RU2607300C1 - Алмазный детектор ионизирующих излучений - Google Patents
Алмазный детектор ионизирующих излучений Download PDFInfo
- Publication number
- RU2607300C1 RU2607300C1 RU2015146092A RU2015146092A RU2607300C1 RU 2607300 C1 RU2607300 C1 RU 2607300C1 RU 2015146092 A RU2015146092 A RU 2015146092A RU 2015146092 A RU2015146092 A RU 2015146092A RU 2607300 C1 RU2607300 C1 RU 2607300C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- diamond
- detector
- active
- diamond layer
- substrate
- Prior art date
Links
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 54
- 239000010432 diamond Substances 0.000 title claims abstract description 54
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 14
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims abstract description 8
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 claims description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 11
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005087 graphitization Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000003758 nuclear fuel Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/08—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
- H01L31/10—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
- H01L31/115—Devices sensitive to very short wavelength, e.g. X-rays, gamma-rays or corpuscular radiation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/16—Measuring radiation intensity
- G01T1/24—Measuring radiation intensity with semiconductor detectors
Landscapes
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Abstract
Изобретение относится к полупроводниковым детекторам ионизирующих излучений, в частности к алмазным детекторам, способным работать в условиях повышенных температур, пониженных давлений, в агрессивных средах. Алмазный детектор ионизирующих излучений состоит из алмазной подложки, активного алмазного слоя, двух контактных электродов, расположенных сверху и снизу активного алмазного слоя, и выводов для подачи напряжения смещения и съема выходного сигнала, при этом нижний контактный электрод полностью распложен внутри активного алмазного слоя, при этом выводы для подачи напряжения смещения и съема выходного сигнала выполнены в виде графитовых столбиков в объеме алмазной подложки и активного алмазного слоя с выходом контактных поверхностей на нижнюю сторону подложки. Изобретение исключает утечки и пробой по поверхности кристалла, что повышает устойчивость детектора к внешним воздействующим факторам. 2 ил.
Description
Изобретение относится к полупроводниковым детекторам ионизирующих излучений, в частности к алмазным детекторам, способным работать в условиях повышенных температур, пониженных давлений, в агрессивных средах.
Основными областями применения алмазных детекторов являются атомная, космическая, медицинская отрасли. Изобретение относится к полупроводниковым детекторам ионизирующих излучений, в частности к алмазным детекторам, способным работать в условиях повышенных температур, пониженных давлений, в агрессивных средах.
Простейший алмазный полупроводниковый детектор представляет собой алмазную пластину, на противоположные стороны которой нанесены контактные электроды, на которые подается напряжение смещения и с которых производится съем сигнала. При попадании ионизирующего излучения в пластину в алмазе образуются свободные заряды (электронно-дырочные пары), которые под действием напряжения смещения движутся к контактным электродам. В результате возникает электрический ток, регистрируемый электронной аппаратурой, подключенной к детектору. Алмаз обладает определенными преимуществами по сравнению с другими полупроводниками для изготовления детекторов в ряде приложений. Алмаз является полупроводником с большой шириной запрещенной зоны (5.47 эВ) и высокой напряженностью пробоя (свыше 10 МВ/см). Поэтому алмаз обладает нулевой собственной проводимостью, а алмазные детекторы демонстрируют практически нулевые токи утечки не только при комнатной температуре, но и при нагреве до 300°C и выше. Высокая энергия выбивания атома углерода из узла кристаллической решетки алмаза обеспечивает низкую скорость деградации алмаза при облучении высокими дозами ионизирующих излучений и, следовательно, высокую радиационную стойкость алмазных детекторов.
Прототипом представленного изобретения является тонкопленочный алмазный детектор без отделения от кристалла-подложки, описание которого можно найти, например, в статье [1]. Прототип схематически изображен на фиг.1, вид со стороны боковой грани пластины. Прототип состоит из: алмазной подложки 1, проводящего алмазного слоя 2 (который играет роль нижнего контактного электрода), активного алмазного слоя детектора 3, верхнего контактного электрода 4 и выводов 5, соединенных с контактными электродами. Проводящий алмазный слой 2 может быть изготовлен либо путем легирования бором, либо с помощью графитизации подповерхностного слоя методом ионной имплантации. Активный алмазный слой детектора 3 изготавливается методом CVD-роста с соблюдением высокой степени чистоты, необходимой для обеспечения свободного дрейфа зарядов, образующихся при попадании ионизирующего излучения, между проводящими слоями 2 и 4.
Недостатком прототипа, изображенного на фиг. 1, является малое расстояние между открытыми участками контактных электродов 2 и 4, что может привести к утечкам по поверхности активного слоя 3 и в худшем случае к пробою. Из-за высокой напряженности алмаза (более 1000 В/мкм) пробоя через объем активного слоя не происходит. Однако при малом расстоянии между краями противоположных контактных электродов 2 и 4 иногда наблюдаются утечки по поверхности из-за поверхностных дефектов или загрязнений, возникающих в процессе изготовления детектора и/или его работы, которые сложно контролировать. Такая конструкция детектора полностью исключает возможность его использования при работе в агрессивных средах, например при использовании в приборах контроля режимов работы реактора, или при производстве ядерного топлива, когда требуется постоянная дезактивация детекторов активными растворами. Также при работе детектора при пониженных давлениях не удается обеспечить защиту от пробоя по поверхности из-за того, что электрическая прочность разреженного газа незначительна.
Малое расстояние между открытым участком проводящего алмазного слоя 2 (необходимого для подсоединения вывода 5) и верхним контактным электродом 4 обусловлено малыми размерами доступных алмазных подложек 1 (как правило, несколько мм). Поэтому для эффективного использования площади детектора расстояние от края верхнего контактного электрода 4 до края активного алмазного слоя 3 не превышает 0.1-0.3 мм. Даже незначительные утечки приводят к невозможности зарегистрировать сигнал, возникающий при попадании заряженной частицы в детектор, из-за его малой амплитуды.
В настоящем изобретении представлен алмазный детектор ионизирующего излучений, свободный от данного недостатка. Схематическое изображение предлагаемого детектора показано на фиг.2. В предлагаемом детекторе проводящий алмазный слой 2, играющий роль нижнего контактного электрода, полностью изолирован активным алмазным слоем 3. В процессе CVD-роста активного алмазного слоя алмаз растет не только в вертикальном направлении, но и со стороны боковых граней кристалла-подложки 1 (в прототипе на фиг.1 его либо сошлифовывают с боковой грани, либо оставляют открытый участок проводящего алмазного слоя 2 для подсоединения вывода 5). Электрическое соединение вывода 5 с нижним контактным электродом 2 осуществляется с помощью проводящих графитовых столбиков 6, изготовленных в алмазной подложке 1 с помощью лазерного излучения. Технология изготовления графитизированных областей внутри кристалла алмаза описана в [2] и применение графитизированных областей в качестве контактных электродов алмазных детекторов описаны в [3]. Изготовление графитизированных областей внутри алмаза возможно благодаря его прозрачности и производится путем фокусировки лазерного излучения на требуемой глубине внутри кристалла. Ширина графитового столбика определяется мощностью лазерного излучения и длительностью импульсов лазера. Соединение верхнего контактного электрода с выводом 5 может осуществляться как с помощью провода (как в прототипе на фиг.1), так и с помощью графитового столбика, проходящего через весь кристалл, как показано на фиг.2. В последнем случае в месте расположения второго графитового столбика не должно быть нижнего контактного электрода 2, чтобы обеспечить изоляцию между контактами. Также в этом случае возможно присоединение детектора к печатной плате методом контактного монтажа без использования проводов. В представленном детекторе все минимальные зазоры между противоположными электродами 2 и 4 находятся внутри алмаза, что значительно уменьшает вероятность утечек, пробоя и увеличивает надежность работы детектора, в том числе в условиях повышенных температур и контакта с агрессивными средами.
Техническим результатом предлагаемого изобретения является изолированный нижний контактный электрод со стороны боковых граней с выводом электрического контакта на нижнюю грань кристалла-подложки с помощью графитовых столбиков, расположенных внутри алмазной структуры. Это исключает утечки и пробой по поверхности кристалла, что повышает устойчивость детектора к внешним воздействующим факторам.
Технических результат достигается путем изготовления проводящих графитовых столбиков внутри алмазного кристалла-подложки, выходящих на нижнюю грань кристалла-подложки, обеспечивающих электрическое соединение вывода с нижним контактным электродом.
Технических решений, содержащих совокупность признаков, сходных с отличительными, не выявлено, что позволяет сделать вывод о соответствии заявляемого технического решения критерию «новизна».
Предлагаемое изобретение имеет изобретательский уровень, так как сочетание новых признаков с уже известными не очевидно для специалиста.
Источники информации
1. A. Balducci et al., Synthesis and characterization of a single-crystal chemical-vapor-deposition diamond particle detector, Applied Phys. Lett. 86 (2005) 213507-1-3.
2. A. Oh et al., A novel detector with graphitic electrodes in CVD diamond, Diamond Relat. Mater. 38 (2013) 9.
3. T.V. Kononenko, et al. Microstructuring of diamond bulk by IR femtosecond laser pulses. Applied Physics A, 90 (2008) 645.
Claims (1)
- Алмазный детектор ионизирующих излучений, состоящий из алмазной подложки, активного алмазного слоя, двух контактных электродов, расположенных сверху и снизу активного алмазного слоя, и выводов для подачи напряжения смещения и съема выходного сигнала, отличающийся тем, что нижний контактный электрод полностью распложен внутри активного алмазного слоя, при этом выводы для подачи напряжения смещения и съема выходного сигнала выполнены в виде графитовых столбиков в объеме алмазной подложки и активного алмазного слоя с выходом контактных поверхностей на нижнюю сторону подложки.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2015146092A RU2607300C1 (ru) | 2015-10-27 | 2015-10-27 | Алмазный детектор ионизирующих излучений |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2015146092A RU2607300C1 (ru) | 2015-10-27 | 2015-10-27 | Алмазный детектор ионизирующих излучений |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2607300C1 true RU2607300C1 (ru) | 2017-01-10 |
Family
ID=58452724
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2015146092A RU2607300C1 (ru) | 2015-10-27 | 2015-10-27 | Алмазный детектор ионизирующих излучений |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2607300C1 (ru) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR3066831A1 (fr) * | 2017-05-29 | 2018-11-30 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Microdosimetre a structure diamant |
CN111725336A (zh) * | 2019-03-21 | 2020-09-29 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 探测介质及其制备方法、金刚石探测器 |
RU2747599C1 (ru) * | 2020-08-21 | 2021-05-11 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики металлов имени М.Н. Михеева Уральского отделения Российской академии наук (ИФМ УрО РАН) | Способ получения тонкослойных детекторов ионизирующих излучений для кожной и глазной дозиметрии |
RU219039U1 (ru) * | 2021-10-04 | 2023-06-23 | Общество с ограниченной ответственностью "Производственно-технологический центр "УралАлмазИнвест" | Алмазный детектор |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2229731C1 (ru) * | 2002-10-07 | 2004-05-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт импульсной техники" | Алмазный детектор ионизирующих излучений |
RU2237912C2 (ru) * | 2000-03-15 | 2004-10-10 | Де Бирз Индастриал Даймондз (Пропрайэтэри) Лимитед | Детектор излучения, выполненный из алмаза |
JP2005197486A (ja) * | 2004-01-08 | 2005-07-21 | Kobe Steel Ltd | ダイヤモンドセンサ |
RU2386982C1 (ru) * | 2009-01-30 | 2010-04-20 | ФГУП "Научно-исследовательский институт физических проблем им. Ф.В. Лукина" | Детектор ионизирующих излучений |
WO2011124421A2 (de) * | 2010-03-30 | 2011-10-13 | Gsi Helmholtzzentrum Für Schwerionenforschung Gmbh | Detektor für ionisierende strahlung und verfahren zu dessen herstellung |
RU2565829C1 (ru) * | 2014-05-13 | 2015-10-20 | ООО "Производственно-технологический центр "УралАлмазИнвест" | Алмазный детектор тепловых нейтронов |
-
2015
- 2015-10-27 RU RU2015146092A patent/RU2607300C1/ru active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2237912C2 (ru) * | 2000-03-15 | 2004-10-10 | Де Бирз Индастриал Даймондз (Пропрайэтэри) Лимитед | Детектор излучения, выполненный из алмаза |
RU2229731C1 (ru) * | 2002-10-07 | 2004-05-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт импульсной техники" | Алмазный детектор ионизирующих излучений |
JP2005197486A (ja) * | 2004-01-08 | 2005-07-21 | Kobe Steel Ltd | ダイヤモンドセンサ |
RU2386982C1 (ru) * | 2009-01-30 | 2010-04-20 | ФГУП "Научно-исследовательский институт физических проблем им. Ф.В. Лукина" | Детектор ионизирующих излучений |
WO2011124421A2 (de) * | 2010-03-30 | 2011-10-13 | Gsi Helmholtzzentrum Für Schwerionenforschung Gmbh | Detektor für ionisierende strahlung und verfahren zu dessen herstellung |
RU2565829C1 (ru) * | 2014-05-13 | 2015-10-20 | ООО "Производственно-технологический центр "УралАлмазИнвест" | Алмазный детектор тепловых нейтронов |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR3066831A1 (fr) * | 2017-05-29 | 2018-11-30 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Microdosimetre a structure diamant |
CN111725336A (zh) * | 2019-03-21 | 2020-09-29 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 探测介质及其制备方法、金刚石探测器 |
CN111725336B (zh) * | 2019-03-21 | 2022-02-01 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 探测介质及其制备方法、金刚石探测器 |
RU2747599C1 (ru) * | 2020-08-21 | 2021-05-11 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики металлов имени М.Н. Михеева Уральского отделения Российской академии наук (ИФМ УрО РАН) | Способ получения тонкослойных детекторов ионизирующих излучений для кожной и глазной дозиметрии |
RU219039U1 (ru) * | 2021-10-04 | 2023-06-23 | Общество с ограниченной ответственностью "Производственно-технологический центр "УралАлмазИнвест" | Алмазный детектор |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2607300C1 (ru) | Алмазный детектор ионизирующих излучений | |
US20100155615A1 (en) | Robust radiation detector comprising diamond | |
US11063162B2 (en) | Current generation from radiation with diamond diode-based devices for detection or power generation | |
CN105552113A (zh) | 一种辐射敏感场效应晶体管及其制备方法 | |
US6774013B2 (en) | N-type boron-carbide semiconductor polytype and method of fabricating the same | |
Ciavatti et al. | Charged-particle spectroscopy in organic semiconducting single crystals | |
CN105388509A (zh) | 伽马射线检测器和检测伽马射线的方法 | |
Brown | Introduction to semiconductor particle detectors | |
MX2020012262A (es) | Un dispositivo fotovoltaico. | |
EP2535740A1 (en) | Ionizing radiation detector sensitive to the 2d position | |
MY178798A (en) | Plasma reactor vessel and assembly, and a method of performing plasma processing | |
JP3949192B2 (ja) | ダイヤモンド半導体装置の製造方法 | |
KR101821400B1 (ko) | 2차원 물질 기반의 능동소자 | |
Eernisse et al. | Electrical effects of clustered defects in heteroepitaxial Si films | |
RU2605758C1 (ru) | Источник электрического питания | |
Rancoita et al. | Silicon detectors in electromagnetic and hadronic calorimetry | |
Jin et al. | Near infrared lateral photovoltaic effect in LaTiO3 films | |
JP2018093213A (ja) | 導電体 | |
US3548218A (en) | Ultra-short-duration high-current-burst generator | |
KR101945231B1 (ko) | 2차원 물질 기반의 능동소자 | |
Ghosh et al. | A method for forming low resistance contact to P-CdTe | |
JP6222402B1 (ja) | 化合物半導体デバイス | |
Gnatyuk et al. | Enhanced X/γ-ray detection efficiency in CdTe-based Schottky diode detectors operated in a stacked mode | |
US3017548A (en) | Signal translating device | |
TW201526254A (zh) | 在基於光二極體之電子偵測器中用於降低暗電流漂移之系統及方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PD4A | Correction of name of patent owner | ||
QB4A | Licence on use of patent |
Free format text: LICENCE Effective date: 20171016 |