RU2650197C1 - Multi-stage plasmotron - Google Patents
Multi-stage plasmotron Download PDFInfo
- Publication number
- RU2650197C1 RU2650197C1 RU2017107601A RU2017107601A RU2650197C1 RU 2650197 C1 RU2650197 C1 RU 2650197C1 RU 2017107601 A RU2017107601 A RU 2017107601A RU 2017107601 A RU2017107601 A RU 2017107601A RU 2650197 C1 RU2650197 C1 RU 2650197C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- plasma
- electrodes
- multistage
- discharge chamber
- chamber
- Prior art date
Links
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000004157 plasmatron Methods 0.000 claims description 25
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 2
- 239000002440 industrial waste Substances 0.000 abstract description 2
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 abstract description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- SYHGEUNFJIGTRX-UHFFFAOYSA-N methylenedioxypyrovalerone Chemical compound C=1C=C2OCOC2=CC=1C(=O)C(CCC)N1CCCC1 SYHGEUNFJIGTRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/30—Plasma torches using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к генераторам плазмы, а именно к плазменным реакторам с увеличенными объемом плазмы и величиной вводимой в плазму электрической энергии, и может быть использовано в металлургии для прямого восстановления металлов, в материаловедении для синтеза порошков, в плазмохимии для реализации высокотемпературных химических реакций, в экологии для переработки производственных отходов, а также других областях техники.The invention relates to plasma generators, namely to plasma reactors with increased plasma volume and electric energy introduced into the plasma, and can be used in metallurgy for direct reduction of metals, in materials science for the synthesis of powders, in plasma chemistry for the implementation of high-temperature chemical reactions, in ecology for processing industrial waste, as well as other areas of technology.
Существующие плазменные реакторы по своей сути и конструктивно представляют собой плазмотроны: дуговые плазмотроны, ВЧ-плазмотроны и СВЧ-плазмотроны /Райзер Ю.П. Физика газового разряда. - М.: Наука, 1987. - 592 с./.Existing plasma reactors are inherently and constructively plasmatrons: arc plasmatrons, high-frequency plasmatrons and microwave plasmatrons / Raizer Yu.P. Physics of gas discharge. - M .: Nauka, 1987 .-- 592 p. /.
Недостатком дуговых плазмотронов является резкая пространственная неоднородность параметров плазмы, а недостатками ВЧ и СВЧ плазмотронов - ограниченная величина вводимой в плазму электрической энергии, лимитируемая мощностью используемых ВЧ и СВЧ генераторов (<100 кВт).The disadvantage of arc plasmatrons is a sharp spatial heterogeneity of the plasma parameters, and the disadvantages of the RF and microwave plasmatrons are the limited amount of electrical energy introduced into the plasma, limited by the power of the used RF and microwave generators (<100 kW).
Вышеуказанные недостатки преодолены плазмой комбинированного разряда, зажигаемого в газе при одновременном приложении к нему постоянного и переменного электрических полей /Патент РФ №2361376/. Плазма комбинированного разряда объемна и однородна, а вводимая в ней электрическая энергия не ограничена мощностью ВЧ и СВЧ генераторов.The above disadvantages are overcome by the plasma of a combined discharge ignited in a gas while simultaneously applying constant and alternating electric fields to it / RF Patent No. 2361376 /. The plasma of the combined discharge is voluminous and uniform, and the electric energy introduced into it is not limited by the power of the RF and microwave generators.
Комбинированный разряд реализован в гибридном плазмотроне, использующем электрическую энергию источника постоянного тока и СВЧ генератора /Lysov G., Leontiev I., Yashnov Yu. Combined MW-DC gas discharge, XXXI ICPIG, Granada, 14-19 July 2013/.The combined discharge is implemented in a hybrid plasmatron using the electric energy of a direct current source and a microwave generator / Lysov G., Leontiev I., Yashnov Yu. Combined MW-DC gas discharge, XXXI ICPIG, Granada, July 14-19, 2013 /.
Известна конструкция двухступенчатого плазмотрона, в котором первая ступень представляет собой СВЧ разрядную камеру, а вторая - дуговой плазмотрон, при этом сформированный в СВЧ разрядной камере плазменный факел поступает внутрь дугового плазмотрона через его кольцевой катод /ЕВРОПАТЕНТ № GB2484209/.A known design of a two-stage plasmatron, in which the first stage is a microwave discharge chamber, and the second is an arc plasma torch, while the plasma torch formed in the microwave discharge chamber enters the arc plasma torch through its ring cathode / EUROPATENT No. GB2484209 /.
Недостатком предложенного технического решения является то, что переменное (СВЧ) и постоянное электрические поля разнесены в пространстве, вследствие чего СВЧ поле из первой ступени не проникает в область кольцевого катода второй ступени, что ухудшает однородность эмиссии с его поверхности, снижая ресурс катода /Lysov G., Leontiev I., Yashnov Yu. Combined MW-DC gas discharge, XXXI ICPIG, Granada, 14-19 July 2013/.The disadvantage of the proposed technical solution is that the alternating (microwave) and constant electric fields are separated in space, as a result of which the microwave field from the first stage does not penetrate into the region of the ring cathode of the second stage, which impairs the uniformity of emission from its surface, reducing the cathode resource / Lysov G ., Leontiev I., Yashnov Yu. Combined MW-DC gas discharge, XXXI ICPIG, Granada, July 14-19, 2013 /.
Наиболее близким по технической сущности и достигаемому результату является одноступенчатый гибридный плазмотрон в виде СВЧ плазмохимического реактора, включающего осесимметричную металлическую разрядную камеру с верхним и нижним торцевыми днищами, расположенный по оси камеры центральный электрод, проходящий сквозь верхнее днище и отделенный от него диэлектрической вставкой, СВЧ генератор и средства подвода СВЧ энергии в разрядную камеру, средств ввода реакционных газов и исходного материала в разрядную камеру, магнитную систему с соосным с камерой внешним соленоидом, трубу, установленную по оси у выходного отверстия нижнего днища, источник постоянного напряжения, отрицательный полюс которого подсоединен к центральному электроду, а положительный - к стенкам трубы /Патент РФ №2270536/.The closest in technical essence and the achieved result is a single-stage hybrid plasmatron in the form of a microwave plasma-chemical reactor, including an axisymmetric metal discharge chamber with upper and lower end bottoms, a central electrode located along the chamber axis passing through the upper bottom and separated from it by a dielectric insert, a microwave generator and means for supplying microwave energy to the discharge chamber, means for introducing reaction gases and source material into the discharge chamber, a magnetic system with coaxial with the chamber by an external solenoid, a pipe mounted axially at the outlet of the lower bottom, a constant voltage source, the negative pole of which is connected to the central electrode, and the positive pole to the pipe walls / RF Patent No. 2270536 /.
Недостатками данного технического решения являются ограниченные протяженность плазмы, необходимая для эффективной переработки исходных продуктов, и величина вводимого в плазму комбинированного разряда электрической энергии из-за существования оптимального соотношения между СВЧ энергией и энергией постоянного тока 1:4 /www.twinn-plasma.com/, а мощность современных СВЧ генераторов, как было сказано выше, не превосходит сотни киловатт.The disadvantages of this technical solution are the limited length of the plasma necessary for the efficient processing of the starting products, and the magnitude of the combined discharge of electric energy introduced into the plasma due to the existence of an optimal ratio between microwave energy and DC energy 1: 4 /www.twinn-plasma.com/ , and the power of modern microwave generators, as mentioned above, does not exceed hundreds of kilowatts.
Задачей изобретения является устранение вышеуказанных недостатков при сохранении преимуществ комбинированного разряда.The objective of the invention is to eliminate the above disadvantages while maintaining the advantages of a combined discharge.
Техническим результатом предложенного технического решения является повышение мощности гибридного плазмотрона.The technical result of the proposed technical solution is to increase the power of the hybrid plasma torch.
Указанная задача решается, а технический эффект достигается за счет того, что в гибридном плазмотроне, включающем осесимметричную металлическую разрядную камеру с верхним и нижним торцевыми днищами, расположенный по оси камеры центральный электрод, проходящий сквозь верхнее днище и отделенный от него диэлектрической вставкой, СВЧ генератор и средства подвода СВЧ энергии в разрядную камеру, средств ввода реакционных газов и исходного материала в разрядную камеру, источник постоянного напряжения, отрицательный полюс которого подсоединен к центральному электроду, а положительный - к стенкам камеры, магнитную систему с соосным с камерой внешним соленоидом, трубу, установленную по оси у выходного отверстия нижнего днища, внутрь трубы между ее стенками и осью введены, по крайней мере, одна пара электродов, разнесенных вдоль оси и размещенных по азимуту так, что у их поверхностей, обращенных к оси, есть нормали, ориентированные преимущественно навстречу друг другу, и один источник тока, полюса которого подсоединены к электродам.This problem is solved, and the technical effect is achieved due to the fact that in a hybrid plasmatron including an axisymmetric metal discharge chamber with upper and lower end bottoms, a central electrode located along the chamber axis passing through the upper bottom and separated from it by a dielectric insert, a microwave generator, and means for supplying microwave energy to the discharge chamber, means for introducing reaction gases and source material into the discharge chamber, a constant voltage source, the negative pole of which is connected is connected to the central electrode, and positive to the walls of the chamber, a magnetic system with an external solenoid coaxial with the chamber, a pipe mounted axially at the outlet of the lower bottom, at least one pair of electrodes inserted into the pipe between its walls and axis along the axis and placed in azimuth so that their surfaces facing the axis have normals oriented mainly towards each other and one current source whose poles are connected to the electrodes.
Электроды выполнены кольцевыми.The electrodes are made ring.
Источник тока пары кольцевых электродов является источником постоянного тока и в магнитную систему для каждой пары кольцевых катода и анода введен соосно с трубой внешний соленоид.The current source of the pair of ring electrodes is a direct current source and an external solenoid is introduced coaxially with the tube for each pair of ring cathode and anode.
По крайней мере, часть нижнего днища разрядной камеры выполнена в виде катода по отношению к ближайшему кольцевому аноду.At least part of the lower bottom of the discharge chamber is made in the form of a cathode with respect to the nearest annular anode.
Центральный электрод выполнен в виде полого цилиндра, к которому подсоединены средства ввода реакционных газов и/или исходного материала.The central electrode is made in the form of a hollow cylinder to which means for introducing reaction gases and / or source material are connected.
Часть электродов имеет принудительное охлаждение.Some of the electrodes have forced cooling.
Труба имеет, по крайней мере, один ввод для реакционных газов и/или исходных продуктов.The pipe has at least one inlet for reaction gases and / or starting materials.
У дальней от выходного отверстия днища пары электродов внутренний диаметр одного из них много меньше его внешнего диаметра, который меньше внутреннего диаметра другого электрода.At the farthest pair of electrodes from the bottom of the bottom, the inner diameter of one of them is much smaller than its outer diameter, which is smaller than the inner diameter of the other electrode.
На фиг. 1 - схематично показан в разрезе двухступенчатый плазмотрон, одна из ступеней которого выполнена в виде гибридного плазмотрона.In FIG. 1 is a schematic sectional view of a two-stage plasmatron, one of the stages of which is made in the form of a hybrid plasmatron.
На фиг. 2 - показана одна из ступеней с кольцевыми электродами многоступенчатого плазмотрона, подключенными к источнику постоянного тока.In FIG. 2 - shows one of the stages with ring electrodes of a multi-stage plasma torch connected to a direct current source.
Первая ступень двухступенчатого плазмотрона представляет собой осесимметричную разрядную камеру 1 преимущественно цилиндрической формы с металлическими стенками 2, верхним 3 и нижним 4 торцевыми днищами. Внутри камеры по ее оси размещен центральный электрод 5, проходящий через верхнее днище 3 и отделенный от него диэлектрической вставкой 6. СВЧ генератор 7 через волновод 8 подключен к разрядной камере 1. Разрядная камера 1 имеет вводы 9 и 10 для подачи в нее реакционных газов и/или исходного материала. Источник постоянного тока 11 подает отрицательный потенциал на центральный электрод 5, а положительный - на стенки 2. Внешний соленоид 12 магнитной системы, охватывающий разрядную камеру 1, создает в ней магнитное поле.The first stage of the two-stage plasmatron is an
Вторая ступень выполнена в виде протяженной трубы 13, подсоединенной к торцевому нижнему днищу 4 разрядной камеры 1 и связанной с ней через отверстие 14 в нем. Внутри трубы 13 размещены попарно электроды 15 и 16, которые разнесены по азимуту, так что нормали n и n' их поверхностей направлены преимущественно навстречу друг к другу (их вектора образуют тупой угол), изолированы от стенок трубы диэлектрическим вставками 17, 18 и подсоединены к источнику питания 19.The second stage is made in the form of an extended
Предпочтительнее размещать электроды на противоположных азимутах (угол между ними 180°).It is preferable to place the electrodes at opposite azimuths (the angle between them is 180 °).
Каждую пару электродов рассматривают как дополнительную ступень плазмотрона, фиг. 2. Число пар электродов (число ступеней) определяют по требуемой величине суммарной мощности многоступенчатого плазмотрона.Each pair of electrodes is considered as an additional stage of the plasma torch, FIG. 2. The number of pairs of electrodes (the number of steps) is determined by the required value of the total power of the multi-stage plasmatron.
Многоступенчатый плазмотрон работает следующим образом.Multistage plasmatron works as follows.
В разрядную камеру 1 через вводы 9 и 10, выполненные, например, в виде патрубков, подают газ, формируя в ней газовый поток, направленный в сторону трубы 13. Разрядная камера 1, металлические стенки 2 которой выполнены, например, из нержавеющей стали вместе с центральным электродом 5, выполненным, например, из молибдена, представляет собой резонатор. В него от СВЧ генератора 7 через волновод 8 вводят СВЧ энергию и зажигают в газовом потоке СВЧ разряд.In the
Затем включают источник постоянного тока 11, пропускают через СВЧ разряд постоянный ток и получают комбинированный разряд.Then, the direct
Сформированный в разрядной камере 1 (первая ступень) поток плазмы комбинированного разряда через отверстие в нижнем торцевом днище 4, выполненном, по крайней мере, в области отверстия из тугоплавкого металла, например молибдена, втекает в трубу 13, выполненную, например, из нержавеющей стали.Formed in the discharge chamber 1 (first stage), the plasma stream of the combined discharge through an opening in the lower end bottom 4, made at least in the region of the opening of a refractory metal, such as molybdenum, flows into a
Поток плазмы движется вдоль оси трубы 13, протекая около пары электродов 15, 16, выполненных, например, из меди и электрически изолированных от стенок трубы диэлектрическими вставками 17, 18, выполненными, например, из фторопласта. К электродам 15, 16 подают напряжение от источника 19, например регулируемого источника переменного тока, пропуская сквозь протекающий плазменный поток электрический ток, вводя в плазму дополнительную энергию, чтобы компенсировать тепловые потери плазмы и поддерживать ее параметры постоянными по длине.The plasma stream moves along the axis of the
Для эффективного прохождения тока через плазму электроды 15, 16 разносят по азимуту.To effectively pass current through the plasma, the
Таким образом, многоступенчатый плазмотрон производит пространственно протяженную плазму и вводит в нее большую электрическую энергию по сравнению с прототипом, не снижая ее долговечности, причем величина этой энергии возрастает пропорционально числу ступеней плазмотрона. Кроме того, предложенное техническое решение, увеличивая длину плазменного потока, поддерживает параметры плазмы постоянными по всей длине потока, что повышает эффективность переработки исходных продуктов за счет увеличения ее длительности.Thus, a multistage plasmatron produces a spatially extended plasma and introduces into it greater electrical energy compared to the prototype, without reducing its durability, and the magnitude of this energy increases in proportion to the number of steps of the plasmatron. In addition, the proposed technical solution, increasing the length of the plasma stream, keeps the plasma parameters constant along the entire length of the stream, which increases the efficiency of processing of the starting products by increasing its duration.
Для большей эффективности ввода электрической энергии в плазму от источника 19 электроды 15 и 16 выполнены кольцевыми. При таком расположении электродов вектор электрического поля пересекает весь объем плазмы.For greater efficiency of introducing electric energy into the plasma from the
Для еще большего повышения вводимой в плазму электрической энергии используют источник постоянного тока 19 пары кольцевых электродов 15, 16 и вводят соосно с трубой внешний соленоид 20. Это позволяет зажечь и поддерживать между кольцевыми электродами дуговой разряд, электрическая мощность которого максимальна из всех существующих типов газового разряда /Райзер Ю.П. Физика газового разряда. - М.: Наука, 1987. - 592 с./, но ограничивает долговечность электродов.To further increase the electric energy introduced into the plasma, a direct current source of 19 pairs of
Для повышения эффективности переработки исходных продуктов увеличивают время их пребывания в плазме за счет их ввода через открытую полость внутри центрального электрода 5, для чего центральный электрод выполняют в виде полого цилиндра.To increase the processing efficiency of the starting products, their residence time in the plasma is increased by introducing them through an open cavity inside the
Для упрощения конструкции за счет снижения числа кольцевых электродов часть нижнего днища 4, прилегающую к отверстию в нем, используют в качестве одного из катодов по отношению к ближайшему кольцевому электроду.To simplify the design by reducing the number of ring electrodes, the part of the lower bottom 4 adjacent to the hole in it is used as one of the cathodes with respect to the nearest ring electrode.
Для повышения вводимой в плазму электрической энергии теплонагруженные кольцевые электроды имеют принудительное охлаждение.To increase the electric energy introduced into the plasma, the heat-loaded ring electrodes have forced cooling.
Для расширения функциональных возможностей многоступенчатого плазмотрона труба 13 имеет вводы для реакционных газов и исходных продуктов.To expand the functionality of a multi-stage plasma torch, the
Для плавного снижения скорости плазменного потока, вытекающего из трубы, в последней ступени диаметр последнего кольцевого электрода увеличивают, расширяя сечение плазменного потока.To smoothly reduce the speed of the plasma stream flowing from the pipe, in the last stage, the diameter of the last ring electrode is increased, expanding the cross section of the plasma stream.
Claims (8)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2017107601A RU2650197C1 (en) | 2017-03-09 | 2017-03-09 | Multi-stage plasmotron |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2017107601A RU2650197C1 (en) | 2017-03-09 | 2017-03-09 | Multi-stage plasmotron |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2650197C1 true RU2650197C1 (en) | 2018-04-11 |
Family
ID=61976464
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2017107601A RU2650197C1 (en) | 2017-03-09 | 2017-03-09 | Multi-stage plasmotron |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2650197C1 (en) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002004930A1 (en) * | 2000-07-06 | 2002-01-17 | Varian Australia Pty. Ltd. | Plasma source for spectrometry |
US20040262268A1 (en) * | 2001-08-28 | 2004-12-30 | Jeng-Ming Wu | Plasma burner with microwave stimulation |
RU2270536C1 (en) * | 2004-12-01 | 2006-02-20 | Ооо "Твинн" | Uhf plasma-chemical reactor |
US20080029030A1 (en) * | 2004-02-17 | 2008-02-07 | Toshio Goto | Plasma Generator |
GB2484209A (en) * | 2009-03-24 | 2012-04-04 | Obschestvo S Orgranichennoi Otvetstvennostyu Tvinn | Plasma Furnace |
-
2017
- 2017-03-09 RU RU2017107601A patent/RU2650197C1/en active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002004930A1 (en) * | 2000-07-06 | 2002-01-17 | Varian Australia Pty. Ltd. | Plasma source for spectrometry |
US20040262268A1 (en) * | 2001-08-28 | 2004-12-30 | Jeng-Ming Wu | Plasma burner with microwave stimulation |
US20080029030A1 (en) * | 2004-02-17 | 2008-02-07 | Toshio Goto | Plasma Generator |
RU2270536C1 (en) * | 2004-12-01 | 2006-02-20 | Ооо "Твинн" | Uhf plasma-chemical reactor |
GB2484209A (en) * | 2009-03-24 | 2012-04-04 | Obschestvo S Orgranichennoi Otvetstvennostyu Tvinn | Plasma Furnace |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA2905929C (en) | Plasma generator using dielectric resonator | |
US5418430A (en) | Plasma generator with field-enhancing electrodes | |
US9997322B2 (en) | Electrode assemblies, plasma generating apparatuses, and methods for generating plasma | |
US20070235419A1 (en) | Modular hybrid plasma reactor and related systems and methods | |
Tikhonov et al. | The low-cost microwave plasma sources for science and industry applications | |
US20150334815A1 (en) | Electromagnetic wave high frequency hybrid plasma torch | |
RU2650197C1 (en) | Multi-stage plasmotron | |
JP2527150B2 (en) | Microwave thermal plasma torch | |
Kalra et al. | Electrical discharges in the reverse vortex flow–tornado discharges | |
RU87065U1 (en) | DEVICE FOR CREATING A HOMOGENEOUS GAS DISCHARGE PLASMA IN LARGE VOLUME TECHNOLOGICAL VACUUM CAMERAS | |
Tahara et al. | Emission spectroscopic measurement of ammonia or mixture of nitrogen and hydrogen plasma in a direct-current arc jet generator with an expansion nozzle | |
CN111491437B (en) | Non-jet normal-pressure large-volume microwave plasma generation method | |
WO2010110694A1 (en) | Plasma furnace | |
JPH03211284A (en) | Multistage thermal plasma reaction apparatus | |
RU2007147155A (en) | METHOD AND DEVICE OF PLASMA-CHEMICAL SYNTHESIS OF NANO OBJECTS | |
EP4086224A1 (en) | Plasma reactor for plasma-based gas conversion comprising an effusion nozzle | |
Hrycak et al. | Tuning characteristics of cylindrical microwave plasma source operated with argon, nitrogen and methane at atmospheric pressure | |
Isakaev et al. | Effect of the opening angle of the gas-discharge path on the power efficiency of a plasmatron | |
RU2270536C1 (en) | Uhf plasma-chemical reactor | |
RU2694432C1 (en) | Microwave plasma reactor | |
RU2153781C1 (en) | Microwave plasma generator | |
Anshakov et al. | Laboratory and technological electric-arc plasma generators | |
Miyahara et al. | A new air-cooled argon/helium-compatible inductively coupled plasma torch | |
RU2558728C1 (en) | Combined induction-arc plasma generator and induction discharge ignition method | |
RU2771009C1 (en) | Method and device for increasing lateral uniformity and density of low-temperature plasma in wide-aperture microelectronics process reactors |