RU2523089C2 - Calibration of semiconductor gas sensors and device to this end - Google Patents
Calibration of semiconductor gas sensors and device to this end Download PDFInfo
- Publication number
- RU2523089C2 RU2523089C2 RU2012134123/28A RU2012134123A RU2523089C2 RU 2523089 C2 RU2523089 C2 RU 2523089C2 RU 2012134123/28 A RU2012134123/28 A RU 2012134123/28A RU 2012134123 A RU2012134123 A RU 2012134123A RU 2523089 C2 RU2523089 C2 RU 2523089C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- calibration
- gas
- sensor
- heating
- semiconductor
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/0004—Gaseous mixtures, e.g. polluted air
- G01N33/0006—Calibrating gas analysers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к области анализа газов и исследования физико-химических процессов на поверхности полупроводниковых материалов и направлено на улучшение качества приборов газового контроля, выпускаемых отечественными производителями.The invention relates to the field of gas analysis and the study of physical and chemical processes on the surface of semiconductor materials and is aimed at improving the quality of gas control devices manufactured by domestic manufacturers.
Изобретение может быть использовано в области газоаналитического приборостроения в части метрологического его обеспечения - калибровки посредством поверочных газовых смесей в массовом производстве интеллектуальных полупроводниковых газовых сенсоров для контроля примесей метана, пропана, водорода, угарного газа, аммиака в воздухе рабочей зоны промышленных предприятий.The invention can be used in the field of gas analytical instrumentation in terms of its metrological support - calibration by means of calibration gas mixtures in the mass production of intelligent semiconductor gas sensors to control impurities of methane, propane, hydrogen, carbon monoxide, ammonia in the air of the working zone of industrial enterprises.
Известен способ определения работоспособности полупроводникового газового сенсора, состоящий в анализе Фурье-спектра временной зависимости проводимости газочувствительного слоя полупроводникового сенсора при его циклического нагреве и охлаждении в интервале температур адсорбции газа, в атмосфере которого находится сенсор (см. патент RU №2396554, G01N 27/00, 2010 г.).A known method for determining the health of a semiconductor gas sensor, consisting in the analysis of the Fourier spectrum of the time dependence of the conductivity of the gas-sensitive layer of the semiconductor sensor during its cyclic heating and cooling in the temperature range of gas adsorption in the atmosphere of which the sensor is located (see patent RU No. 2396554, G01N 27/00 , 2010).
Недостатком применения данного способа для калибровки газовых сенсоров полупроводникового типа является невысокая точность и селективность измерения, поскольку оптимизация состава и рабочей температуры полупроводникового материала сенсора не позволяет полностью подавить возможность взаимодействия с ним газообразных примесей и дополнительных влияющих факторов.The disadvantage of using this method for calibrating gas sensors of a semiconductor type is the low accuracy and selectivity of the measurement, since the optimization of the composition and operating temperature of the semiconductor material of the sensor does not completely suppress the possibility of interaction with gaseous impurities and additional influencing factors.
Наиболее близким к предлагаемому изобретению способом возможной калибровки газового сенсора полупроводникового типа является способ по Патенту RU №2371709, G0127/14, 2009 г.Closest to the proposed invention, the method of possible calibration of the gas sensor of the semiconductor type is the method according to Patent RU No. 2371709, G0127 / 14, 2009.
Способ состоит из определения концентрации водорода в присутствии газообразных примесей и заключается в том, что измеряют электрический сигнал на выходе полупроводникового сенсора с чувствительным слоем из оксида металла при нагревании его до заданной температуры, по значению этого сигнала определяют величину проводимости чувствительного слоя полупроводникового сенсора, запоминают, сопоставляют ее с предварительно полученным калибровочным значением и определяют концентрацию водорода. При этом сигнал на выходе полупроводникового сенсора измеряют непрерывно, циклически нагревая его до температуры Т1 и охлаждая его до температуры Т2. Определяют производную проводимости чувствительного слоя сенсора по времени в течение интервала времени между окончанием нагрева до температуры Т1 и окончанием охлаждения до температуры Т2. Определяют величину проводимости, являющуюся функцией концентрации газа. Затем определяют наличие и количество локальных минимумов зависимости проводимости чувствительного слоя от времени в интервале между окончанием нагрева и окончанием охлаждения, при этом, если таких локальных минимумов было два, электрический сигнал на выходе полупроводникового сенсора измеряют в момент времени между первым и последним локальным минимумом, в котором абсолютная величина производной проводимости по времени достигает минимума, если локальный минимум был один, то электрический сигнал на выходе полупроводникового сенсора измеряют в момент времени между окончанием нагрева и последним локальным минимумом, в котором абсолютная величина производной проводимости по времени достигает минимума, и по значению измеренного электрического сигнала судят о величине проводимости чувствительного слоя полупроводникового сенсора, по которой определяют концентрацию водорода.The method consists of determining the concentration of hydrogen in the presence of gaseous impurities and consists in measuring the electrical signal at the output of a semiconductor sensor with a sensitive layer of metal oxide when it is heated to a given temperature, the value of the conductivity of the sensitive layer of the semiconductor sensor is determined by the value of this signal, compare it with the previously obtained calibration value and determine the concentration of hydrogen. In this case, the signal at the output of the semiconductor sensor is measured continuously, cyclically heating it to a temperature T1 and cooling it to a temperature T2. The time derivative of the conductivity of the sensor sensitive layer is determined over the time interval between the end of heating to temperature T1 and the end of cooling to temperature T2. The conductivity value, which is a function of gas concentration, is determined. Then, the presence and number of local minima of the dependence of the conductivity of the sensitive layer on time in the interval between the end of heating and the end of cooling is determined, and if there are two such minima, the electrical signal at the output of the semiconductor sensor is measured at the time between the first and last local minimum, in where the absolute value of the time derivative of the conductivity reaches a minimum, if the local minimum was one, then the electrical signal at the output of the semiconductor sensor and measured at the time between the end of heating and the last local minimum, in which the absolute value of the derivative of conductivity in time reaches a minimum, and the value of the measured electrical signal judges the conductivity of the sensitive layer of the semiconductor sensor, which determines the concentration of hydrogen.
Недостатком этого способа является отсутствие практической, применимой в массовом производстве интеллектуальных полупроводниковых сенсоров методики калибровки сенсоров, требующей большей функциональности и возможностей структурированной базы данных результатов калибровки.The disadvantage of this method is the lack of a practical, applicable in the mass production of intelligent semiconductor sensors sensor calibration technique that requires more functionality and capabilities of a structured database of calibration results.
Задачей изобретения является практическая, применимая в промышленном массовом производстве калибровка газовых сенсоров полупроводникового типа для контроля концентрации газовых компонент СН4, С3Н8, Н2, СО, NH3 в воздухе рабочей зоны промышленных предприятий.The objective of the invention is a practical, applicable in industrial mass production calibration of gas sensors of the semiconductor type to control the concentration of gas components of CH4, C3H8, H2, CO, NH3 in the air of the working area of industrial enterprises.
Поставленная задача осуществляется следующим образом.The task is carried out as follows.
В предлагаемом способе в соответствии с ГОСТ 13320-81 ГАЗОАНАЛИЗАТОРЫ ПРОМЫШЛЕННЫЕ АВТОМАТИЧЕСКИЕ калибровка полупроводникового сенсора реализуется с помощью программно-аппаратного измерительного комплекса и состоит в том, что циклически заданное количество раз (K раз) нагревают чувствительный элемент сенсора в чистом воздухе (ПГС-1) до температуры Т1 и охлаждают до температуры Т2, далее в течение следующих К циклов нагрева и охлаждения подают поверочную газовую смесь ПГС-2 в область чувствительного элемента, далее в течение следующих K циклов подают поверочную газовую смесь ПГС-3 в область чувствительного элемента, далее в течение следующих K циклов подают поверочную газовую смесь ПГС-N в область чувствительного элемента, строят семейство (на фиг.2, 4) из N=4 временных зависимостей проводимости газочувствительного слоя σ(t) для каждой газовой смеси и для фиксированного в цикле момента времени ti определяют градуировочную характеристикуIn the proposed method, in accordance with GOST 13320-81 GAS ANALYZERS INDUSTRIAL AUTOMATIC calibration of the semiconductor sensor is carried out using a hardware-software measuring complex and consists in the fact that the sensor element is cyclically set (K times) in clean air (PGS-1) to a temperature of T1 and cooled to a temperature of T2, then during the next K heating and cooling cycles a calibration gas mixture PGS-2 is supplied to the area of the sensor, then for the next K cycle OVS serves calibration gas mixture PGS-3 in the region of the sensitive element, then during the next K cycles serves the calibration gas mixture PGS-N in the region of the sensitive element, build a family (in figure 2, 4) of N = 4 time dependences of the conductivity of the gas-sensitive layer σ (t) for each gas mixture and for a fixed time ti in the cycle, determine the calibration characteristic
где k=1,2,3,…,N; i=1-СН4, i=2-С3Н8, i=3-H2, i=4CO, i=5-NH3; ti - момент времени, отсчитываемый от начала нагрева сенсора, в который происходит N измерений величины проводимости в 6, 12, 18,…6×N цикле нагрева и охлаждения сенсора; T1i - температура нагрева чувствительного элемента в среде i-го газа, T2i - температура охлаждения чувствительного элемента сенсора в среде i-го газа, Δ12i - время охлаждения газочувствительного элемента сенсора от Т1 до Т2; Cik - концентрация i-го газового компонента в поверочной газовой смеси ПГС-k, подаваемой на сенсор.where k = 1,2,3, ..., N; i = 1-CH4, i = 2-C3H8, i = 3-H2, i = 4CO, i = 5-NH3; ti is the point in time measured from the start of heating of the sensor at which N measurements of the conductivity take place in the 6, 12, 18, ... 6 × N cycle of heating and cooling the sensor; T1i is the heating temperature of the sensor in the ith gas environment, T2i is the cooling temperature of the sensor in the ith gas environment, Δ12 i is the cooling time of the gas sensor element from T1 to T2; Ci k is the concentration of the ith gas component in the PGS-k calibration gas mixture supplied to the sensor.
Функции σ(t) - это непрерывные функции с характерными для каждого газа первыми и вторыми производными dσ/dt и dσ/dt(dσ/dt).The functions σ (t) are continuous functions with the first and second derivatives dσ / dt and dσ / dt (dσ / dt) characteristic of each gas.
Градуировочные характеристики для каждого i-го газа определяют посредством алгоритма временного сечения - определения в фиксированный момент времени ti N значений
Полученную таким образом градуировочную характеристику аппроксимируют и загружают в процессор интеллектуального полупроводникового сенсора, который устанавливается в газоанализаторе, где в эксплутационном режиме измерения опрашивается центральным процессором газоанализатора и на его дисплее индицируются показания измеренной концентрации газового компонента. Изобретение позволяет проводить калибровку полупроводниковых интеллектуальных сенсоров с повышенной точностью и достоверностью в условиях их массового производства.The calibration characteristic obtained in this way is approximated and loaded into the processor of an intelligent semiconductor sensor, which is installed in the gas analyzer, where in the operational mode the measurements are interrogated by the central processor of the gas analyzer and the readings of the measured concentration of the gas component are displayed on its display. The invention allows the calibration of semiconductor smart sensors with increased accuracy and reliability in terms of their mass production.
Такое построение способа калибровки полупроводниковых сенсоров газа обеспечивает решение поставленной задачи - качественная калибровка полупроводниковых сенсоров в условиях серийного производства и дополнительно позволяет определять физико-химические свойства полупроводниковых материалов с каталитическими добавками с целью оптимизации состава и технологии изготовления сенсора.Such a construction of a method for calibrating semiconductor gas sensors provides a solution to the problem - high-quality calibration of semiconductor sensors in mass production and additionally allows you to determine the physicochemical properties of semiconductor materials with catalytic additives in order to optimize the composition and manufacturing technology of the sensor.
На фиг.1, 2, 3, 4, 5, 6 показаны структурная схема и устройство для осуществления способа калибровки полупроводниковых сенсоров.Figure 1, 2, 3, 4, 5, 6 shows a structural diagram and a device for implementing the method of calibration of semiconductor sensors.
На фиг.7 показано семейство временных реализаций σ(t) - зависимости проводимости газочувствительного слоя полупроводникового сенсора для разных концентраций метана при его подаче в область сенсора от баллонов высокого давления с поверочными газовыми смесями ПГС-1, ПГС-2, ПГС-3, ПГС-4, ПГС-5 через подводящую трубку, одетую на штуцер 5-ти ячеечной камеры, поверх которой закреплены 5 интеллектуальных газовых модулей.Figure 7 shows a family of temporary realizations of σ (t) - the dependence of the conductivity of the gas-sensitive layer of the semiconductor sensor for different concentrations of methane when it is fed into the sensor region from high-pressure cylinders with calibration gas mixtures PGS-1, PGS-2, PGS-3, PGS -4, ПГС-5 through a supply tube, dressed on the fitting of a 5-cell chamber, on top of which 5 intelligent gas modules are fixed.
На фиг.8 изображены градуировочная характеристика и обратная сглаженная градуировочная характеристика для метана.On Fig depicts the calibration characteristic and the inverse smoothed calibration characteristic for methane.
На фиг.9 показано семейство из 5 временных реализаций σ(t) - зависимости проводимости газочувствительного слоя полупроводникового сенсора для разных концентраций водорода.Figure 9 shows a family of 5 temporary realizations of σ (t) - the dependence of the conductivity of the gas-sensitive layer of the semiconductor sensor for different concentrations of hydrogen.
На фиг 10 изображены градуировочная характеристика и обратная сглаженная градуировочная характеристика для водорода - поверочные газовые смеси ПГС-1, ПГС-6, ПГС-7, ПГС-8, ПГС-9.Figure 10 shows the calibration characteristic and the inverse smoothed calibration characteristic for hydrogen — calibration gas mixtures PGS-1, PGS-6, PGS-7, PGS-8, PGS-9.
На фиг.11 изображено "окно" операционной системы Silicon Laboratories IDE с пакетом программ Semsensor для настройки режима прогрева и измерения концентраций СН4 и С3Н8, трансляции и загрузки градуировочной характеристики в процессор C8051F410 интеллектуального газового полупрводникового сенсора.Figure 11 shows a "window" of the Silicon Laboratories IDE operating system with the Semsensor software package for setting the heating mode and measuring the concentrations of CH4 and C3H8, broadcasting and loading the calibration curve into the C8051F410 processor of an intelligent gas semiconductor sensor.
На фиг.12 изображено "окно" операционной системы MATLAB 7.01 с пакетом программ Matlabsem для калибровки полупроводниковых сенсоров.12 shows a “window” of the MATLAB 7.01 operating system with the Matlabsem software package for calibrating semiconductor sensors.
На фиг.13, 14 показана электрическая и монтажная схема печатной платы интеллектуального полупроводникового сенсора.On Fig, 14 shows the electrical and wiring diagram of the printed circuit board of the intelligent semiconductor sensor.
Устройство для осуществления способа калибровки полупроводниковых сенсоров газа в частности СГ21ХХ-А содержит газовый электронный модуль, состоящий из первичного газочувствительного преобразователя - сенсора (в частности, сенсор СГ21ХХ-А в типовом корпусе ТО-2 с металлической сеткой в крышке) с четырьмя выводами-электродами, вставляемыми в четыре отверстия разъема типа PLSS, впаянного в печатную плату электронного модуля. Режим нагрева газочувствительного слоя сенсора программируется в процессе калибровки и осуществляется процессором C8051F410 подачей от внутреннего цифроаналогового преобразователя электрического сигнала IDACO - напряжения U(t) заданной формы на положительный вход операционного усилителя (ОУ) AD8542AR, и выходное напряжение ОУ далее подается на металлокерамический нагреватель чувствительного элемента, нагревая его за счет подвода мощности от 50 до 500 градусов Цельсия с измерением установившейся температуры нагревателя T1(t1) по напряжению на нагревателе Uн(t) и выходному сигналу AIN0 с ОУ AD623AR (DA5) и тока нагревателя Iн(t) по выходному сигналу AIN1 с ОУ AD623AR (DA1:1) по формуламA device for implementing a method for calibrating semiconductor gas sensors in particular SG21XX-A contains a gas electronic module consisting of a primary gas-sensitive transducer - sensor (in particular, SG21XX-A sensor in a typical TO-2 package with a metal grid in the lid) with four output electrodes inserted into the four holes of the PLSS type connector soldered into the printed circuit board of the electronic module. The heating mode of the gas-sensitive layer of the sensor is programmed during calibration and is performed by the C8051F410 processor by supplying from the internal digital-to-analog converter an IDACO electric signal - voltage U (t) of a given shape to the positive input of the operational amplifier (ОУ) AD8542AR, and the output voltage of the ОУ is then supplied to the ceramic-metal heater of the sensitive element heating it by supplying power from 50 to 500 degrees Celsius with measuring the steady-state temperature of the heater T1 (t1) by voltage on the heater STUDIO Un (t) and the output signal from the op amp AIN0 AD623AR (DA5) and heater current Ir (t) on the output signal AIN1 DU AD623AR (DA1: 1) according to the formulas
где 20 - комнатная температура, α - ТКС - температурный коэффициент сопротивления, R20 - сопротивление нагревателя при комнатной температуре в чистом воздухе при Uн=0, Iн=0, t1 - момент временного сечения по 5 калибровочным реализациям σ(t);where 20 is room temperature, α - TCS is the temperature coefficient of resistance, R20 is the heater resistance at room temperature in clean air at Un = 0, In = 0, t1 is the time section in 5 calibration implementations σ (t);
с измерением σ(ti) по электрическому сигналу напряжения AIN2 по формуламwith measurement of σ (ti) according to the electrical signal voltage AIN2 according to the formulas
Rs, Us, Is - сопротивление, напряжение, ток газочувствительного слояRs, Us, Is - resistance, voltage, current of the gas-sensitive layer
Для обработки аналогового сигнала AIN2 от электрического вторичного преобразователя концентрации газового компонента применен микропроцессор C8051F410, обеспечивающий вторичное преобразование проводимости газочувствительного слоя в цифровой сигнал, передаваемый посредством интерфейса сопряжения на основе протокола SPI в центральный процессор AT91SAM7X128 газоанализатора (в который устанавливается интеллектуальный газовый сенсор) и нормированный выходной аналоговый электрический сигнал U(t) от 0 до 3 В, пропорциональный величине проводимости газочувствительного слоя, который анализируют программно-аппаратным комплексом на базе персонального компьютера с применением пакета программ SEMV1N и MATLABV_2, реализуемых в интегрированных операционных системах Silicon Laboratories IDE и MATLAB 7.01, и при подаче поверочных газовых смесей от баллонов при открытом вентиле через регулируемый игольчатый натекатель и далее по силиконовой трубке длиной 50 см и внутренним диаметром 4 мм через насадочный колпачок в отверстие с металлической сеткой крышки корпуса полупроводникового сенсора СГ21ХХ осуществляют его калибровку, в результате которой в память процессора интеллектуального газового сенсора записывают градуировочную характеристику по формуле (1) - зависимость проводимости ГС от концентрации газового компонента в воздушной среде.The microprocessor C8051F410 was used to process the analogue signal AIN2 from the electric secondary converter of the concentration of the gas component, which provides the secondary conversion of the conductivity of the gas-sensitive layer to a digital signal transmitted via the interface interface on the basis of the SPI protocol to the gas analyzer central processor AT91SAM7X128 (into which the smart gas sensor is installed) and a normalized output analog electric signal U (t) from 0 to 3 V, proportional to the conductivity g the sensitive layer, which is analyzed by a hardware-software complex based on a personal computer using the SEMV1N and MATLABV_2 software packages implemented in the integrated operating systems Silicon Laboratories IDE and MATLAB 7.01, and when supplying calibration gas mixtures from cylinders with an open valve through an adjustable needle leak and so on through a silicone tube with a length of 50 cm and an inner diameter of 4 mm through a nozzle cap into the hole with a metal mesh cover of the housing of the semiconductor sensor SG21XX carry it calibration, as a result of which the calibration characteristic is written in the memory of the processor of the smart gas sensor according to the formula (1) - the dependence of the conductivity of the gas on the concentration of the gas component in the air.
Таким образом, анализ уровня техники позволяет сделать вывод, что предлагаемый способ калибровки обладает новизной, изобретательным уровнем и имеет ряд преимуществ по сравнению с прототипом.Thus, the analysis of the prior art allows us to conclude that the proposed calibration method has a novelty, inventive level and has several advantages compared to the prototype.
Claims (5)
где k=1, 2, 3,…, N; i=1-СН4, i=2-С3Н8, i=3-H2, i=4CO, i=5-NH3; ti - момент времени, отсчитываемый от начала нагрева сенсора, в который происходит N измерений величины проводимости в 6, 12, 18,…6×N цикле нагрева и охлаждения; T1i - температура нагрева чувствительного элемента ГС в среде i-го газа, T2i - температура охлаждения ГС в среде i-го газа, Δ12i - время охлаждения ГС от Т1 до Т2; Cik - концентрация i-го газового компонента в поверочной газовой смеси ПГС-k, подаваемой на сенсор.1. The method of calibration of semiconductor gas sensors, which consists in the fact that to determine the concentration of the gas component, in particular hydrogen, and calibrate the sensor in the presence of gaseous impurities, an electrical signal is measured at the output of a semiconductor sensor with a sensitive layer of metal oxide when it is heated to a given temperature, from the value of this signal, the conductivity of the sensitive layer of the semiconductor sensor is determined, stored, compared with the previously obtained calibration The hydrogen concentration is determined by this value, characterized in that the semiconductor sensor is calibrated using a hardware-software complex using the SEMSENSOR and MATLABSEM software package written in the assembler programming language implemented on a PC in the integrated operating environments Silicon Laboratories IDE and MATLAB 7.01, such so that a cyclically predetermined number of times (K times) is heated the sensitive element of the semiconductor sensor in clean air (PGS-1) to a temperature of T1 and cooled to a temperature of T2, then in t the next K cycles of heating and cooling feed the calibration gas mixture PGS-2 to the area of the sensor, then for the next K cycles feed the calibration gas mixture PGS-3 to the region of the sensor, then for the next K cycles feed the calibration gas mixture PGS-N into the region of the sensitive element, build a family of N = 4 time dependences of the conductivity of the gas-sensitive layer σ (t) for each gas mixture and for a fixed time ti in the cycle, determine the calibration characteristic, Rouge in intelligent processor semiconductor sensor 5 -
where k = 1, 2, 3, ..., N; i = 1-CH4, i = 2-C3H8, i = 3-H2, i = 4CO, i = 5-NH3; ti is the point in time measured from the start of heating of the sensor at which N measurements of the conductivity take place in the 6, 12, 18, ... 6 × N cycle of heating and cooling; T1i is the heating temperature of the HS sensitive element in the ith gas environment, T2i is the heating temperature of the HS in the ith gas environment, Δ12 i is the cooling time of the HS from T1 to T2; Ci k is the concentration of the ith gas component in the PGS-k calibration gas mixture supplied to the sensor.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2012134123/28A RU2523089C2 (en) | 2012-08-09 | 2012-08-09 | Calibration of semiconductor gas sensors and device to this end |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2012134123/28A RU2523089C2 (en) | 2012-08-09 | 2012-08-09 | Calibration of semiconductor gas sensors and device to this end |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2012134123A RU2012134123A (en) | 2014-02-27 |
RU2523089C2 true RU2523089C2 (en) | 2014-07-20 |
Family
ID=50151440
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2012134123/28A RU2523089C2 (en) | 2012-08-09 | 2012-08-09 | Calibration of semiconductor gas sensors and device to this end |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2523089C2 (en) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19638498C1 (en) * | 1996-09-19 | 1998-02-12 | Siemens Matsushita Components | Gas sensor operating and calibrating method for high temperature use, e.g. as Ga2O3 gas sensor |
RU2250455C1 (en) * | 2004-02-03 | 2005-04-20 | Научно-производственное закрытое акционерное общество "ГАЛУС" | Method of measuring concentration of methane and/or hydrogen |
SU1825125A1 (en) * | 1989-12-29 | 2005-12-27 | Научно-исследовательский институт химического машиностроения и научно- исследовательский физико-химический институт им. Л.Я.Кариева | METHOD OF CALIBRATION OF SEMICONDUCTOR SENSITIVE ELEMENT BASED ON METAL OXIDE, INTENDED FOR DETERMINING THE MICROPRIME CONCENTRATION IN THE ATMOSPHERE OF AN UNISMENDABLE COMPONENT |
RU2279066C1 (en) * | 2004-12-16 | 2006-06-27 | Общество с ограниченной ответственностью "Синтез" | Method of measuring concentration of gas impurity in air |
WO2006125848A1 (en) * | 2005-05-23 | 2006-11-30 | Consejo Superior De Investigaciones Científicas | Automatic system for the continuous analysis of the evolution of wine |
EP2000797A1 (en) * | 2007-06-08 | 2008-12-10 | Sociedad española de carburos metalicos, S.A. | A material, a microsensor comprising a material, use of the microsensor, and process of making the material |
RU2371709C1 (en) * | 2008-04-10 | 2009-10-27 | Общество с Ограниченной Ответственностью "Дельта-С" | Method of determining hydrogen concentration in presence of gaseous impurities |
RU2396554C1 (en) * | 2008-12-08 | 2010-08-10 | Общество с Ограниченной Ответственностью "Дельта-С" | Method of determining gas sensor working capacity |
-
2012
- 2012-08-09 RU RU2012134123/28A patent/RU2523089C2/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU1825125A1 (en) * | 1989-12-29 | 2005-12-27 | Научно-исследовательский институт химического машиностроения и научно- исследовательский физико-химический институт им. Л.Я.Кариева | METHOD OF CALIBRATION OF SEMICONDUCTOR SENSITIVE ELEMENT BASED ON METAL OXIDE, INTENDED FOR DETERMINING THE MICROPRIME CONCENTRATION IN THE ATMOSPHERE OF AN UNISMENDABLE COMPONENT |
DE19638498C1 (en) * | 1996-09-19 | 1998-02-12 | Siemens Matsushita Components | Gas sensor operating and calibrating method for high temperature use, e.g. as Ga2O3 gas sensor |
RU2250455C1 (en) * | 2004-02-03 | 2005-04-20 | Научно-производственное закрытое акционерное общество "ГАЛУС" | Method of measuring concentration of methane and/or hydrogen |
RU2279066C1 (en) * | 2004-12-16 | 2006-06-27 | Общество с ограниченной ответственностью "Синтез" | Method of measuring concentration of gas impurity in air |
WO2006125848A1 (en) * | 2005-05-23 | 2006-11-30 | Consejo Superior De Investigaciones Científicas | Automatic system for the continuous analysis of the evolution of wine |
EP2000797A1 (en) * | 2007-06-08 | 2008-12-10 | Sociedad española de carburos metalicos, S.A. | A material, a microsensor comprising a material, use of the microsensor, and process of making the material |
RU2371709C1 (en) * | 2008-04-10 | 2009-10-27 | Общество с Ограниченной Ответственностью "Дельта-С" | Method of determining hydrogen concentration in presence of gaseous impurities |
RU2396554C1 (en) * | 2008-12-08 | 2010-08-10 | Общество с Ограниченной Ответственностью "Дельта-С" | Method of determining gas sensor working capacity |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2012134123A (en) | 2014-02-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20110197649A1 (en) | Self-calibrating gas sensor | |
US20110079074A1 (en) | Hydrogen chlorine level detector | |
US20140212979A1 (en) | Diffusion based metal oxide gas sensor | |
Fakra et al. | A simple and low-cost integrative sensor system for methane and hydrogen measurement | |
Schüler et al. | A novel approach for detecting HMDSO poisoning of metal oxide gas sensors and improving their stability by temperature cycled operation | |
Ivanov et al. | Methodology for estimating potential explosion hazard of hydrocarbon with hydrogen mixtures without identifying gas composition | |
US20170122921A1 (en) | Interference Free Gas Measurement | |
Contaret et al. | Physical-based characterization of noise responses in metal-oxide gas sensors | |
EP2833129A1 (en) | Method and apparatus for analyzing a gas by a conductance-type particulate metal-oxide gas sensor | |
US8459097B2 (en) | Method and control unit for detecting a gas concentration of gas from a gas mixture | |
Sears et al. | Selective thermally cycled gas sensing using fast Fourier-transform techniques | |
RU2523089C2 (en) | Calibration of semiconductor gas sensors and device to this end | |
Bastuck et al. | A new approach to self-monitoring of amperometric oxygen sensors | |
Madrolle et al. | Dual-temperature mode for quantitative analysis of gas mixtures with MOX sensor | |
US20160003757A1 (en) | Gas measurement device and measurement method thereof | |
Bastuck et al. | Gas identification based on bias induced hysteresis of a gas-sensitive SiC field effect transistor | |
KR20180105814A (en) | Temperature conpensation method for calibrating of gas sensor module using change of heater current | |
Zuliani et al. | Flow compensated gas sensing array for improved performances in breath-analysis applications | |
CN115667900A (en) | Gas measuring device and method for measuring cyanogen in the presence of hydrogen cyanide | |
CN217359696U (en) | Heat transfer power detection device applied to measurement of mixed gas heat conductivity coefficient | |
de Lima et al. | Gas sensors data analysis system: A user-friendly interface for fast and reliable response-recovery analysis | |
Fricke et al. | Study of pulsed operating mode of a microstructured pellistor to optimize sensitivity and poisoning resistance | |
CN113917076B (en) | Organic solvent gas concentration detection method | |
US11674940B2 (en) | System and method to avoid the influence of ozone for a gas sensor | |
Contaret et al. | Noise analysis of metal-oxide gas microsensors response to a mixture of NO 2 and CO |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20190810 |