RU2534173C2 - СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КОНВЕРТЕРА ВАКУУМНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ИЗЛУЧЕНИЕ ВИДИМОГО ДИАПАЗОНА В ВИДЕ АМОРФНОЙ ПЛЕНКИ ОКСИДА КРЕМНИЯ SiOХ НА КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ - Google Patents
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КОНВЕРТЕРА ВАКУУМНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ИЗЛУЧЕНИЕ ВИДИМОГО ДИАПАЗОНА В ВИДЕ АМОРФНОЙ ПЛЕНКИ ОКСИДА КРЕМНИЯ SiOХ НА КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ Download PDFInfo
- Publication number
- RU2534173C2 RU2534173C2 RU2013101402/02A RU2013101402A RU2534173C2 RU 2534173 C2 RU2534173 C2 RU 2534173C2 RU 2013101402/02 A RU2013101402/02 A RU 2013101402/02A RU 2013101402 A RU2013101402 A RU 2013101402A RU 2534173 C2 RU2534173 C2 RU 2534173C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- radiation
- converter
- amorphous silicon
- film
- silicon oxide
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
Abstract
Изобретение относится к способу получения люминесцентного материала - конвертера вакуумного ультрафиолетового излучения в излучение видимого диапазона в виде аморфной пленки оксида кремния SiOX на кремниевой подложке, предназначенного для создания функциональных элементов фотонных приборов нового поколения, а также для контроля жесткого ультрафиолетового излучения в вакуумных технологических процессах. Осуществляют имплантацию в вышеуказанную пленку ионов кислорода с последующим отжигом при температуре 700-900°С в течение 0,5-1 часа в атмосфере сухого азота. Для имплантации используют конвертер в виде аморфной пленки оксида кремния толщиной 20-70 нм, имплантацию проводят с энергией ионов, величину которой определяют по формуле
, где Е - энергия ионов, кэВ, d - толщина аморфной пленки диоксида кремния, которую выбирают в пределах от 20 до 70 нм, и при флюенсе, определяемом по формуле
, где F - флюенс, см-2, d - толщина аморфной пленки диоксида кремния, которую выбирают в пределах от 20 до 70 нм, x - стехиометрический коэффициент, являющийся безразмерной величиной, который выбирают в пределах от 2,01 до 2,45. Обеспечивается увеличение интенсивности красного излучения конвертера и обеспечение красного свечения при сохранении конверсии вакуумного ультрафиолетового излучения в видимое. 6 ил., 1 табл., 4 пр.
Description
Изобретение относится к способу получения люминесцентного материала - конвертера вакуумного ультрафиолетового излучения в излучение видимого диапазона в виде аморфной пленки оксида кремния SiOX на кремниевой подложке. Конвертер предназначен для создания функциональных элементов фотонных приборов нового поколения с использованием в фотосенсорике, солнечной энергетике, авиационно-космическом приборостроении, в частности для энергообеспечения систем навигации и управления беспилотных летательных аппаратов, а также для контроля жесткого ультрафиолетового излучения в вакуумных технологических процессах, например при изготовлении микросхем по 32-нанометровой и более «тонкой» технологии.
В статье [ЖТФ, 2012, т.82, вып.2, стр.153-155] описан способ получения люминесцентных материалов на основе (CaO·0,5Al2O3·5SiO2):Eu и (СаО·0,2Al2O3·SiO2):Eu с добавкой B2O3 в количестве 3 вес.%, которые могут быть использованы в качестве конвертеров ближнего ультрафиолетового излучения (пик излучения 3,2 эВ или 380 нм) в видимое излучение (350-675 нм, 1,84-3,54 эВ). Способ основан на методе прямого твердофазного синтеза при температуре 1350°С в вакууме.
Недостаток получаемых конвертеров заключается в том, что они обеспечивают преобразование в видимый свет только ближнего ультрафиолетового излучения, отсутствует возможность конверсии вакуумного ультрафиолетового излучения, которое представляет интерес для космического приборостроения, солнечной энергетики, а также при контроле наличия или отсутствия жесткого ультрафиолетового излучения в технологических процессах, например при создании микросхем по 32-нанометровой и более «тонкой» технологии.
Ближайшим к предложенному является описанный в статье [Journal of Non-Crystalline Solids 357 (2011) 1977-1980] способ получения люминесцентного материала в виде аморфной пленки оксида кремния SiOX на кремниевой подложке, работающего в качестве конвертера жесткого (вакуумного) ультрафиолетового излучения (8,25÷10,25 эВ или 150,18÷120,88 нм) в видимое излучение (1,5÷3,0 эВ, 413÷826 нм). Способ основан на получении конвертера вакуумного ультрафиолетового излучения в излучение видимого диапазона в виде аморфной пленки оксида кремния SiOX толщиной 500 нм на кремниевой подложке путем внедрения в указанную пленку ионов кислорода имплантацией с энергией ионов 100 кэВ при флюенсе 5·1016 ион/см2 с последующим отжигом при таких известных параметрах: температура 700-900°С и длительность 0,5-1 часа в атмосфере сухого азота.
Способ-прототип обеспечивает изготовление конвертера жесткого (вакуумного) ультрафиолетового излучения (8,25÷10,25 эВ или 150,18÷120,88 нм) в видимое излучение (1,5÷3,2 эВ, 387÷826 нм). Этот конвертер имеет излучение в видимой области спектра с отношением интенсивности пика красного излучения (1,9 эВ) к интенсивности излучения середины остальной части видимого спектра (2,55 эВ), равным 1,87 (Фиг.1).
Недостатком способа-прототипа является создание конвертера с видимым спектром излучения (1,5÷3,2 эВ), содержащим красную, оранжевую, зеленую, голубую, синюю и фиолетовую компоненты с преобладанием красной компоненты. При этом свечение имеет смешанный характер, не является ни чисто белым, ни чисто красным.
Задачей изобретения является создание способа получения конвертера вакуумного ультрафиолетового излучения в видимое излучение, обладающего повышенной интенсивностью красного излучения и обеспечивающего преимущественно красное свечение при сохранении конверсии вакуумного ультрафиолетового излучения.
Для решения поставленной задачи способ получения конвертера вакуумного ультрафиолетового излучения в излучение видимого диапазона в виде аморфной пленки оксида кремния SiOX на кремниевой подложке путем внедрения в указанную пленку ионов кислорода имплантацией с последующим отжигом при температуре 700-900°С в течение 0.5-1 часа в атмосфере сухого азота отличается тем, что для имплантации используют конвертер в виде аморфной пленки оксида кремния толщиной 20-70 нм, имплантацию ведут с энергией ионов, величина которой определяется по формуле
где
Е - энергия фотонов, кэВ;
d - толщина аморфной пленки диоксида кремния, выбирается в пределах от 20 до 70 нм;
и при флюенсе, определяемом по формуле
где
F - флюенс, ион/см2;
d - толщина аморфной пленки диоксида кремния, выбирается в пределах от 20 до 70 нм;
x - стехиометрический коэффициент, величина безразмерная, выбирается в пределах от 2,01 до 2,45.
Техническим результатом использования предложенного способа является повышение эффективности получаемого конвертера вакуумного ультрафиолетового излучения в видимое свечение, а именно увеличение интенсивности красного излучения конвертера в 1,2÷2,7 раза и обеспечение красного свечения. Последнее достигается за счет того, что в излучении конвертера отношение интенсивности пика красного излучения (1,9 эВ) к интенсивности излучения середины остальной части видимого спектра (2,55 эВ) находится в диапазоне от 2,35 до 7,65 (таблица).
При толщине, получаемой предложенным способом, аморфной пленки оксида кремния менее 20 нм происходит деградация структуры материала и ухудшение люминесцентных свойств конвертера вследствие увеличения количества структурных дефектов, являющихся центрами тушения люминесценции. При толщине пленки более 70 нм усложняется технология получения конвертера, требуется использование ионного источника с повышенной энергией и увеличение времени имплантации, что нецелесообразно.
При стехиометрическом коэффициенте «x», равном или большем значения 2,01, обеспечивается наличие в получаемом конвертере дополнительных центров красного излучения и соответствующее увеличение интенсивности красного излучения. Однако при значениях стехиометрического коэффициента «x», больших значения 2,45, происходит ухудшение люминесцентных свойств конвертера вследствие влияния повышенного количества отрицательных ионов кислорода
на единицу объема аморфной пленки оксида кремния - возникает эффект концентрационного тушения люминесценции.
На фигурах 1, 2 и 3 изображены спектры излучения известного и полученного конвертеров, а также спектр возбуждающего вакуумного излучения, при этом по вертикальным осям отложены интенсивности излучения в относительных единицах (отн.ед.), по горизонтальным - энергия фотонов излучения (эВ).
Фиг.1 - спектр излучения конвертера, представляющего собой известный люминесцентный материал в виде имплантированной ионами кислорода аморфной пленки оксида кремния SiO2:O+(или SiOX, где х=2) толщиной 500 нм на кремниевой подложке [Journal of Non-Crystalline Solids 357 (2011) 1977-1980, Figure 1 (O-related centers)].
Фиг.2 - спектр излучения предложенного конвертера в виде аморфной пленки оксида кремния SiOX, где х=2,23, толщина пленки 45 нм.
Фиг.3 - спектр возбуждения фотолюминесценции предложенного конвертера в области ультрафиолетового излучения.
Фиг.4 демонстрирует используемую при получении конвертора вакуумного ультрафиолетового излучения в излучение видимого диапазона зависимость энергии Е имплантируемых ионов O+(вертикальная ось, кэВ) от требуемой толщины d аморфной пленки оксида кремния SiOX (горизонтальная ось, нм).
Фиг.5 показывает используемые при получении конвертора вакуумного ультрафиолетового излучения в излучение видимого диапазона калибровочные зависимости флюенса F (вертикальная ось, ион/см2) от требуемой толщины d аморфной пленки оксида кремния SiOX (горизонтальная ось, нм) для нескольких постоянных значений стехиометрического коэффициента «x» (А при х=2,01, Б при х=2,23, В при х=2,45).
Фиг.6 демонстрирует используемые при получении конвертора вакуумного ультрафиолетового излучения в излучение видимого диапазона калибровочные зависимости флюенса F (вертикальная ось, ион/см2) от стехиометрического коэффициента «x» (горизонтальная ось, величина безразмерная) для нескольких постоянных значений толщины d аморфной пленки оксида кремния SiOX (Г при 20 нм, Д при 45 нм, Ж при 70 нм).
В таблице приведены параметры известного способа-прототипа получения образца 1 конвертера и предложенного способа получения нескольких образцов 2, 3 и 4 конвертера, а также параметры указанных образцов конвертера.
Имплантация ионов кислорода в аморфную пленку оксида кремния SiOX на кремниевой подложке осуществлялась с помощью ионного источника, работающего в непрерывном режиме при указанных в таблице параметрах и вакууме (1,4÷2,5)·10-4 Торр. Перед облучением образцы материала промыты в спирте в ультразвуковой ванне.
Отжиг производился в атмосфере сухого азота с использованием электропечи сопротивления (типа НТ 40/16).
Полученные образцы конвертера представляют собой плоскопараллельные пластины площадью 1 см2, толщиной 0,5 мм, с поверхностью оптического качества. Поверхностный слой каждого образца представляет собой аморфную пленку оксида кремния SiOX, включающую молекулы O2, ионы
, а также точечные дефекты, созданные в процессе ионной имплантации. Нижележащая основа образца состоит из нелегированного диоксида кремния. Фотолюминесценция полученного конвертера возбуждалась вакуумным ультрафиолетовым излучением (фиг.3) с энергией фотонов в интервале 8,5÷40,5 эВ с помощью синхротрона DESY, через монохроматор. Люминесцентные спектры регистрировались фотоумножителем R6358P Hamamatsu.
Люминесцентный спектр излучения образца 1 конвертера-прототипа приведен на фигуре 1. Спектры излучения образцов 2 и 4 по форме соответствуют спектру излучения образца 2 (фиг.2), отличаясь интенсивностями излучения, указанными в таблице.
Ниже описаны примеры изготовления образцов конвертера. Номера примеров соответствуют номерам образцов в таблице.
Пример 1 (прототип). Имплантацию ионов O+ ведут в образец в виде аморфной пленки оксида кремния толщиной 500 нм на кремниевой подложке при энергии ионов 100 кэВ и флюенсе 5·1016 ион/см2. Отжиг производят в атмосфере сухого азота при температуре 900°С в течение 1 часа. Интенсивность пика красного излучения с энергией 1,9 эВ равна 1 отн.ед., а отношение интенсивности излучения с энергией 1,9 эВ к интенсивности излучения с энергией 2,55 эВ равняется 1,87. Видимое излучение такого конвертера смешанный характер.
Пример 2. Имплантацию ионов O+ ведут в образец в виде аморфной пленки оксида кремния толщиной 20 нм на кремниевой подложке при рассчитанных по формулам (1) и (2) энергии ионов 3,7 кэВ и флюенсе 4,4·1015 ион/см2. Отжиг производят в атмосфере сухого азота при температуре 850°С в течение 50 минут. Интенсивность пика красного излучения с энергией 1,9 эВ равна 1,2 отн.ед., а отношение интенсивности излучения с энергией 1,9 эВ к интенсивности излучения с энергией 2,55 эВ равняется 2,35. Излучение полученного конвертера является красным.
Пример 3. Имплантацию ионов O+ ведут в образец в виде аморфной пленки оксида кремния толщиной 45 нм на кремниевой подложке при рассчитанных по формулам (1) и (2) энергии ионов 8,4 кэВ и флюенсе 2,4·1016 ион/см2. Отжиг производят в атмосфере сухого азота при температуре 800°С в течение 40 минут. Интенсивность пика красного излучения с энергией 1,9 эВ равна 2,7 отн.ед., а отношение интенсивности излучения с энергией 1,9 эВ к интенсивности излучения с энергией 2,55 эВ равняется 7,83. Излучение полученного конвертера (фиг.2) является красным.
Пример 4. Имплантацию ионов О+ ведут в образец в виде аморфной пленки оксида кремния толщиной 70 нм на кремниевой подложке при рассчитанных по формулам (1) и (2) энергии ионов 13,2 кэВ и флюенсе 7·1016 ион/см2. Отжиг производят в атмосфере сухого азота при температуре 750°С в течение 30 минут. Интенсивность пика красного излучения с энергией 1,9 эВ равна 2,1 отн.ед., а отношение интенсивности излучения с энергией 1,9 эВ к интенсивности излучения с энергией 2,55 эВ равняется 7,65. Излучение полученного конвертера является красным.
Claims (1)
- Способ получения конвертера вакуумного ультрафиолетового излучения в излучение видимого диапазона в виде аморфной пленки оксида кремния SiOX на кремниевой подложке путем внедрения в указанную пленку ионов кислорода имплантацией с последующим отжигом при температуре 700÷900°С в течение 0,5÷1 часа в атмосфере сухого азота, отличающийся тем, что для имплантации используют конвертер в виде аморфной пленки оксида кремния толщиной 20÷70 нм, имплантацию проводят с энергией ионов, величину которой определяют по формуле
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2013101402/02A RU2534173C2 (ru) | 2013-01-10 | 2013-01-10 | СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КОНВЕРТЕРА ВАКУУМНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ИЗЛУЧЕНИЕ ВИДИМОГО ДИАПАЗОНА В ВИДЕ АМОРФНОЙ ПЛЕНКИ ОКСИДА КРЕМНИЯ SiOХ НА КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2013101402/02A RU2534173C2 (ru) | 2013-01-10 | 2013-01-10 | СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КОНВЕРТЕРА ВАКУУМНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ИЗЛУЧЕНИЕ ВИДИМОГО ДИАПАЗОНА В ВИДЕ АМОРФНОЙ ПЛЕНКИ ОКСИДА КРЕМНИЯ SiOХ НА КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2013101402A RU2013101402A (ru) | 2014-07-20 |
RU2534173C2 true RU2534173C2 (ru) | 2014-11-27 |
Family
ID=51215303
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2013101402/02A RU2534173C2 (ru) | 2013-01-10 | 2013-01-10 | СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КОНВЕРТЕРА ВАКУУМНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ИЗЛУЧЕНИЕ ВИДИМОГО ДИАПАЗОНА В ВИДЕ АМОРФНОЙ ПЛЕНКИ ОКСИДА КРЕМНИЯ SiOХ НА КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2534173C2 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2660212C1 (ru) * | 2017-02-08 | 2018-07-05 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова" (КБГУ) | Способ изготовления диэлектрической изоляции |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004083299A (ja) * | 2002-08-23 | 2004-03-18 | Anelva Corp | 酸素あるいは窒素で終端されたシリコンナノ結晶構造体の形成方法とこれにより形成された酸素あるいは窒素で終端されたシリコンナノ結晶構造体 |
US20050152824A1 (en) * | 2004-01-08 | 2005-07-14 | Kear Bernard H. | Nanostructured re-doped SiO2-base fluorescent materials and methods for production of same |
-
2013
- 2013-01-10 RU RU2013101402/02A patent/RU2534173C2/ru not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004083299A (ja) * | 2002-08-23 | 2004-03-18 | Anelva Corp | 酸素あるいは窒素で終端されたシリコンナノ結晶構造体の形成方法とこれにより形成された酸素あるいは窒素で終端されたシリコンナノ結晶構造体 |
US7589002B2 (en) * | 2002-08-23 | 2009-09-15 | Anelva Corporation | Method of forming an oxygen- or nitrogen-terminated silicon nanocrystalline structure and an oxygen- or nitrogen-terminated silicon nanocrystalline structure formed by the method |
US20050152824A1 (en) * | 2004-01-08 | 2005-07-14 | Kear Bernard H. | Nanostructured re-doped SiO2-base fluorescent materials and methods for production of same |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Buntov E.A. et. al. Electronic and vibrational states of oxygen and molecular ions inside implanted SiO2 films, Journal of non-crystalline solids, 357, 2011, 1977-1980; . * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2660212C1 (ru) * | 2017-02-08 | 2018-07-05 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова" (КБГУ) | Способ изготовления диэлектрической изоляции |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2013101402A (ru) | 2014-07-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Timoshenko et al. | Silicon nanocrystals as photosensitizers of active oxygen for biomedical applications | |
Rai et al. | Spectroscopic studies of gamma irradiated Nd doped phosphate glasses | |
RU2534173C2 (ru) | СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КОНВЕРТЕРА ВАКУУМНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ИЗЛУЧЕНИЕ ВИДИМОГО ДИАПАЗОНА В ВИДЕ АМОРФНОЙ ПЛЕНКИ ОКСИДА КРЕМНИЯ SiOХ НА КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ | |
Masenelli et al. | YAG: Ce nanoparticle lightsources | |
Zhang et al. | Photoluminescence degradation mechanism of BaMgAl10O17: Eu2+ phosphor by vacuum ultraviolet irradiation | |
Belov et al. | Formation and “white” photoluminescence of nanoclusters in SiO x films implanted with carbon ions | |
RU2526344C1 (ru) | КОНВЕРТЕР ВАКУУМНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ИЗЛУЧЕНИЕ ВИДИМОГО ДИАПАЗОНА В ВИДЕ АМОРФНОЙ ПЛЕНКИ ОКСИДА КРЕМНИЯ SiOX НА КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ | |
RU2584205C2 (ru) | МАТЕРИАЛ ДЛЯ КОНВЕРСИИ ВАКУУМНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ИЗЛУЧЕНИЕ ВИДИМОГО ДИАПАЗОНА В ВИДЕ АМОРФНОЙ ПЛЕНКИ ОКСИДА КРЕМНИЯ SiO2Sx НА КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ | |
Fitting et al. | Cathodoluminescence of wet, dry, and hydrogen-implanted silica films | |
Klak et al. | Mechanism of enhanced photoluminescence of Tb ions in hydrogenated silicon-rich silicon oxide films | |
Chen et al. | X-ray excited optical luminescence of CaF2: A candidate for UV water treatment | |
Zatsepin et al. | Creation of Si quantum dots in a silica matrix due to conversion of radiation defects under pulsed ion-beam exposure | |
Budilova et al. | Sensitizing ZnO ultraviolet luminescence | |
Lin et al. | Time-resolved photoluminescence analysis of multidose Si-ion-implanted SiO2 | |
Milman et al. | Luminescence properties of α-Al2O3 dosimetric crystals exposed to a high-current electron beam | |
CN107797312B (zh) | 陶瓷复合材料及其制备方法、波长转换器 | |
CN110344121A (zh) | 一种发射蓝光薄膜材料的制备方法 | |
Zatsepin et al. | Willemite photoluminescence in Zn‐implanted silica glasses | |
RU2585009C1 (ru) | Имплантированное ионами цинка кварцевое стекло | |
Nazarov et al. | Band edge singularities and density of states in YTaO4 and YNbO4 | |
Lalic | Light emitting devices based on silicon nanostructures | |
Arai et al. | Luminescence properties of Ge implanted SiO2: Ge and GeO2: Ge films | |
Montereali et al. | F and F-aggregates colour centres in lithium fluoride for high spatial resolution x-ray imaging | |
Kurmaev et al. | X-ray emission spectra and the effect of oxidation on the local structure of porous and spark-processed silicon | |
RU2443748C1 (ru) | Способ получения нанокомпозитного люминофора в виде кварцевого стекла, включающего нанокластеры меди |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20150111 |