RU2541319C1 - Method of producing light-reflecting element workpiece for optical systems - Google Patents

Method of producing light-reflecting element workpiece for optical systems Download PDF

Info

Publication number
RU2541319C1
RU2541319C1 RU2013150228/04A RU2013150228A RU2541319C1 RU 2541319 C1 RU2541319 C1 RU 2541319C1 RU 2013150228/04 A RU2013150228/04 A RU 2013150228/04A RU 2013150228 A RU2013150228 A RU 2013150228A RU 2541319 C1 RU2541319 C1 RU 2541319C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
nickel
replica
layer
matrix
formation
Prior art date
Application number
RU2013150228/04A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Елена Витальевна Морозова
Людмила Владимировна Канафеева
Эдуард Юрьевич Горячев
Александр Михайлович Горелов
Original Assignee
Федеральное государственное унитарное предприятие "Российский Федеральный ядерный центр-Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики"-ФГУП "РФЯЦ-ВНИИЭФ"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное унитарное предприятие "Российский Федеральный ядерный центр-Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики"-ФГУП "РФЯЦ-ВНИИЭФ" filed Critical Федеральное государственное унитарное предприятие "Российский Федеральный ядерный центр-Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики"-ФГУП "РФЯЦ-ВНИИЭФ"
Priority to RU2013150228/04A priority Critical patent/RU2541319C1/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2541319C1 publication Critical patent/RU2541319C1/en

Links

Images

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

FIELD: physics.
SUBSTANCE: invention relates to a method of making a workpiece of a light-reflecting element for optical systems, which includes preliminary chemical-mechanical treatment of the surface of irregularly shaped components, and forming a metal-coated reflecting layer. Formation of the metal-coated light-reflecting layer on an iridium base is carried out after removing the replica, after successively depositing a chemical zinc sublayer, a nickel-phosphorus layer with thickness of up to 200 mcm, which is subjected to heat treatment at 110-400°C and high-intensity polishing to 6-8 E to obtain a duplicated matrix surface, followed by formation of a bearing layer of galvanic nickel from a sulphamic electrolyte of the following composition (g/l): sulphamic nickel 300-400; nickel dichloride 12-15; boric acid 25-40; sodium lauryl sulphate 0.01-0.1; saccharine 0.008 with current density of 2.5 A/dm2, temperature of 55-60°C for 8 hours, followed by removing the obtained metal-coated replica from the matrix by thermal shock, and depositing the light-reflecting iridium layer by high-precision cathode sputtering on the inner surface of the nickel replica to form a thin-wall light-reflecting element for subsequent installation into an optical system.
EFFECT: improved optical and geometric properties, adhesion of the nickel-phosphorus coating to the matrix and mechanical strength thereof.
1 ex, 1 dwg

Description

Предлагаемое изобретение относится к области технологии изготовления светоотражающих элементов сложной формы (сферической или конусовидной) для оптических систем и может быть использовано для получения высокоточных светоотражающих оптических элементов астрономических зеркал.The present invention relates to the field of manufacturing technology of reflective elements of complex shape (spherical or conical) for optical systems and can be used to obtain high-precision reflective optical elements of astronomical mirrors.

Известен из предшествующего уровня техники способ изготовления светоотражающих элементов оптических систем (патент РФ №02156487, МПК G02B 26/02, публ. 20.09.2000 г.), согласно которому предварительно подготовленную отполированную подложку (матрицу) покрывают металлодиэлектрическим покрытием и слоем высокоотражающего металла (серебром или золотом) толщиной 0,03-0,06 мкм, что обеспечивает высокие светоотражающие свойства готового зеркала.Known from the prior art, a method of manufacturing reflective elements of optical systems (RF patent No. 02156487, IPC G02B 26/02, publ. 09/20/2000), according to which a pre-prepared polished substrate (matrix) is coated with a metal-dielectric coating and a layer of highly reflective metal (silver or gold) with a thickness of 0.03-0.06 microns, which provides high reflective properties of the finished mirror.

Известен способ получения отражающих элементов оптических систем на основе покрытия, содержащего серебро, благородные металлы, иридий и другие металлы при суммарном их содержании не более 20 ат.%, которое в течение длительного времени сохраняет высокий коэффициент отражения (патент WO №2006132417, МПК8 C22C 5/06, публ. 14.12.2006 г.).A known method of producing reflective elements of optical systems based on a coating containing silver, noble metals, iridium and other metals with a total content of not more than 20 at.%, Which for a long time maintains a high reflection coefficient (patent WO No. 2006132417, IPC8 C22C 5 / 06, published on December 14, 2006).

Известен в качестве прототипа заявляемого способа способ получения светоотражающих элементов для оптических систем термическим газофазным разложением соединений благородных металлов (золота и платины) (патент РФ №01840420, МПК C23C 14/00, публ. 20.03.2007 г.), которое проводят в смешанном газовом потоке, осаждение металла ведут при температуре подложки 190÷250°C с одновременным отводом из зоны реакции органических продуктов разложения, что обеспечивает повышение коэффициента отражения покрытия готового изделия, адгезии, чистоты и стойкости к механическим воздействиям.Known as a prototype of the proposed method, a method for producing reflective elements for optical systems by thermal gas-phase decomposition of noble metal compounds (gold and platinum) (RF patent No. 01840420, IPC C23C 14/00, publ. March 20, 2007), which is carried out in a mixed gas flow, metal deposition is carried out at a substrate temperature of 190 ÷ 250 ° C with the simultaneous removal of organic decomposition products from the reaction zone, which provides an increase in the reflection coefficient of the finished product coating, adhesion, purity and mechanical resistance impacts.

К недостаткам аналогов относится проблематичность изготовления деталей (снимаемых реплик) с высокой степенью точности воспроизводимого в реплике сложной формы профиля матрицы и соблюдение требований по чистоте обработки поверхности и минимизации массы готовых изделий.The disadvantages of analogues include the difficulty of manufacturing parts (removable replicas) with a high degree of accuracy reproduced in the replica of the complex shape of the matrix profile and compliance with the requirements for clean surface treatment and minimizing the mass of finished products.

Задачей авторов изобретения является разработка способа изготовления тонкостенного светоотражающего элемента сложного профиля для оптических систем, обеспечивающего высокие оптические (коэффициент светоотражения) и геометрические показатели (толщина стенки реплики и точность воспроизведение профиля матрицы в снимаемой металлизированной реплике), заданные показатели адгезии покрытия к матрице и механической прочности, достаточные для реализации этапов высокоинтенсивной механической обработки матрицы и последующего снятия реплики.The objective of the inventors is to develop a method of manufacturing a thin-walled reflective element of a complex profile for optical systems, providing high optical (light reflectance) and geometric parameters (replica wall thickness and accuracy of reproduction of the matrix profile in a removable metallized replica), specified indicators of coating adhesion to the matrix and mechanical strength sufficient for the implementation of the stages of high-intensity machining of the matrix and subsequent removal of the replica ki.

Новый технический результат, обеспечиваемый при использовании предлагаемого изобретения, заключается в обеспечении повышения оптических (коэффициента светоотражения) и геометрических показателей (равнотолщинность реплики и точность дублирования профиля матрицы в снимаемой металлизированной реплике), показателей адгезии никель-фосфорного покрытия к матрице и его механической прочности, достаточных для проведения высокоинтенсивной механической обработки матрицы с покрытием и возможности последующего снятия формируемой реплики.A new technical result provided by using the present invention is to provide an increase in optical (light reflectance) and geometric parameters (equal thickness of the replica and the accuracy of duplication of the profile of the matrix in a removable metallized replica), indicators of adhesion of the nickel-phosphorus coating to the matrix and its mechanical strength sufficient for carrying out high-intensity machining of the coated matrix and the possibility of subsequent removal of the formed replica.

Указанные задача и новый технический результат обеспечиваются тем, что в известном способе изготовления заготовки светоотражающего элемента для оптических систем, включающем предварительную химико-механическую обработку поверхности сложнопрофильных деталей, формирование металлизированного отражающего слоя, согласно изобретению формирование металлизированного светоотражающего слоя на основе иридия производят после снятия реплики, после нанесения последовательно подслоя химического цинка, нанесения никель-фосфорного слоя толщиной до 200 мкм, который подвергают термообработке в диапазоне температур 110-400°C и высокоинтенсивной полировке до 6-8 Å с получением дублируемой поверхности матрицы, с последующим формированием несущего слоя гальванического никеля из сульфаминового электролита следующего состава (г/л):These tasks and a new technical result are ensured by the fact that in the known method of manufacturing a blank of a reflective element for optical systems, including preliminary chemical-mechanical surface treatment of complex parts, the formation of a metallized reflective layer, according to the invention, the formation of a metallized reflective layer based on iridium is carried out after removing the replica, after applying successively a sublayer of chemical zinc, applying a nickel-phosphorus layer up to 200 μm, which is subjected to heat treatment in the temperature range 110-400 ° C and high-intensity polishing up to 6-8 Å to obtain a duplicate matrix surface, followed by the formation of a supporting layer of galvanic nickel from a sulfamine electrolyte of the following composition (g / l):

никель сульфаминовыйnickel sulfamic 300-400300-400 никель двухлористыйnickel dichloride 12-1512-15 кислота борнаяboric acid 25-4025-40 натрий лаурилсульфатsodium lauryl sulfate 0,01-0,10.01-0.1 сахаринsaccharin 0,0080.008

при плотности тока 2,5 А/дм2, температуре 55-60°C в течение 8 часов, после чего полученную металлизированную реплику снимают с матрицы методом термоудара, а собственно светоотражающий слой иридия наносят методом высокоточного катодного напыления на внутреннюю поверхность никелевой реплики с образованием тонкотонкостенного светоотражающего элемента для последующей установки его в оптическую систему.at a current density of 2.5 A / dm 2 , a temperature of 55-60 ° C for 8 hours, after which the obtained metallized replica is removed from the matrix by thermal shock, and the reflective layer of iridium itself is deposited by high-precision cathodic deposition onto the inner surface of the nickel replica with the formation thin-walled reflective element for its subsequent installation in the optical system.

Предлагаемый способ поясняется следующим образом.The proposed method is illustrated as follows.

Первоначально подготавливают поверхность заготовки (матрицы заданного геометрического профиля) для сложнопрофильных деталей традиционными методами химико-механической обработки, обезжиривания в водном растворе, состоящем из смеси тринатрийфосфата 45-55 г/л с кальцинированной содой 45-55 г/л при температуре 50-60°C в течение необходимого операционного времени. После промывки в воде заготовки и нанесения последовательно удаляемого подслоя химического цинка методом химического осаждения из многосоставного цинксодержащего раствора наносят неудаляемый слой цинка и формируют никель-фосфорный слой толщиной до 200 мкм. Затем изделия подвергают высокоинтенсивной полировке до 6-8 Å с получением высокоточной дублируемой поверхности матрицы.Initially, the surface of the workpiece (matrix of a given geometric profile) is prepared for complex parts by traditional methods of chemical-mechanical treatment, degreasing in an aqueous solution consisting of a mixture of trisodium phosphate 45-55 g / l with soda ash 45-55 g / l at a temperature of 50-60 ° C for the necessary operating time. After washing the preform in water and applying a successively removed chemical zinc sublayer by chemical precipitation from a multicomponent zinc-containing solution, an unremovable zinc layer is applied and a nickel-phosphorus layer up to 200 μm thick is formed. Then the products are subjected to high-intensity polishing up to 6-8 Å to obtain a high-precision duplicated matrix surface.

Формирование удаляемого слоя цинка необходимо для активирования поверхности покрываемых сложнопрофильных деталей (матрицы) и повышения адгезии к ним наносимого впоследствии никель-фосфорного покрытия.The formation of a removable layer of zinc is necessary to activate the surface of the coated complex parts (matrix) and increase the adhesion to them subsequently applied nickel-phosphorus coating.

Никель-фосфорный слой толщиной до 200 мкм наносят методом химического восстановления, термообрабатывают в диапазоне температур 110-400°C, что способствует повышению адгезионно-механических показателей прочности получаемых покрытий и обеспечивает возможность проведения высокоинтенсивной механической обработки матрицы до чистоты 6-8 Å. Такая высокая степень чистоты обработки поверхности необходима для обеспечения высоких оптических показателей и точного последующего дублирования геометрии матрицы в создаваемой впоследствии снимаемой реплике.A nickel-phosphorus layer with a thickness of up to 200 μm is applied by chemical reduction, heat treated in the temperature range 110-400 ° C, which helps to increase the adhesion-mechanical indicators of the strength of the resulting coatings and provides the possibility of high-intensity machining of the matrix to a purity of 6-8 Å. Such a high degree of surface finish is necessary to ensure high optical performance and accurate subsequent duplication of the matrix geometry in the subsequently created removable replica.

Полученная указанным образом матрица изготовлена с поверхностью, соответствующей профилю готового изделия, и состоит из алюминиевой подложки, металлизированного подслоя цинка и полученного методом химического восстановления никель-фосфорного слоя толщиной до 200 мкм.The matrix obtained in this way is made with a surface corresponding to the profile of the finished product, and consists of an aluminum substrate, a metallized zinc sublayer and obtained by chemical reduction of a nickel-phosphorus layer up to 200 microns thick.

Заготовку тонкостенного светоотражающего элемента толщиной 280-300 мкм получают методом последующего нанесения на матрицу несущего слоя никеля гальваническим методом из сульфаминового электролита следующего состава (г/л):The preparation of a thin-walled reflective element with a thickness of 280-300 μm is obtained by the method of subsequent deposition on the matrix of the bearing layer of nickel by the galvanic method of sulfamine electrolyte of the following composition (g / l):

никель сульфаминовыйnickel sulfamic 300-400300-400 никель двухлористыйnickel dichloride 12-1512-15 кислота борнаяboric acid 25-4025-40 натрий лаурилсульфатsodium lauryl sulfate 0,01-0,10.01-0.1 сахаринsaccharin 0,0080.008

при плотности тока 2,5 А/дм2, температуре 55-60°C в течение 8 часов.at a current density of 2.5 A / dm 2 , a temperature of 55-60 ° C for 8 hours.

После очередной промывки водой, сушки заготовки осуществляют снятие тонкостенной никелевой реплики методом термоудара. Полученные заготовки тонкостенного светоотражающего элемента подвергают контрольным испытаниям по механическим показателям для дальнейшего формирования отражающего слоя иридия на внутреннюю поверхность никелевой реплики методом высокоточного катодного напыления для последующей установки его в оптическую систему.After the next washing with water and drying the billet, thin-walled nickel replicas are removed by thermal shock. The obtained blanks of a thin-walled reflective element are subjected to mechanical tests for the further formation of a reflecting layer of iridium on the inner surface of the nickel replica by high-precision cathodic deposition for its subsequent installation in an optical system.

Таким образом, при использовании предлагаемого способа изготовления заготовки светоотражающего элемента для оптических систем обеспечивается достижение нового технического результата, состоящего в обеспечении повышения оптических (коэффициента светоотражения) и геометрических показателей (равнотолщинность реплики, точность дублирования профиля матрицы в снимаемой металлизированной реплике), показателей адгезии никель-фосфорного покрытия к матрице и его механической прочности, достаточных для проведения высокоинтенсивной механической обработки матрицы с покрытием и возможности последующего облегченного снятия формируемой реплики.Thus, when using the proposed method for manufacturing a blank of a retroreflective element for optical systems, a new technical result is achieved, which consists in providing an increase in optical (light reflectance) and geometric parameters (equal thickness of the replica, accuracy of duplication of the profile of the matrix in a removable metallized replica), nickel adhesion indicators phosphorus coating to the matrix and its mechanical strength sufficient to conduct high-intensity mechanics further processing the coated matrix and the possibility of subsequent facilitated removal of the formed replica.

Возможность промышленной реализации предлагаемого способа подтверждается следующим примером.The possibility of industrial implementation of the proposed method is confirmed by the following example.

Пример 1. Предлагаемый способ был реализован в лабораторных условиях на заготовках из алюминиевого сплава АмГ6, покрытых никель-фосфорным покрытием и отполированных до 6-8 Å.Example 1. The proposed method was implemented in laboratory conditions on billets of aluminum alloy AmG6 coated with a nickel-phosphorus coating and polished to 6-8 Å.

Способ включал в себя следующие операции:The method included the following operations:

- обезжиривание в растворе состава (г/л):- degreasing in a solution of the composition (g / l):

тринатрий фосфатtrisodium phosphate 45-5545-55 кальцинированная содаsoda ash 45-5545-55

при температуре 50-60°C в течение 10 минут;at a temperature of 50-60 ° C for 10 minutes;

- промывка в горячей воде;- washing in hot water;

- промывка в холодной воде;- washing in cold water;

- никелирование в сульфаминовом электролите состава (г/л):- Nickel plating in a sulfamine electrolyte composition (g / l):

никель сульфаминовыйnickel sulfamic 300-400300-400 никель двухлористыйnickel dichloride 12-1512-15 кислота борнаяboric acid 25-4025-40 натрий лаурилсульфатsodium lauryl sulfate 0,01-0,10.01-0.1 сахаринsaccharin 0,0080.008

при плотности тока 2,5 А/дм2, температуре 55-60°C в течение 8 часов;at a current density of 2.5 A / dm 2 , a temperature of 55-60 ° C for 8 hours;

- промывка в горячей воде;- washing in hot water;

- промывка в холодной воде;- washing in cold water;

- снятие реплики;- removal of a replica;

- нанесение слоя иридия высокоточным катодным напылением;- applying a layer of iridium with high-precision cathodic deposition;

- проведение контрольных испытаний полученных образцов.- conducting control tests of the samples obtained.

На фиг.1 представлен вид никелевых реплик перед нанесением слоя иридия методом высокоточного катодного напыления.Figure 1 presents a view of nickel replicas before applying a layer of iridium by high-precision cathodic deposition.

Как показал пример выполнения предлагаемого способа, при его реализации достигаются высокие значения оптических (коэффициента светоотражения) и геометрических показателей (равнотолщинность реплики и точность дублирования профиля матрицы в снимаемой металлизированной реплике), показателей адгезии никель-фосфорного покрытия к матрице и его механической прочности, достаточных для проведения высокоинтенсивной механической обработки матрицы с покрытием и возможности последующего снятия формируемой реплики.As an example of the implementation of the proposed method showed, its implementation achieves high values of optical (light reflectance) and geometric parameters (equal thickness of the replica and the accuracy of duplication of the profile of the matrix in a removable metallized replica), indicators of adhesion of the nickel-phosphorus coating to the matrix and its mechanical strength sufficient for conducting high-intensity machining of the coated matrix and the possibility of subsequent removal of the formed replica.

Claims (1)

Способ изготовления заготовки светоотражающего элемента для оптических систем, включающий предварительную химико-механическую обработку поверхности сложнопрофильных деталей, формирование металлизированного отражающего слоя, отличающийся тем, что формирование металлизированного светоотражающего слоя на основе иридия производят после снятия реплики, после нанесения последовательно подслоя химического цинка, нанесения никель-фосфорного слоя толщиной до 200 мкм, который подвергают термообработке в диапазоне температур 110-400°C и высокоинтенсивной полировке до 6-8 Å с получением дублируемой поверхности матрицы, с последующим формированием несущего слоя гальванического никеля из сульфаминового электролита следующего состава (г/л):
никель сульфаминовый 300-400 никель двухлористый 12-15 кислота борная 25-40 натрий лаурилсульфат 0,01-0,1 сахарин 0,008

при плотности тока 2,5 А/дм2, температуре 55-60°C в течение 8 часов, после чего полученную металлизированную реплику снимают с матрицы методом термоудара, а собственно светоотражающий слой иридия наносят методом высокоточного катодного напыления на внутреннюю поверхность никелевой реплики с образованием тонкостенного светоотражающего элемента для последующей установки его в оптическую систему.
A method of manufacturing a blank of a retroreflective element for optical systems, including preliminary chemical-mechanical surface treatment of complex parts, the formation of a metallized reflective layer, characterized in that the formation of a metallized reflective layer based on iridium is carried out after removing the replica, after applying a successive sublayer of chemical zinc, applying nickel phosphorus layer up to 200 microns thick, which is subjected to heat treatment in the temperature range 110-400 ° C and is high intensive polishing to 6-8 Å to obtain a duplicate matrix surface, followed by the formation of a supporting layer of galvanic nickel from a sulfamine electrolyte of the following composition (g / l):
nickel sulfamic 300-400 nickel dichloride 12-15 boric acid 25-40 sodium lauryl sulfate 0.01-0.1 saccharin 0.008

at a current density of 2.5 A / dm 2 , a temperature of 55-60 ° C for 8 hours, after which the obtained metallized replica is removed from the matrix by thermal shock, and the reflective layer of iridium itself is deposited by high-precision cathodic deposition onto the inner surface of the nickel replica with the formation thin-walled reflective element for its subsequent installation in the optical system.
RU2013150228/04A 2013-11-11 2013-11-11 Method of producing light-reflecting element workpiece for optical systems RU2541319C1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2013150228/04A RU2541319C1 (en) 2013-11-11 2013-11-11 Method of producing light-reflecting element workpiece for optical systems

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2013150228/04A RU2541319C1 (en) 2013-11-11 2013-11-11 Method of producing light-reflecting element workpiece for optical systems

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2541319C1 true RU2541319C1 (en) 2015-02-10

Family

ID=53287130

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2013150228/04A RU2541319C1 (en) 2013-11-11 2013-11-11 Method of producing light-reflecting element workpiece for optical systems

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2541319C1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2683883C1 (en) * 2018-04-02 2019-04-02 Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (Госкорпорация "Росатом") Optical systems light-absorbing elements on the stainless steel substrates production method

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2169935C1 (en) * 1998-11-10 2001-06-27 Бвкс Текнолоджис, Инк. High-temperature reflecting optical device and process of its manufacture
RU2461029C2 (en) * 2008-03-11 2012-09-10 Ппг Индастриз Огайо, Инк. Reflecting article

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2169935C1 (en) * 1998-11-10 2001-06-27 Бвкс Текнолоджис, Инк. High-temperature reflecting optical device and process of its manufacture
RU2461029C2 (en) * 2008-03-11 2012-09-10 Ппг Индастриз Огайо, Инк. Reflecting article

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2683883C1 (en) * 2018-04-02 2019-04-02 Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (Госкорпорация "Росатом") Optical systems light-absorbing elements on the stainless steel substrates production method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100323440B1 (en) Aluminum reflector with complex reflectance enhancement surface layer
JP2003532925A (en) Reflector
EP2418521B1 (en) A method of making a temperature resistant highly reflective aluminium based surface for solar reflector applications and reflector parts made thereof
Xia et al. Investigations on the thermal control properties and corrosion resistance of MAO coatings prepared on Mg-5Y-7Gd-1Nd-0.5 Zr alloy
US6495272B1 (en) High quality optical surface and method of producing same
US5779871A (en) Process of manufacturing aluminum surfaces for technical lighting purposes
CN107109652A (en) Method for carrying out speculum coating to optical article
DE2949104C2 (en)
RU2541319C1 (en) Method of producing light-reflecting element workpiece for optical systems
RU2535894C1 (en) Method of producing thin-film light-reflecting element for optical systems
CN1580832A (en) Heavy-cabiber light composite material mirror and its preparing method
RU2566905C1 (en) Method of forming light-absorbing coating
EP2530496B1 (en) High reflectance temperature resistant aluminium based mirror reflectors
RU2582299C1 (en) Method of making hollow billet for mirror element for optical systems
JP2577832B2 (en) Platinum electroforming bath
GB2475118A (en) A temperature resistant highly reflective metallic based surface for solar reflector applications
RU2525705C1 (en) Method of making arrays for workpieces of elements of light-reflecting systems
CN110777370A (en) Modification treatment method for surface of space material reflector blank
KR101331460B1 (en) Reflection mirror for a portable searchlight and a manufacturing method thereof
RU2672655C2 (en) Method of manufacturing light-absorbing elements of optical systems on steel substrates
CN110578137A (en) high-efficiency chemical 925 silver plating method
CN114150297B (en) Surface chemical nickel plating method for high-volume aluminum-based silicon carbide composite material
CN104775143A (en) Multilayer ultra corrosion resistant nickel-chromium plating part and manufacturing method thereof
CN115612887B (en) High-strength k gold jewelry and preparation method thereof
RU2772080C2 (en) Method for manufacturing light-absorbing elements of optical systems on substrates of aluminum-magnesium alloy