RU2534173C2 - СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КОНВЕРТЕРА ВАКУУМНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ИЗЛУЧЕНИЕ ВИДИМОГО ДИАПАЗОНА В ВИДЕ АМОРФНОЙ ПЛЕНКИ ОКСИДА КРЕМНИЯ SiOХ НА КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ - Google Patents

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КОНВЕРТЕРА ВАКУУМНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ИЗЛУЧЕНИЕ ВИДИМОГО ДИАПАЗОНА В ВИДЕ АМОРФНОЙ ПЛЕНКИ ОКСИДА КРЕМНИЯ SiOХ НА КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ Download PDF

Info

Publication number
RU2534173C2
RU2534173C2 RU2013101402/02A RU2013101402A RU2534173C2 RU 2534173 C2 RU2534173 C2 RU 2534173C2 RU 2013101402/02 A RU2013101402/02 A RU 2013101402/02A RU 2013101402 A RU2013101402 A RU 2013101402A RU 2534173 C2 RU2534173 C2 RU 2534173C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
radiation
converter
amorphous silicon
film
silicon oxide
Prior art date
Application number
RU2013101402/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2013101402A (ru
Inventor
Всеволод Семенович Кортов
Анатолий Федорович Зацепин
Евгений Александрович Бунтов
Original Assignee
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина" filed Critical Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина"
Priority to RU2013101402/02A priority Critical patent/RU2534173C2/ru
Publication of RU2013101402A publication Critical patent/RU2013101402A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2534173C2 publication Critical patent/RU2534173C2/ru

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)

Abstract

Изобретение относится к способу получения люминесцентного материала - конвертера вакуумного ультрафиолетового излучения в излучение видимого диапазона в виде аморфной пленки оксида кремния SiOX на кремниевой подложке, предназначенного для создания функциональных элементов фотонных приборов нового поколения, а также для контроля жесткого ультрафиолетового излучения в вакуумных технологических процессах. Осуществляют имплантацию в вышеуказанную пленку ионов кислорода с последующим отжигом при температуре 700-900°С в течение 0,5-1 часа в атмосфере сухого азота. Для имплантации используют конвертер в виде аморфной пленки оксида кремния толщиной 20-70 нм, имплантацию проводят с энергией ионов, величину которой определяют по формуле E = 0,19 d 0,18
Figure 00000005
, где Е - энергия ионов, кэВ, d - толщина аморфной пленки диоксида кремния, которую выбирают в пределах от 20 до 70 нм, и при флюенсе, определяемом по формуле F = 2.21 10 15 ( x 2 ) d
Figure 00000006
, где F - флюенс, см-2, d - толщина аморфной пленки диоксида кремния, которую выбирают в пределах от 20 до 70 нм, x - стехиометрический коэффициент, являющийся безразмерной величиной, который выбирают в пределах от 2,01 до 2,45. Обеспечивается увеличение интенсивности красного излучения конвертера и обеспечение красного свечения при сохранении конверсии вакуумного ультрафиолетового излучения в видимое. 6 ил., 1 табл., 4 пр.

Description

Изобретение относится к способу получения люминесцентного материала - конвертера вакуумного ультрафиолетового излучения в излучение видимого диапазона в виде аморфной пленки оксида кремния SiOX на кремниевой подложке. Конвертер предназначен для создания функциональных элементов фотонных приборов нового поколения с использованием в фотосенсорике, солнечной энергетике, авиационно-космическом приборостроении, в частности для энергообеспечения систем навигации и управления беспилотных летательных аппаратов, а также для контроля жесткого ультрафиолетового излучения в вакуумных технологических процессах, например при изготовлении микросхем по 32-нанометровой и более «тонкой» технологии.
В статье [ЖТФ, 2012, т.82, вып.2, стр.153-155] описан способ получения люминесцентных материалов на основе (CaO·0,5Al2O3·5SiO2):Eu и (СаО·0,2Al2O3·SiO2):Eu с добавкой B2O3 в количестве 3 вес.%, которые могут быть использованы в качестве конвертеров ближнего ультрафиолетового излучения (пик излучения 3,2 эВ или 380 нм) в видимое излучение (350-675 нм, 1,84-3,54 эВ). Способ основан на методе прямого твердофазного синтеза при температуре 1350°С в вакууме.
Недостаток получаемых конвертеров заключается в том, что они обеспечивают преобразование в видимый свет только ближнего ультрафиолетового излучения, отсутствует возможность конверсии вакуумного ультрафиолетового излучения, которое представляет интерес для космического приборостроения, солнечной энергетики, а также при контроле наличия или отсутствия жесткого ультрафиолетового излучения в технологических процессах, например при создании микросхем по 32-нанометровой и более «тонкой» технологии.
Ближайшим к предложенному является описанный в статье [Journal of Non-Crystalline Solids 357 (2011) 1977-1980] способ получения люминесцентного материала в виде аморфной пленки оксида кремния SiOX на кремниевой подложке, работающего в качестве конвертера жесткого (вакуумного) ультрафиолетового излучения (8,25÷10,25 эВ или 150,18÷120,88 нм) в видимое излучение (1,5÷3,0 эВ, 413÷826 нм). Способ основан на получении конвертера вакуумного ультрафиолетового излучения в излучение видимого диапазона в виде аморфной пленки оксида кремния SiOX толщиной 500 нм на кремниевой подложке путем внедрения в указанную пленку ионов кислорода имплантацией с энергией ионов 100 кэВ при флюенсе 5·1016 ион/см2 с последующим отжигом при таких известных параметрах: температура 700-900°С и длительность 0,5-1 часа в атмосфере сухого азота.
Способ-прототип обеспечивает изготовление конвертера жесткого (вакуумного) ультрафиолетового излучения (8,25÷10,25 эВ или 150,18÷120,88 нм) в видимое излучение (1,5÷3,2 эВ, 387÷826 нм). Этот конвертер имеет излучение в видимой области спектра с отношением интенсивности пика красного излучения (1,9 эВ) к интенсивности излучения середины остальной части видимого спектра (2,55 эВ), равным 1,87 (Фиг.1).
Недостатком способа-прототипа является создание конвертера с видимым спектром излучения (1,5÷3,2 эВ), содержащим красную, оранжевую, зеленую, голубую, синюю и фиолетовую компоненты с преобладанием красной компоненты. При этом свечение имеет смешанный характер, не является ни чисто белым, ни чисто красным.
Задачей изобретения является создание способа получения конвертера вакуумного ультрафиолетового излучения в видимое излучение, обладающего повышенной интенсивностью красного излучения и обеспечивающего преимущественно красное свечение при сохранении конверсии вакуумного ультрафиолетового излучения.
Для решения поставленной задачи способ получения конвертера вакуумного ультрафиолетового излучения в излучение видимого диапазона в виде аморфной пленки оксида кремния SiOX на кремниевой подложке путем внедрения в указанную пленку ионов кислорода имплантацией с последующим отжигом при температуре 700-900°С в течение 0.5-1 часа в атмосфере сухого азота отличается тем, что для имплантации используют конвертер в виде аморфной пленки оксида кремния толщиной 20-70 нм, имплантацию ведут с энергией ионов, величина которой определяется по формуле
E = 0,19 d 0,18 ( 1 )
Figure 00000001
где
Е - энергия фотонов, кэВ;
d - толщина аморфной пленки диоксида кремния, выбирается в пределах от 20 до 70 нм;
и при флюенсе, определяемом по формуле
F = 2.21 10 15 ( x 2 ) d ( 2 )
Figure 00000002
где
F - флюенс, ион/см2;
d - толщина аморфной пленки диоксида кремния, выбирается в пределах от 20 до 70 нм;
x - стехиометрический коэффициент, величина безразмерная, выбирается в пределах от 2,01 до 2,45.
Техническим результатом использования предложенного способа является повышение эффективности получаемого конвертера вакуумного ультрафиолетового излучения в видимое свечение, а именно увеличение интенсивности красного излучения конвертера в 1,2÷2,7 раза и обеспечение красного свечения. Последнее достигается за счет того, что в излучении конвертера отношение интенсивности пика красного излучения (1,9 эВ) к интенсивности излучения середины остальной части видимого спектра (2,55 эВ) находится в диапазоне от 2,35 до 7,65 (таблица).
При толщине, получаемой предложенным способом, аморфной пленки оксида кремния менее 20 нм происходит деградация структуры материала и ухудшение люминесцентных свойств конвертера вследствие увеличения количества структурных дефектов, являющихся центрами тушения люминесценции. При толщине пленки более 70 нм усложняется технология получения конвертера, требуется использование ионного источника с повышенной энергией и увеличение времени имплантации, что нецелесообразно.
При стехиометрическом коэффициенте «x», равном или большем значения 2,01, обеспечивается наличие в получаемом конвертере дополнительных центров красного излучения и соответствующее увеличение интенсивности красного излучения. Однако при значениях стехиометрического коэффициента «x», больших значения 2,45, происходит ухудшение люминесцентных свойств конвертера вследствие влияния повышенного количества отрицательных ионов кислорода O 2
Figure 00000003
на единицу объема аморфной пленки оксида кремния - возникает эффект концентрационного тушения люминесценции.
На фигурах 1, 2 и 3 изображены спектры излучения известного и полученного конвертеров, а также спектр возбуждающего вакуумного излучения, при этом по вертикальным осям отложены интенсивности излучения в относительных единицах (отн.ед.), по горизонтальным - энергия фотонов излучения (эВ).
Фиг.1 - спектр излучения конвертера, представляющего собой известный люминесцентный материал в виде имплантированной ионами кислорода аморфной пленки оксида кремния SiO2:O+(или SiOX, где х=2) толщиной 500 нм на кремниевой подложке [Journal of Non-Crystalline Solids 357 (2011) 1977-1980, Figure 1 (O-related centers)].
Фиг.2 - спектр излучения предложенного конвертера в виде аморфной пленки оксида кремния SiOX, где х=2,23, толщина пленки 45 нм.
Фиг.3 - спектр возбуждения фотолюминесценции предложенного конвертера в области ультрафиолетового излучения.
Фиг.4 демонстрирует используемую при получении конвертора вакуумного ультрафиолетового излучения в излучение видимого диапазона зависимость энергии Е имплантируемых ионов O+(вертикальная ось, кэВ) от требуемой толщины d аморфной пленки оксида кремния SiOX (горизонтальная ось, нм).
Фиг.5 показывает используемые при получении конвертора вакуумного ультрафиолетового излучения в излучение видимого диапазона калибровочные зависимости флюенса F (вертикальная ось, ион/см2) от требуемой толщины d аморфной пленки оксида кремния SiOX (горизонтальная ось, нм) для нескольких постоянных значений стехиометрического коэффициента «x» (А при х=2,01, Б при х=2,23, В при х=2,45).
Фиг.6 демонстрирует используемые при получении конвертора вакуумного ультрафиолетового излучения в излучение видимого диапазона калибровочные зависимости флюенса F (вертикальная ось, ион/см2) от стехиометрического коэффициента «x» (горизонтальная ось, величина безразмерная) для нескольких постоянных значений толщины d аморфной пленки оксида кремния SiOX (Г при 20 нм, Д при 45 нм, Ж при 70 нм).
В таблице приведены параметры известного способа-прототипа получения образца 1 конвертера и предложенного способа получения нескольких образцов 2, 3 и 4 конвертера, а также параметры указанных образцов конвертера.
Figure 00000004
Имплантация ионов кислорода в аморфную пленку оксида кремния SiOX на кремниевой подложке осуществлялась с помощью ионного источника, работающего в непрерывном режиме при указанных в таблице параметрах и вакууме (1,4÷2,5)·10-4 Торр. Перед облучением образцы материала промыты в спирте в ультразвуковой ванне.
Отжиг производился в атмосфере сухого азота с использованием электропечи сопротивления (типа НТ 40/16).
Полученные образцы конвертера представляют собой плоскопараллельные пластины площадью 1 см2, толщиной 0,5 мм, с поверхностью оптического качества. Поверхностный слой каждого образца представляет собой аморфную пленку оксида кремния SiOX, включающую молекулы O2, ионы O 2
Figure 00000003
, а также точечные дефекты, созданные в процессе ионной имплантации. Нижележащая основа образца состоит из нелегированного диоксида кремния. Фотолюминесценция полученного конвертера возбуждалась вакуумным ультрафиолетовым излучением (фиг.3) с энергией фотонов в интервале 8,5÷40,5 эВ с помощью синхротрона DESY, через монохроматор. Люминесцентные спектры регистрировались фотоумножителем R6358P Hamamatsu.
Люминесцентный спектр излучения образца 1 конвертера-прототипа приведен на фигуре 1. Спектры излучения образцов 2 и 4 по форме соответствуют спектру излучения образца 2 (фиг.2), отличаясь интенсивностями излучения, указанными в таблице.
Ниже описаны примеры изготовления образцов конвертера. Номера примеров соответствуют номерам образцов в таблице.
Пример 1 (прототип). Имплантацию ионов O+ ведут в образец в виде аморфной пленки оксида кремния толщиной 500 нм на кремниевой подложке при энергии ионов 100 кэВ и флюенсе 5·1016 ион/см2. Отжиг производят в атмосфере сухого азота при температуре 900°С в течение 1 часа. Интенсивность пика красного излучения с энергией 1,9 эВ равна 1 отн.ед., а отношение интенсивности излучения с энергией 1,9 эВ к интенсивности излучения с энергией 2,55 эВ равняется 1,87. Видимое излучение такого конвертера смешанный характер.
Пример 2. Имплантацию ионов O+ ведут в образец в виде аморфной пленки оксида кремния толщиной 20 нм на кремниевой подложке при рассчитанных по формулам (1) и (2) энергии ионов 3,7 кэВ и флюенсе 4,4·1015 ион/см2. Отжиг производят в атмосфере сухого азота при температуре 850°С в течение 50 минут. Интенсивность пика красного излучения с энергией 1,9 эВ равна 1,2 отн.ед., а отношение интенсивности излучения с энергией 1,9 эВ к интенсивности излучения с энергией 2,55 эВ равняется 2,35. Излучение полученного конвертера является красным.
Пример 3. Имплантацию ионов O+ ведут в образец в виде аморфной пленки оксида кремния толщиной 45 нм на кремниевой подложке при рассчитанных по формулам (1) и (2) энергии ионов 8,4 кэВ и флюенсе 2,4·1016 ион/см2. Отжиг производят в атмосфере сухого азота при температуре 800°С в течение 40 минут. Интенсивность пика красного излучения с энергией 1,9 эВ равна 2,7 отн.ед., а отношение интенсивности излучения с энергией 1,9 эВ к интенсивности излучения с энергией 2,55 эВ равняется 7,83. Излучение полученного конвертера (фиг.2) является красным.
Пример 4. Имплантацию ионов О+ ведут в образец в виде аморфной пленки оксида кремния толщиной 70 нм на кремниевой подложке при рассчитанных по формулам (1) и (2) энергии ионов 13,2 кэВ и флюенсе 7·1016 ион/см2. Отжиг производят в атмосфере сухого азота при температуре 750°С в течение 30 минут. Интенсивность пика красного излучения с энергией 1,9 эВ равна 2,1 отн.ед., а отношение интенсивности излучения с энергией 1,9 эВ к интенсивности излучения с энергией 2,55 эВ равняется 7,65. Излучение полученного конвертера является красным.

Claims (1)

  1. Способ получения конвертера вакуумного ультрафиолетового излучения в излучение видимого диапазона в виде аморфной пленки оксида кремния SiOX на кремниевой подложке путем внедрения в указанную пленку ионов кислорода имплантацией с последующим отжигом при температуре 700÷900°С в течение 0,5÷1 часа в атмосфере сухого азота, отличающийся тем, что для имплантации используют конвертер в виде аморфной пленки оксида кремния толщиной 20÷70 нм, имплантацию проводят с энергией ионов, величину которой определяют по формуле E = 0,19 d 0,18
    Figure 00000005
    , где Е - энергия ионов, кэВ, d - толщина аморфной пленки диоксида кремния, которую выбирают в пределах от 20 до 70 нм, и при флюенсе, определяемом по формуле F = 2.21 10 15 ( x 2 ) d
    Figure 00000006
    , где F - флюенс, см-2, d - толщина аморфной пленки диоксида кремния, которую выбирают в пределах от 20 до 70 нм, x - стехиометрический коэффициент, являющийся безразмерной величиной, который выбирают в пределах от 2,01 до 2,45.
RU2013101402/02A 2013-01-10 2013-01-10 СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КОНВЕРТЕРА ВАКУУМНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ИЗЛУЧЕНИЕ ВИДИМОГО ДИАПАЗОНА В ВИДЕ АМОРФНОЙ ПЛЕНКИ ОКСИДА КРЕМНИЯ SiOХ НА КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ RU2534173C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2013101402/02A RU2534173C2 (ru) 2013-01-10 2013-01-10 СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КОНВЕРТЕРА ВАКУУМНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ИЗЛУЧЕНИЕ ВИДИМОГО ДИАПАЗОНА В ВИДЕ АМОРФНОЙ ПЛЕНКИ ОКСИДА КРЕМНИЯ SiOХ НА КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2013101402/02A RU2534173C2 (ru) 2013-01-10 2013-01-10 СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КОНВЕРТЕРА ВАКУУМНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ИЗЛУЧЕНИЕ ВИДИМОГО ДИАПАЗОНА В ВИДЕ АМОРФНОЙ ПЛЕНКИ ОКСИДА КРЕМНИЯ SiOХ НА КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2013101402A RU2013101402A (ru) 2014-07-20
RU2534173C2 true RU2534173C2 (ru) 2014-11-27

Family

ID=51215303

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2013101402/02A RU2534173C2 (ru) 2013-01-10 2013-01-10 СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КОНВЕРТЕРА ВАКУУМНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ИЗЛУЧЕНИЕ ВИДИМОГО ДИАПАЗОНА В ВИДЕ АМОРФНОЙ ПЛЕНКИ ОКСИДА КРЕМНИЯ SiOХ НА КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2534173C2 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2660212C1 (ru) * 2017-02-08 2018-07-05 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова" (КБГУ) Способ изготовления диэлектрической изоляции

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004083299A (ja) * 2002-08-23 2004-03-18 Anelva Corp 酸素あるいは窒素で終端されたシリコンナノ結晶構造体の形成方法とこれにより形成された酸素あるいは窒素で終端されたシリコンナノ結晶構造体
US20050152824A1 (en) * 2004-01-08 2005-07-14 Kear Bernard H. Nanostructured re-doped SiO2-base fluorescent materials and methods for production of same

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004083299A (ja) * 2002-08-23 2004-03-18 Anelva Corp 酸素あるいは窒素で終端されたシリコンナノ結晶構造体の形成方法とこれにより形成された酸素あるいは窒素で終端されたシリコンナノ結晶構造体
US7589002B2 (en) * 2002-08-23 2009-09-15 Anelva Corporation Method of forming an oxygen- or nitrogen-terminated silicon nanocrystalline structure and an oxygen- or nitrogen-terminated silicon nanocrystalline structure formed by the method
US20050152824A1 (en) * 2004-01-08 2005-07-14 Kear Bernard H. Nanostructured re-doped SiO2-base fluorescent materials and methods for production of same

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Buntov E.A. et. al. Electronic and vibrational states of oxygen and molecular ions inside implanted SiO2 films, Journal of non-crystalline solids, 357, 2011, 1977-1980; . *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2660212C1 (ru) * 2017-02-08 2018-07-05 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова" (КБГУ) Способ изготовления диэлектрической изоляции

Also Published As

Publication number Publication date
RU2013101402A (ru) 2014-07-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Timoshenko et al. Silicon nanocrystals as photosensitizers of active oxygen for biomedical applications
Rai et al. Spectroscopic studies of gamma irradiated Nd doped phosphate glasses
RU2534173C2 (ru) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КОНВЕРТЕРА ВАКУУМНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ИЗЛУЧЕНИЕ ВИДИМОГО ДИАПАЗОНА В ВИДЕ АМОРФНОЙ ПЛЕНКИ ОКСИДА КРЕМНИЯ SiOХ НА КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ
Masenelli et al. YAG: Ce nanoparticle lightsources
Zhang et al. Photoluminescence degradation mechanism of BaMgAl10O17: Eu2+ phosphor by vacuum ultraviolet irradiation
Belov et al. Formation and “white” photoluminescence of nanoclusters in SiO x films implanted with carbon ions
RU2526344C1 (ru) КОНВЕРТЕР ВАКУУМНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ИЗЛУЧЕНИЕ ВИДИМОГО ДИАПАЗОНА В ВИДЕ АМОРФНОЙ ПЛЕНКИ ОКСИДА КРЕМНИЯ SiOX НА КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ
RU2584205C2 (ru) МАТЕРИАЛ ДЛЯ КОНВЕРСИИ ВАКУУМНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ИЗЛУЧЕНИЕ ВИДИМОГО ДИАПАЗОНА В ВИДЕ АМОРФНОЙ ПЛЕНКИ ОКСИДА КРЕМНИЯ SiO2Sx НА КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ
Fitting et al. Cathodoluminescence of wet, dry, and hydrogen-implanted silica films
Klak et al. Mechanism of enhanced photoluminescence of Tb ions in hydrogenated silicon-rich silicon oxide films
Chen et al. X-ray excited optical luminescence of CaF2: A candidate for UV water treatment
Zatsepin et al. Creation of Si quantum dots in a silica matrix due to conversion of radiation defects under pulsed ion-beam exposure
Budilova et al. Sensitizing ZnO ultraviolet luminescence
Lin et al. Time-resolved photoluminescence analysis of multidose Si-ion-implanted SiO2
Milman et al. Luminescence properties of α-Al2O3 dosimetric crystals exposed to a high-current electron beam
CN107797312B (zh) 陶瓷复合材料及其制备方法、波长转换器
CN110344121A (zh) 一种发射蓝光薄膜材料的制备方法
Zatsepin et al. Willemite photoluminescence in Zn‐implanted silica glasses
RU2585009C1 (ru) Имплантированное ионами цинка кварцевое стекло
Nazarov et al. Band edge singularities and density of states in YTaO4 and YNbO4
Lalic Light emitting devices based on silicon nanostructures
Arai et al. Luminescence properties of Ge implanted SiO2: Ge and GeO2: Ge films
Montereali et al. F and F-aggregates colour centres in lithium fluoride for high spatial resolution x-ray imaging
Kurmaev et al. X-ray emission spectra and the effect of oxidation on the local structure of porous and spark-processed silicon
RU2443748C1 (ru) Способ получения нанокомпозитного люминофора в виде кварцевого стекла, включающего нанокластеры меди

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20150111