототипа является малая апертура (действующее отверстие) источника плазмы.
Наиболее близким аналогом заявленного изобретения является устройство источника плазмы [А.В. Визирь, Е.М. Окс, П.М. Щанин, Г.Ю. Юшков. Несамостоятельный тлеющий разряд с полым катодом для широкоапертурных источников. - Журнал технической физики, 1997, том 67, №6. с. 27] несамостоятельного газового разряда с эффектом полого катода, содержащее полый катод основного разряда, анод основного разряда, полый катод вспомогательного разряда, устройство для подачи газа, ускоряющий электрод, коллектор, эмиссионное окно в виде сетки.
Недостатком аналога является малая апертура источника плазмы.
Задачей настоящего изобретения является увеличение апертуры источника плазмы.
Техническим результатом является повышение равномерности обработки крупногабаритных изделий и скорости процесса.
Технический результат достигается тем, что в устройстве источника плазмы несамостоятельного газового разряда с эффектом полого катода, содержащем полый катод основного разряда, анод основного разряда, полый катод вспомогательного разряда, устройство для подачи газа, ускоряющий электрод, коллектор, эмиссионное окно выполнено в виде коаксиальных полых цилиндров радиусы которых связаны соотношением
Rn=n⋅R1,
где n - порядковый номер цилиндра, начиная с первого, а длина L цилиндров связана с радиусом первого цилиндра соотношением
Figure 00000001
В последнее время в связи с постепенным внедрением ионных и электронных технологий в производство возрастает интерес к получению пучков с большим поперечным сечением [Бугаев С.П. Электронные пучки большого сечения / С.П. Бугаев, Ю.Е. Крейедель, П.М. Щанин. М.:Энергоатомиздат, 1984. 112 с.], которые дают возможность быстрой обработки крупных деталей без сканирования по поверхности образца или без его перемещения, а также одновременной обработки большой партии мелких деталей. Эффектом полого катода является большая величина тока, протекающего через разряд, по сравнению с системой с плоскими электродами, имеющей геометрические размеры того же порядка. Такой тип разряда реализуется в полости, когда ее диаметр (2R1 примерно соответствует длине отрицательного свечения. Электроны производят эффективную ионизацию за счет осцилляции между катодным падением потенциала противоположных стенок полости при этом характерный размер катодной полости (2R1) должен быть меньше длины свободного пробега электронов. В разряде с полым катодам происходит резкое падение напряжения горения разряда и увеличение его тока. Экспериментально установлено, что минимум напряжения или максимум разрядного тока (при поддержании заданного напряжения) наблюдается при отношении длины L цилиндрического полого катода к его диаметру (2R1) примерно равным 10 (Крейндель Ю.Е. Плазменные источники электронов / Ю.Е. Крендель. М.: Атомиздат, 1977. 145 с.). Для функционирования разряда в сильноточном низковольтном режиме горения необходимо обеспечить давление в разрядном промежутке порядка 1 Па. Для сохранения же электрической прочности ускоряющего промежутка и транспортировки ускоренного пучка на значительные расстояния давление в этих областях должно быть ниже 10-2 Па. Снижение давления в разрядном промежутке приводит к быстрому росту напряжения разряда, и он переходит в высоковольтную слаботочную форму либо обрывается при недостаточном напряжении источника питания. Инжекция электронов позволяет понизить минимальное давление, при котором существует разряд в полом катоде до значения <10-2 Па [А.В. Визирь, Е.М. Окс, П.М. Щанин, Г.Ю. Юшков. Несамостоятельный тлеющий разряд с полым катодом для широкоапертурных источников. - Журнал технической физики, 1997, том 67, №6. с. 27]. Для стабилизации эмиссионной поверхности плазмы эмиссионное окно перекрывают мелкоструктурной сеткой. Замена мелкоструктурной сетки на совокупность коаксиальных полых цилиндров позволяет, при одинаковом характеристическом размере(одинаковом размере ячеек сетки и диаметре цилиндров (2R1)) примерно в 5 раз увеличить выходную аппретуру(при одинаковом геометрическом размере эмиссионного окна) эмиссионного окна. Увеличение ионного потока с единицы площади свидетельствует об повышении плотности плазмы, что интенсифицирует (ускоряет) процессы обработки деталей. Поскольку зазоры между коаксиальными цилиндрами являются кольцевыми полыми катодами, то это позволяет создавать источники плазмы с любыми требуемыми поперечными сечениями пучков, а также дополнительно повысить плотность плазменного потока. Увеличение поперечного сечения пучка ионов, а также повышение плотности потока ионов, позволяют повысить равномерность обработки крупногабаритных изделий и скорость процесса.
На фиг. 1 изображена схема устройства источника плазмы несамостоятельного газового разряда с эффектом полого катода. Схема содержит полый катод основного разряда 1, анод основного разряда 2, полый катод вспомогательного разряда 5, отверстие для подачи газа 7, эмиссионное окно выполненное в виде коаксиальных полых цилиндров 4, керамические кольца 3, 6, сетка для ослабления провисания потенциала 8, ускоряющий электрод 9, коллектор 10.
На фиг. 2 изображено эмиссионное окно выполненное в виде коаксиальных полых цилиндров радиусы которых связаны соотношением
Rn⋅R1,
где n - порядковый номер цилиндра, начиная с первого, а длина L цилиндров связана с радиусом первого цилиндра соотношением
Figure 00000001
Пример конкретной реализации устройства.
Источник плазмы несамостоятельного газового разряда с эффектом полого катода помещаем в вакуумную камеру, где создается давление 5⋅10-3 Па. В отверстие 7 подаем рабочий газ понижающий давление во вспомогательном полом катоде 5(длиной и диаметром 12,5 см) до 2 Па. На торце полого катода 5 имеется центральное отверстие диаметром 5 мм, которое расположено соосно с отверстием 7 мм в полом катоде 1. Из-за перепада давления при протекании газа через отверстия в электродах 1 и 5 давление газа в полом катоде основного разряда 1 (длиной, шириной и высотой 40 см.) составит примерно 10-2 Па. Вспомогательный разряд инициируется разрядом на поверхности керамического кольца 6 и возникает в начальный момент приложения напряжения от регулируемого выпрямителем с напряжением до 3 кВ и током до 0,3 А между полым катодом 5 и электродом 1, являющегося анодом вспомогательного разряда. Для ослабления провисания потенциала в катодную полость вспомогательного разряда отверстие в торцевом электроде закрывается вольфрамовой сеткой с размером ячейки 0,2 мм 8. Дополнительная инжекция электронов в катодную полость основного разряда осуществляется при их отборе из плазмы вспомогательного разряда, зажигаемого между полым катодом 5 и электродом 1. Основной разряд зажигаем между полым катодом основного разряда 1 и размещенным внутри анодом 2, представляющим стержень диаметром 8 мм, включив регулируемый выпрямитель с напряжением до 2 кВ и током до 1 А. При токе электронов в вспомогательном разряде 50 мА основной разряд стабильно зажигается при давлении вплоть до 5×10-3 Па. Включаем ускоряющее ионы напряжение величиной до 5 кВ, приложенное между катодом 1 и ускоряющим электродом 9, находящимся при отрицательном относительно коллектора 10 потенциалом.
Отбор ионов из плазмы основного разряда осуществляем через круглое эмиссионное окно 4 представляющее собой коаксиальные цилиндры круглого сечения, радиусы которых связаны соотношением
Rn=nR1,
где n - порядковый номер цилиндра, начиная с первого, R1=4 мм, расположенное на боковой поверхности полого катода основного разряда 1. Длина L цилиндров, определенная из выражения L/2R1=10, равна 80 мм. При данных размерах число полых катодов в эмиссионном окне равно 24(n=24).
Предлагаемое устройство позволяет:
1. получать пучки ионов с требуемым поперечным сечением,
2. повысить равномерность ионной обработки за счет применения пучков ионов с большим поперечным сечением,
3. сократить время технологического процесса за счет увеличения плотности ионного пучка и применения пучков с большим поперечным сечением.

Claims (4)

  1. Устройство источника плазмы несамостоятельного газового разряда с эффектом полого катода, содержащее полый катод основного разряда, анод основного разряда, полый катод вспомогательного разряда, устройство для подачи газа, ускоряющий электрод, коллектор, эмиссионное окно в виде сетки, отличающееся тем, что эмиссионное окно выполнено в виде коаксиальных полых цилиндров, радиусы которых связаны соотношением
  2. Rn=n⋅R,
  3. где n - порядковый номер цилиндра, начиная с первого, а длина L цилиндров связана с радиусом первого цилиндра соотношением
  4. Figure 00000002
RU2019118007A 2019-06-10 2019-06-10 Устройство источника плазмы несамостоятельного газового разряда с эффектом полого катода RU2711344C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2019118007A RU2711344C1 (ru) 2019-06-10 2019-06-10 Устройство источника плазмы несамостоятельного газового разряда с эффектом полого катода

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2019118007A RU2711344C1 (ru) 2019-06-10 2019-06-10 Устройство источника плазмы несамостоятельного газового разряда с эффектом полого катода

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2711344C1 true RU2711344C1 (ru) 2020-01-16

Family

ID=69171388

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2019118007A RU2711344C1 (ru) 2019-06-10 2019-06-10 Устройство источника плазмы несамостоятельного газового разряда с эффектом полого катода

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2711344C1 (ru)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20010020582A1 (en) * 1999-04-28 2001-09-13 Hana Barankova Method and apparatus for plasma treatment of gas
EP1253621A3 (de) * 2001-04-25 2008-01-23 JE PlasmaConsult GmbH Vorrichtung zur Erzeugung eines Niedertemperatur-Plasmas
RU2333619C2 (ru) * 2006-06-13 2008-09-10 Институт систем обработки изображений Российской академии наук (ИСОИ РАН) Многолучевой генератор газоразрядной плазмы
RU2496283C1 (ru) * 2012-03-11 2013-10-20 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт систем обработки изображений Российской академии наук (ИСОИ РАН) Генератор широкоаппертурного потока газоразрядной плазмы

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20010020582A1 (en) * 1999-04-28 2001-09-13 Hana Barankova Method and apparatus for plasma treatment of gas
EP1253621A3 (de) * 2001-04-25 2008-01-23 JE PlasmaConsult GmbH Vorrichtung zur Erzeugung eines Niedertemperatur-Plasmas
RU2333619C2 (ru) * 2006-06-13 2008-09-10 Институт систем обработки изображений Российской академии наук (ИСОИ РАН) Многолучевой генератор газоразрядной плазмы
RU2496283C1 (ru) * 2012-03-11 2013-10-20 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт систем обработки изображений Российской академии наук (ИСОИ РАН) Генератор широкоаппертурного потока газоразрядной плазмы

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
ЖТФ, 1997, т.67, N6, с.27. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Vintizenko et al. Hollow-cathode low-pressure arc discharges and their application in plasma generators and charged-particle sources
Vorobyov et al. Investigation of the stability of the electron source with a multi-aperture plasma emitter generating a large cross-section electron beam
RU2711344C1 (ru) Устройство источника плазмы несамостоятельного газового разряда с эффектом полого катода
RU87065U1 (ru) Устройство для создания однородной газоразрядной плазмы в технологических вакуумных камерах больших объемов
RU116733U1 (ru) Устройство для создания однородно-распределенной газоразрядной плазмы в больших вакуумных объемах технологических установок
RU2167466C1 (ru) Плазменный источник ионов и способ его работы
US3970956A (en) Cylindrical electron beam diode
RU107657U1 (ru) Форвакуумный плазменный электронный источник
Bayless Plasma‐cathode electron gun
Abd Al-Halim et al. Effect of the Mesh Transparency on the Electrical Characteristics of DC Pseudo Discharge
RU134728U1 (ru) Форвакуумный источник импульсного электронного пучка
RU2725788C1 (ru) Устройство для поверхностной обработки металлических и металлокерамических изделий
RU165688U1 (ru) Генератор газоразрядной плазмы с низким давлением зажигания разряда
RU2237942C1 (ru) Сильноточная электронная пушка
Kazakov et al. Formation of pulsed large-radius electron beam in the forevacuum pressure range by a plasma-cathode source based on arc discharge
RU121813U1 (ru) Устройство для модифицирования поверхности твердого тела
RU159300U1 (ru) Электронный источник с плазменным эмиттером
RU2454046C1 (ru) Плазменный эмиттер электронов
RU131552U1 (ru) Устройство для генерации углеродной плазмы
RU209138U1 (ru) Форвакуумный плазменный источник импульсного электронного пучка на основе контрагированного дугового разряда
RU2770950C1 (ru) Источник быстрых нейтральных частиц
RU2338294C1 (ru) Широкоапертурный источник газовых ионов
RU2792344C9 (ru) Газоразрядная электронная пушка, управляемая источником ионов с замкнутым дрейфом электронов
Burdovitsin et al. Fore-Pump Plasma Source of Ribbon Electron Beam with Raised Power Density and Some its Application
Gushenets et al. Plasma Optical System Based on an Anode-Layer Plasma Thruster for Intense Electron Beam Transport