RU2507305C2 - Method of transportation with filtration from macroparticles of vacuum arc cathode plasma, and device for its implementation - Google Patents
Method of transportation with filtration from macroparticles of vacuum arc cathode plasma, and device for its implementation Download PDFInfo
- Publication number
- RU2507305C2 RU2507305C2 RU2011136514/02A RU2011136514A RU2507305C2 RU 2507305 C2 RU2507305 C2 RU 2507305C2 RU 2011136514/02 A RU2011136514/02 A RU 2011136514/02A RU 2011136514 A RU2011136514 A RU 2011136514A RU 2507305 C2 RU2507305 C2 RU 2507305C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- plasma
- magnetic field
- anode
- cathode
- duct
- Prior art date
Links
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к технике формирования потоков эрозийной вакуумно-дуговой катодной плазмы для получения высококачественных покрытий различного назначения: износостойких, антифрикционных, декоративных и других, а также для поверхностного модифицирования материалов путем облучения потоками ионов и/или электронов.The invention relates to techniques for the formation of erosive vacuum-arc cathode plasma flows to obtain high-quality coatings for various purposes: wear-resistant, antifriction, decorative and others, as well as for surface modification of materials by irradiation with ion and / or electron flows.
Известно, что транспортировку с фильтрованием от макрочастиц вакуумно-дуговой катодной плазмы осуществляют в скрещенных электрическом и магнитном полях, когда электроны замагничены, а ионы не замагничены. В этих условиях фокусировка ионов в плазме осуществляется по законам оптики, а системы, в которых обеспечивается такая фокусировка, называют плазмооптическими системами.It is known that transportation with filtering from particles of a vacuum-arc cathode plasma is carried out in crossed electric and magnetic fields when the electrons are magnetized and the ions are not magnetized. Under these conditions, the focusing of ions in a plasma is carried out according to the laws of optics, and the systems in which such focusing is provided are called plasmooptical systems.
Вакуумно-дуговая катодная плазма генерируется катодными пятнами вакуумной дуги при электродуговом испарении в виде высокоскоростных плазменных струй и потоков макрочастиц, образованных из жидкой фазы катодных пятен вакуумной дуги. Потоками плазмы можно управлять с помощью магнитного и электрического полей. Макрочастицы, которые выходят из катодных пятен дуги, движутся независимо от наличия магнитного или электрического полей, практически, по прямолинейным траекториям, т.к. они имеют большую массу по сравнению с ионами плазмы и малый заряд на единицу их массы. В связи с этим макрочастицы можно только отражать с помощью соответствующих средств в виде экранов или улавливать с помощью специальных ловушек. Наличие средств, которые отражают или улавливают макрочастицы, приводит к значительному уменьшению плазменного потока на выходе транспортирующей системы, поскольку значительная часть плазмы высаживается на этих средствах.Vacuum-arc cathode plasma is generated by cathode spots of a vacuum arc during electric arc evaporation in the form of high-speed plasma jets and flows of particulates formed from the liquid phase of the cathode spots of a vacuum arc. Plasma flows can be controlled using magnetic and electric fields. The particles that leave the cathode spots of the arc move regardless of the presence of magnetic or electric fields, practically along straight paths, because they have a large mass compared to plasma ions and a small charge per unit mass. In this regard, the particles can only be reflected using the appropriate means in the form of screens or captured using special traps. The presence of agents that reflect or trap particulates leads to a significant decrease in the plasma flow at the outlet of the conveying system, since a significant portion of the plasma is deposited on these agents.
Известен способ [1] транспортировки с фильтрованием от макрочастиц вакуумно-дуговой катодной плазмы от электродугового испарителя к выходу источника плазмы под действием криволинейного постоянного транспортирующего магнитного поля, создаваемого с использованием электромагнитных катушек.A known method [1] is transported by filtering from particles of a vacuum-arc cathode plasma from an electric arc evaporator to the exit of a plasma source under the action of a curvilinear constant transporting magnetic field created using electromagnetic coils.
Известна плазмооптическая система [1] для транспортировки с фильтрованием от макрочастиц вакуумно-дуговой катодной плазмы от электродугового испарителя к выходу источника плазмы, включающая плазмовод. Для создания транспортирующего магнитного поля используются электромагнитные катушки, которые охватывают катод, анод и плазмовод. В этой системе плазмовод изогнут в виде четверти тора и электроизолирован от анода.Known plasma-optical system [1] for transportation with filtering from particles of a vacuum-arc cathode plasma from an electric arc evaporator to the output of a plasma source, including a plasma duct. To create a transporting magnetic field, electromagnetic coils are used, which cover the cathode, anode and plasma duct. In this system, the plasma duct is bent in the form of a quarter of a torus and is electrically insulated from the anode.
Для уменьшения потерь плазмы при ее транспортировке в таких изогнутых плазмооптических системах нужны сильные магнитные поля или большие поперечные размеры плазмовода и анода. Это является недостатком, как известного способа, так и устройства для его осуществления. Еще одним недостатком является значительная неоднородность интенсивности плазменного потока по его сечению на выходе из плазмовода. Поток плазмы, усредненный по времени, на выходе источника плазмы с такой плазмооптической системой распределяется на осаждаемой поверхности неравномерно из-за больших потерь плазмы, когда она эмитируется из периферийной области рабочей (торцевой) поверхности расходуемого катода. Поэтому получение равных по толщине покрытий на площади с диаметром пятна большим, чем диаметр катода без вращения подложки вокруг оси, которая должна быть смещена относительно оси плазменного потока, является достаточно проблематичным.To reduce plasma losses during its transportation in such curved plasma-optical systems, strong magnetic fields or large transverse dimensions of the plasma duct and anode are needed. This is a disadvantage of both the known method and the device for its implementation. Another disadvantage is the significant heterogeneity of the intensity of the plasma stream over its cross section at the exit of the plasma duct. The plasma flow, averaged over time, at the output of a plasma source with such a plasma-optical system is distributed unevenly on the deposited surface due to large plasma losses when it is emitted from the peripheral region of the working (end) surface of the sacrificial cathode. Therefore, obtaining coatings of equal thickness over an area with a spot diameter larger than the cathode diameter without rotation of the substrate around an axis that should be offset relative to the axis of the plasma flow is quite problematic.
В качестве прототипа патентуемого способа рассматривается способ [2] транспортировки с фильтрованием от макрочастиц вакуумно-дуговой катодной плазмы от электродугового испарителя к выходу источника плазмы под действием транспортирующего магнитного поля, создаваемого с использованием электромагнитных катушек.As a prototype of the patented method, there is considered a method [2] for transporting, by filtering from particles of a vacuum-arc cathode plasma from an electric arc evaporator, to the output of a plasma source under the influence of a transporting magnetic field created using electromagnetic coils.
В качестве прототипа патентуемого устройства рассматривается известная прямолинейная плазмооптическая система [2] с плазмоводом для транспортировки с фильтрованием от макрочастиц вакуумно-дуговой катодной плазмы от электродугового испарителя к выходу источника плазмы. Эта плазмооптическая система содержит анод и плазмовод с отражателями макрочастиц, а также электромагнитные катушки для создания постоянного транспортирующего магнитного поля. Эти катушки охватывают катод, анод и плазмовод. Внутри анода на его оси установлен отражатель макрочастиц, выполненный в виде электропроводящего отрезка трубы, закрытого с торца, обращенного к катоду. Внутри этого отрезка трубы коаксиально ему расположена отклоняющая электромагнитная катушка для создания магнитного поля, направленного встречно магнитному полю, создаваемому электромагнитными катушками охватывающими катод, анод и плазмовод. Для питания электродугового испарителя служит специальный источник электропитания.As a prototype of the patented device, the well-known rectilinear plasmooptical system [2] with a plasma duct for transportation with filtering from particles of a vacuum-arc cathode plasma from an electric arc evaporator to the output of a plasma source is considered. This plasma-optical system contains an anode and a plasma duct with reflectors of particulate matter, as well as electromagnetic coils to create a constant transporting magnetic field. These coils span the cathode, anode, and plasma duct. A macro-particle reflector is installed on its axis inside the anode, made in the form of an electrically conductive pipe segment, closed from the end facing the cathode. A deflecting electromagnetic coil is coaxially located inside this section of pipe to create a magnetic field directed counter to the magnetic field created by electromagnetic coils covering the cathode, anode and plasma duct. A special power source is used to power the electric arc evaporator.
При использовании этого способа и устройства плазменные потоки, которые выходят из катодных пятен дуги в вакуумном электродуговом разряде, движутся вдоль транспортирующего магнитного поля и огибают отрезок трубы внутри анода. В результате потери плазмы из-за осаждения на этом участке несколько уменьшаются.When using this method and device, plasma flows that leave the cathode spots of the arc in a vacuum electric arc discharge move along the transporting magnetic field and bend around a pipe segment inside the anode. As a result, plasma losses due to deposition at this site are somewhat reduced.
Однако, несмотря на некоторое уменьшение таких потерь этот способ, принятый за прототип, и плазмооптическая система, в которой этот способ осуществляется, имеют недостатки, приводящие все еще к значительным потерям плазменных потоков при их транспортировке. Одним из таких недостатков является образование в промежутке между внутренней поверхностью анода и наружной боковой поверхностью вышеупомянутого отрезка трубы магнитного зеркала 'за счет роста напряженности магнитного поля в продольном направлении. Из-за этого электроны плазмы, которые имеют энергию движения поперек магнитного поля большую, чем вдоль него, оказываются запертыми в магнитной ловушке, ограниченной участками с максимумами магнитного поля. Причем один из этих максимумов находится вблизи торцевой испаряемой поверхности катода, а другой - в промежутке между внутренней поверхностью анода и наружной боковой поверхностью вышеупомянутого отрезка трубы. Эти электроны, двигаясь вдоль магнитного поля и многократно отражаясь от магнитных пробок, образуемых в областях с максимумами магнитного поля, быстро уходят из плазменного потока на внутреннюю поверхность анода. Такой уход электронов происходит, как за счет их диффузии поперек магнитного поля в результате столкновений, так и за счет дрейфа электронов в сторону внутренней поверхности анода под действием электрического поля поперечной поляризации плазменной струи в магнитном поле. Такая поляризация вызывается дрейфовыми движениями замагниченных электронов относительно незамагниченных ионов поперек магнитного поля и внешнего электрического поля. Наличие поперечного градиента магнитного поля, направленного в сторону внешней поверхности вышеупомянутого отрезка трубы, также приводит к дрейфу электронов поперек магнитного поля и его поперечному градиенту. В таких условиях оба этих фактора будут суммироваться, что приведет к увеличению напряженности электрического поля поперечной поляризации плазменной струи, в котором электроны будут дрейфовать в сторону внутренней стенки анода. В соответствии с условием квазинейтральности плазмы, плазменную струю покинет такое же количество ионов. В результате уменьшается ионный ток на выходе из анода.However, despite a slight decrease in such losses, this method, adopted as a prototype, and the plasmooptical system in which this method is implemented have drawbacks, which still lead to significant losses of plasma flows during their transportation. One of these drawbacks is the formation in the gap between the inner surface of the anode and the outer side surface of the aforementioned section of the pipe of the magnetic mirror due to the increase in the magnetic field in the longitudinal direction. Because of this, plasma electrons, which have an energy of motion across the magnetic field greater than along it, are trapped in a magnetic trap bounded by areas with maxima of the magnetic field. Moreover, one of these maxima is located near the end evaporated surface of the cathode, and the other is in the gap between the inner surface of the anode and the outer side surface of the aforementioned pipe segment. These electrons, moving along the magnetic field and repeatedly reflected from magnetic plugs formed in regions with maxima of the magnetic field, quickly leave the plasma stream on the inner surface of the anode. Such an escape of electrons occurs both due to their diffusion across the magnetic field as a result of collisions, and due to the drift of electrons towards the inner surface of the anode under the influence of the electric field of the transverse polarization of the plasma jet in a magnetic field. Such polarization is caused by drift motions of magnetized electrons relative to unmagnetized ions across the magnetic field and external electric field. The presence of a transverse gradient of the magnetic field directed toward the outer surface of the aforementioned pipe segment also leads to electron drift across the magnetic field and its transverse gradient. Under such conditions, both of these factors will add up, which will lead to an increase in the electric field strength of the transverse polarization of the plasma jet, in which the electrons will drift towards the inner wall of the anode. In accordance with the condition of quasineutrality of the plasma, the same number of ions will leave the plasma jet. As a result, the ion current at the output of the anode decreases.
Второй недостаток, приводящий к уменьшению среднего выходного ионного тока из источника плазмы, обусловлен следующими причинами. При фиксированном токе дуги разница потенциалов между плазменной струей и анодом или между плазменной струей и плазмоводом постоянно изменяется через непрерывные изменения положений катодных пятен дуги, которые перемещаются по рабочей (торцевой) поверхности катода. Если катодные пятна перемещаются в периферийной области рабочей (торцевой) поверхности катода, то плазменные струи, которые выходят из этих пятен, проходят вблизи внутренних поверхностей анода и плазмовода (или отражающих макрочастицы экранов, которые прикреплены к аноду и к плазмоводу). Чем ближе плазменная струя приближается к внутренним поверхностям анода и плазмовода, тем большая часть плазменного потока попадает на эти поверхности и, как следствие, уменьшается ионный ток из источника плазмы. Этот недостаток свойственен всем существующим электродуговым источникам плазмы, в которых транспортировка с фильтрованием от макрочастиц катодной плазмы осуществляется подобным способом в подобной системе, как в прототипе, так и в других аналогах.The second drawback, leading to a decrease in the average output ion current from the plasma source, is due to the following reasons. With a fixed arc current, the potential difference between the plasma jet and the anode or between the plasma jet and the plasma duct constantly changes through continuous changes in the positions of the cathode spots of the arc, which move along the working (end) surface of the cathode. If the cathode spots move in the peripheral region of the working (end) surface of the cathode, then the plasma jets that exit from these spots pass near the inner surfaces of the anode and plasma duct (or reflective particulate screens that are attached to the anode and plasma duct). The closer the plasma jet approaches the inner surfaces of the anode and the plasma duct, the greater part of the plasma stream enters these surfaces and, as a result, the ion current from the plasma source decreases. This disadvantage is inherent in all existing electric arc plasma sources, in which transportation with filtering from cathode plasma particles is carried out in a similar way in a similar system, both in the prototype and in other analogues.
Задачей, на решение которой направлено изобрегение, являются усовершенствования, как способа транспортировки с фильтрованием от макрочастиц вакуумно-дуговой катодной плазмы, так и устройства для его осуществления. Эти усовершенствования должны уменьшить потери плазмы при ее транспортировке. Для этого необходимо обеспечить такие условия транспортировки плазменных потоков, чтобы при разных положениях катодных пятен дуги на торцевой поверхности катода плазменные потоки эффективно огибали конструкционные элементы на поверхностях источника плазмы, которые отражают и улавливают макрочастицы.The problem to which the invention is directed is the improvement of both the method of transportation with filtration of vacuum-arc cathode plasma from particles and the device for its implementation. These improvements should reduce plasma loss during transport. To do this, it is necessary to ensure such conditions for transporting plasma flows that, at different positions of the cathode spots of the arc on the end surface of the cathode, the plasma flows effectively envelope the structural elements on the surfaces of the plasma source that reflect and trap the particles.
Поставленная задача решается в предложенном способе транспортировки с фильтрованием от макрочастиц вакуумно-дуговой катодной плазмы от электродугового испарителя к выходу источника плазмы, в котором, также как и в способе, принятым за прототип, транспортировку плазменных потоков осуществляют под действием транспортирующего магнитного поля, создаваемого с использованием электромагнитных катушек.The problem is solved in the proposed method of transportation with filtering from the particles of the vacuum-arc cathode plasma from the electric arc evaporator to the output of the plasma source, in which, like in the method adopted for the prototype, the plasma flows are transported under the action of a transporting magnetic field created using electromagnetic coils.
В отличие от прототипа, транспортирующее магнитное поле создают путем суперпозиции постоянного магнитного поля и, изменяемых по напряженности, дополнительных магнитных полей, отклоняющих потоки плазмы от поверхностей конструктивных элементов источника плазмы. При этом дополнительные магнитные поля создают с помощью дополнительных электромагнитных катушек. Напряженность соответствующего дополнительного магнитного поля увеличивают при приближении плазменного потока к поверхности соответствующего конструктивного элемента источника плазмы и уменьшают при удалении плазменного потока от поверхности этого элемента.In contrast to the prototype, a transporting magnetic field is created by superposition of a constant magnetic field and, varying in intensity, additional magnetic fields deflecting the plasma flows from the surfaces of the structural elements of the plasma source. In this case, additional magnetic fields are created using additional electromagnetic coils. The intensity of the corresponding additional magnetic field is increased as the plasma flow approaches the surface of the corresponding structural element of the plasma source and decreases when the plasma stream is removed from the surface of this element.
При транспортировке плазменных потоков в прямолинейной плазмооптической системе постоянное транспортирующее магнитное поле создают с помощью двух электромагнитных катушек, одна из которых охватывает катод, а другая - плазмовод вблизи выходного отверстия.When transporting plasma flows in a rectilinear plasmooptical system, a constant transporting magnetic field is created using two electromagnetic coils, one of which covers the cathode, and the other a plasma duct near the outlet.
При транспортировке плазменных потоков в криволинейной плазмооптической системе постоянное транспортирующее магнитное поле создают с помощью катушек, которые, соответственно, охватывают катод, анод и криволинейную часть плазмооптической системы.When transporting plasma flows in a curved plasma-optical system, a constant transporting magnetic field is created using coils, which, respectively, cover the cathode, anode and the curved part of the plasma-optical system.
Как в прямолинейной, так и в криволинейной плазмооптических системах, при транспортировке плазменных потоков внутри анода, дополнительное магнитное поле создают с помощью дополнительной электромагнитной катушки, охватывающей его. Магнитное поле этой катушки должно быть сонаправлено с постоянным транспортирующим магнитным полем на оси плазмооптической системы. При этом напряженность этого дополнительного магнитного поля изменяют так, чтобы для заданной разности потенциалов между катодом и анодом ее величина была прямо пропорциональна току дуги, который течет через анод, или для заданного тока дуги, который течет через анод, она была обратно пропорциональна анодному падению потенциала.Both in rectilinear and curvilinear plasmooptical systems, when transporting plasma flows inside the anode, an additional magnetic field is created using an additional electromagnetic coil covering it. The magnetic field of this coil should be aligned with a constant transporting magnetic field on the axis of the plasma-optical system. The intensity of this additional magnetic field is changed so that for a given potential difference between the cathode and the anode, its value is directly proportional to the arc current that flows through the anode, or for a given arc current that flows through the anode, it is inversely proportional to the anode potential drop .
В прямолинейной плазмооптической системе, которая имеет внутри анода расположенный на его оси электрически связанный с ним отражатель макрочастиц в виде элеетропроводящего отрезка трубы, закрытого с торца, обращенного к катоду, транспортировку плазменного потока в промежутке между внешней поверхностью этого отрезка трубы и внутренней поверхностью анода осуществляют при воздействии на плазменный поток дополнительным магнитным полем, которое создают с помощью отклоняющей электромагнитной катушки, коаксиально расположенной внутри отрезка трубы, при условии, что оно направлено противоположно постоянному транспортирующему магнитному полю на оси плазмооптической системы. При этом напряженность этого дополнительного магнитного поля увеличивают или уменьшают прямо пропорционально увеличению или уменьшению тока дуги, который течет через этот отрезок трубы.In a rectilinear plasmooptical system, which has an electroparticle reflector electrically connected to it inside the anode in the form of an electrically conductive pipe segment closed from the end facing the cathode, the plasma stream is transported between the outer surface of this pipe segment and the inner surface of the anode when action on the plasma stream with an additional magnetic field, which is created using a deflecting electromagnetic coil, coaxially located inside cutting the tube, with the proviso that it is directed opposite the permanent magnetic field for conveying plasma-axis system. In this case, the intensity of this additional magnetic field is increased or decreased in direct proportion to the increase or decrease in the arc current that flows through this segment of the pipe.
Дальнейшую транспортировку плазменных потоков, которые выходят из анодного участка, осуществляют в плазмоводе, внутри которого на плазменный поток действуют дополнительным магнитным полем, сонаправленым с постоянным транспортирующим магнитным полем. Это дополнительное магнитное поле генерируют с помощью дополнительной электромагнитной катушки, которая охватывает плазмовод. Причем его напряженность увеличивают или уменьшают прямо пропорционально увеличению или уменьшению тока, текущего через этот плазмовод при подаче на него положительного относительно анода потенциала.Further transportation of plasma streams that leave the anode section is carried out in a plasma duct, inside which the plasma stream is acted upon by an additional magnetic field, codirectional with a constant transporting magnetic field. This additional magnetic field is generated using an additional electromagnetic coil, which covers the plasma duct. Moreover, its tension is increased or decreased in direct proportion to the increase or decrease in the current flowing through this plasma duct when a potential is positive relative to the anode.
В другом варианте транспортировку плазменного потока, который выходит из анода, осуществляют в плазмоводе, состоящем из входной и выходной частей, электроизолированных друг от друга и от анода. При этом на плазменный поток действуют дополнительным магнитным полем, сонаправленым с постоянным транспортирующим магнитным полем. В этом случае его генерируют с помощью дополнительной электромагнитной катушки, охватывающей входную часть плазмовода. Причем напряженность его увеличивают или уменьшают прямо пропорционально увеличению или уменьшению тока, текущего через выходную часть плазмовода при подаче на нее положительного относительно анода потенциала.In another embodiment, the transportation of the plasma stream that leaves the anode is carried out in a plasma duct consisting of inlet and outlet parts electrically isolated from each other and from the anode. In this case, the plasma flux is acted upon by an additional magnetic field codirectional with a constant transporting magnetic field. In this case, it is generated using an additional electromagnetic coil, covering the input part of the plasma duct. Moreover, its tension is increased or decreased in direct proportion to the increase or decrease in the current flowing through the output part of the plasma duct when a potential is positive relative to the anode.
Поставленная задача реализуется в предложенной прямолинейной плазмооптической системе с плазмоводом для транспортировки с фильтрованием от макрочастиц вакуумно-дуговой катодной плазмы от электродугового испарителя к выходу источника плазмы. Эта система также как и система, принятая за прототип, включает отражатели макрочастиц, электромагнитные катушки, охватывающие катод, анод и плазмовод, электропроводящий отрезок трубы, коаксиально размещенный внутри анода, электрически связанный с ним, закрытытый с торца, обращенного к катоду и, имеющий внутри коаксиально расположенную отклоняющую электромагнитную катушку.The task is realized in the proposed rectilinear plasma-optical system with a plasma duct for transportation with filtration from the particles of the vacuum-arc cathode plasma from the electric arc evaporator to the output of the plasma source. This system, like the system adopted for the prototype, includes particulate reflectors, electromagnetic coils covering the cathode, anode and plasma duct, an electrically conductive pipe segment coaxially placed inside the anode, electrically connected to it, closed from the end facing the cathode and having inside coaxially positioned deflecting electromagnetic coil.
В отличие от прототипа в предлагаемой системе источник питания электродугового испарителя подключен к аноду через обмотку электромагнитной катушки, которая его охватывает. Начальный виток обмотки отклоняющей электромагнитной катушки внутри отрезка трубы электрически соединен с ним, а вывод последнего витка этой катушки соединен с положительным полюсом источника питания дуги.In contrast to the prototype in the proposed system, the power source of the electric arc evaporator is connected to the anode through the winding of the electromagnetic coil that covers it. The initial winding coil of the deflecting electromagnetic coil inside the pipe segment is electrically connected to it, and the output of the last coil of this coil is connected to the positive pole of the arc power source.
В этой плазмооптической системе отклоняющая электромагнитная катушка внутри отрезка трубы может быть выполнена из водоохлаждаемой трубки.In this plasma-optical system, the deflecting electromagnetic coil inside the pipe section can be made of a water-cooled tube.
Плазмовод в такой плазмооптической системе может быть охвачен дополнительной электромагнитной катушкой, один конец которой электрически соединен с плазмоводом, а другой конец - подключен к положительному полюсу отдельного источника питания, отрицательный полюс которого соединен с анодом.A plasma duct in such a plasma-optical system can be surrounded by an additional electromagnetic coil, one end of which is electrically connected to the plasma duct, and the other end is connected to the positive pole of a separate power source, the negative pole of which is connected to the anode.
В другом варианте плазмооптической системы плазмовод может быть выполнен из двух, электрически изолированных друг от друга и от анода, частей (входной и выходной). При этом входная часть плазмовода охвачена дополнительной электромагнитной катушкой, один конец которой электрически соединен с выходной частью плазмовода, а другой конец - подключен к положительному полюсу. отдельного источника питания, отрицательный полюс которого соединен с анодом.In another embodiment of the plasmooptical system, the plasma duct can be made of two parts (input and output), electrically isolated from each other and from the anode. In this case, the input part of the plasma duct is covered by an additional electromagnetic coil, one end of which is electrically connected to the output part of the plasma duct, and the other end is connected to the positive pole. a separate power source, the negative pole of which is connected to the anode.
Рассмотрим как отклоняющее действие дополнительных магнитных полей па плазменные потоки при их приближении к поверхностям конструктивных элементов источника плазмы с отражателями макрочастиц, осуществляемое при изложенных выше условиях позволяет уменьшить потери плазменных потоков при их транспортировке.Let us consider how the deflecting effect of additional magnetic fields on plasma flows when they approach the surfaces of the structural elements of the plasma source with particulate reflectors, carried out under the conditions described above, reduces the loss of plasma flows during their transportation.
В прямолинейной плазмооптической системе для этого необходимо, чтобы постоянная составляющая транспортирующего магнитного поля имела выпуклую от оси конфигурацию, которая реализуется, как указано выше, за счет двух электромагнитных катушек, охватывающих, соответственно, катод и выходную часть плазмовода. Поперечный градиент этой составляющей магнитного поля направлен к оси плазмооптической системы. Под действием этого градиента внутри плазменной струи происходит разделение электрических зарядов, создающих электрическое поле поляризации, которое направлено поперек к магнитному полю и его градиенту. Это электрическое поле вызывает дрейф электронов поперек магнитного поля и электрического поля. поляризации, т.е. в сторону внутренней поверхности анода, что приводит к некоторому уменьшению осаждения плазмы на отражающий макрочастицы отрезок трубы с закрытым торцом, размещенный внутри анода. Чтобы усилить это действие вышеупомянутый поперечный градиент должен быть достаточным, чтобы скорость градиентного дрейфа электронов плазмы была, по крайней мере, не меньше, чем скорость противоположно направленного дрейфа электронов во внешнем электрическом поле между плазменной струей и отрезком трубы, находящемся внутри анода под его потенциалом. Это обеспечивается, благодаря действию дополнительного магнитного поля, создаваемого с помощью электромагнитной катушки, коаксиально размещенной внутри отрезка трубы, находящейся внутри анода. Напряженность этого поля увеличивается или уменьшается прямо пропорционально увеличению или уменьшению тока дуги, который течет через этот отрезок трубы, так как он электрически соединен с одним концом обмотки отклоняющей электромагнитной катушки, второй конец которой соединен с положительным полюсом источника питания вакуумной дуги. Вследвие этого плазменные потоки, которые выходят из катодных пятен вблизи оси катода, с большей эффективностью отклоняются от внешней поверхности вышеупомянутой отрезка трубы в сторону внутренней поверхности анода, что приводит к значительному уменьшению потерь ионов из плазменной струи на этом отражающем макрочастицы конструктивном элементе.In a rectilinear plasmooptical system, for this it is necessary that the constant component of the transporting magnetic field has a configuration convex from the axis, which is realized, as indicated above, by two electromagnetic coils, covering, respectively, the cathode and the output part of the plasma duct. The transverse gradient of this component of the magnetic field is directed toward the axis of the plasma-optical system. Under the influence of this gradient, a separation of electric charges occurs inside the plasma jet, creating an electric polarization field that is directed across to the magnetic field and its gradient. This electric field causes electron drift across the magnetic field and the electric field. polarization, i.e. toward the inner surface of the anode, which leads to a slight decrease in plasma deposition on a closed-end pipe segment inside the anode that reflects particulate matter. To enhance this action, the aforementioned transverse gradient should be sufficient so that the speed of the gradient drift of the plasma electrons is at least no less than the speed of the oppositely directed electron drift in an external electric field between the plasma jet and the pipe segment located inside the anode under its potential. This is ensured by the action of an additional magnetic field generated by an electromagnetic coil coaxially placed inside a pipe segment inside the anode. The intensity of this field increases or decreases in direct proportion to the increase or decrease in the arc current that flows through this pipe segment, since it is electrically connected to one end of the winding of the deflecting electromagnetic coil, the second end of which is connected to the positive pole of the vacuum arc power source. As a result, the plasma flows that leave the cathode spots near the cathode axis deviate with greater efficiency from the outer surface of the aforementioned pipe segment toward the inner surface of the anode, which leads to a significant reduction in the loss of ions from the plasma jet on this structurally reflective particulate.
Однако, когда катодные пятна при электродуговом испарении перемещается на периферии торцевой поверхности катода, плазменные потоки, эмитируемые этими катодными пятнами, приближается на близкое расстояние к поверхностям отражателей макрочастиц на аноде и плазмоводе. Для уменьшения диффузных потерь плазменных потоков на эти поверхности на плазменные потоки воздействуют соответствующими дополнительными магнитными полями, сонаправленными с постоянным транспортирующим магнитным полем. Эти поля создаются электромагнитными катушками, охватывающими, соответственно, анод и плазмовод и подсоединенными соответствующим образом, как указано выше, к источникам электропитания. Поэтому напряженности этих полей увеличиваются, когда необходимо отклонить плазменные потоки от соответствующих поверхностей и уменьшаются, когда плазменные потоки удаляются от них. Это и обеспечивает уменьшение потерь плазменных потоков при их транспортировке.However, when the cathode spots during electric arc evaporation move on the periphery of the end surface of the cathode, the plasma flows emitted by these cathode spots approaches a close distance to the surfaces of the particulate reflectors on the anode and plasma duct. To reduce the diffuse losses of the plasma flows on these surfaces, the plasma flows are affected by the corresponding additional magnetic fields aligned with a constant transporting magnetic field. These fields are created by electromagnetic coils, covering, respectively, the anode and plasma duct and connected accordingly, as indicated above, to power sources. Therefore, the intensities of these fields increase when it is necessary to deflect the plasma flows from the corresponding surfaces and decrease when the plasma flows move away from them. This provides a reduction in the loss of plasma flows during their transportation.
Сущность изобретения поясняется схемой устройства для реализации предложенного способа.The invention is illustrated by a diagram of a device for implementing the proposed method.
В качестве примера реализации патентуемого изобретения вначале рассмотрим предлагаемое устройство. Это прямолинейный вариант плазмооптической системы для транспортировки вакуумно-дуговой катодной плазмы с фильтрованием от макрочастиц. Эта система (см. схему) содержит катод 1 и анод 2, с расположенными внутри пего отражателями макрочастиц в виде кольцеобразных экранов 3. Плазмовод в этой системе выполнен из двух частей входной 4 и выходной 5, которые электроизолированы друг от друга и от анода 2. Внутри этих частей плазмовода расположены отражатели макрочастиц в виде наборов кольцеобразных экранов 6 и 7. Для формирования постоянной составляющей транспортирующего магнитного поля 8 служат электромагнитные катушки 9 и 10, которые охватывают, соответственно, катод 1 и выходную часть плазмовода 5. Внутри анода 2 соосно с ним расположен отражатель макрочастиц в виде отрезка трубы 11 с закрытым торцом, обращенным к катоду 1. Внутри этого отрезка трубы расположена электромагнитная катушка 12, с витками из трубки для охлаждения водой. Эта электромагнитная катушка предназначена для генерирования дополнительного отклоняющего, магнитного поля 13, направленного на оси системы противоположно направлению постоянной части транспортирующего магнитного поля 8. Узел 14 предназначен для поджига вакуумной дуги. Источник питания вакуумной дуги 15 подключен к аноду 2 через обмотку электромагнитной катушки 16, которая его охватывает. Отрезок трубы 11 электрически соединен с одним концом обмотки отклоняющей электромагнитной катушки 12, второй конец которой соединен с положительным полюсом источника питания вакуумной дуги 15. Плазмовод подключен к отдельному источнику питания 17, отрицательный полюс которого соединен с анодом 2, а положительный полюс через обмотку катушки 18, которая охватывает входную секцию 4 плазмовода, соединен с его выходной секцией 5.As an example of the implementation of the patented invention, we first consider the proposed device. This is a straightforward version of a plasma-optical system for transporting a vacuum-arc cathode plasma with filtering from particulate matter. This system (see diagram) contains a cathode 1 and anode 2, with particulate reflectors located inside it in the form of ring-shaped screens 3. The plasma duct in this system is made of two parts of input 4 and output 5, which are electrically isolated from each other and from anode 2. Inside these parts of the plasma duct there are particulate reflectors in the form of sets of annular screens 6 and 7. To form the constant component of the transporting magnetic field 8, electromagnetic coils 9 and 10 are used, which cover, respectively, the cathode 1 and the output hour s duct 5. Inside the anode 2 is located coaxially with the reflector in particulate form of a segment tube 11 with a closed end facing the cathode 1. Inside this pipe section is an electromagnetic coil 12, the turns of the tube for cooling water. This electromagnetic coil is designed to generate an additional deflecting magnetic field 13 directed on the axis of the system opposite to the direction of the constant part of the transporting magnetic field 8. The node 14 is designed to ignite the vacuum arc. The power source of the vacuum arc 15 is connected to the anode 2 through the winding of the electromagnetic coil 16, which covers it. A segment of pipe 11 is electrically connected to one end of the winding of the deflecting electromagnetic coil 12, the second end of which is connected to the positive pole of the vacuum arc power source 15. The plasma duct is connected to a separate power source 17, the negative pole of which is connected to the anode 2, and the positive pole through the coil winding 18 , which covers the inlet section 4 of the plasma duct, is connected to its output section 5.
Пример реализации способа рассмотрим, описывая работу устройства.An example of the implementation of the method we consider, describing the operation of the device.
Поджиг дуги осуществляется путем подачи на узел поджига дуги 14 (см. схему) высоковольтного импульса, который инициирует возбуждение катодного пятна дуги на боковой поверхности катода 1, которое выталкивается магнитным полем на торцевую (рабочую), поверхность катода. В зависимости от тока дуги на торцевой поверхности катода 1 могут образовываться несколько катодных пятен, которые, перемещаясь по ней, эмитируют струи катодной плазмы с высокой ионизацией вместе с макрочастицами материала катода. Макрочастицы, двигаясь по прямолинейным траекториям, задерживаются отражателями 3, 6, 7 и торцевой поверхностью отрезка трубы 11. Плазменные струи, ионизация которых близка к 100%, двигаясь вдоль транспортирующего магнитного поля 8 выпуклой конфигурации, которое огибает отрезок трубы 11, проходят через все отверстия отражателей 3, 6 и 7 на выход плазменного источника. В зависимости от положения катодного пятна дуги на торцевой поверхности катода с помощью электромагнитных катушек 16 и 18, которые охватывают анод 2 и входную секцию плазмовода 4, соответственно, создают изменяемые по напряженности электромагнитные поля. Эти поля изменяют конфигурацию и напряженность результирующего транспортирующего магнитного поля, постоянная составляющая которого создается с помощью электромагнитных катушек 9 и 10. На плазменный поток также действуют дополнительным отклоняющим магнитным полем 13 внутри анода 2. Это отклоняющее магнитное поле направлено противоположно постоянному транспортирующему магнитному полю на оси системы и создается с помощью отклоняющей электромагнитной катушки 12, расположенной коаксиально внутри трубной секции фильтрующего элемента 11.The ignition of the arc is carried out by applying to the ignition node of the arc 14 (see diagram) a high voltage pulse that initiates the excitation of the cathode spot of the arc on the side surface of the cathode 1, which is pushed by the magnetic field onto the end (working) surface of the cathode. Depending on the arc current, several cathode spots can form on the end surface of the cathode 1, which, moving along it, emit jets of cathode plasma with high ionization along with macroparticles of the cathode material. The particles moving along rectilinear trajectories are delayed by reflectors 3, 6, 7 and the end surface of the pipe 11 segment. Plasma jets, whose ionization is close to 100%, moving along the conveying magnetic field 8 of the convex configuration that bends around the pipe section 11 pass through all openings reflectors 3, 6 and 7 to the output of the plasma source. Depending on the position of the cathode spot of the arc on the end surface of the cathode, using electromagnetic coils 16 and 18, which cover the anode 2 and the input section of the plasma duct 4, respectively, create electromagnetic fields that vary in intensity. These fields change the configuration and intensity of the resulting transporting magnetic field, the constant component of which is created using electromagnetic coils 9 and 10. An additional deflecting magnetic field 13 inside the anode 2 also acts on the plasma stream. This deflecting magnetic field is directed opposite to the constant transporting magnetic field on the axis of the system and is created using a deflecting electromagnetic coil 12 located coaxially inside the pipe section of the filter element 11.
Если источник питания 15 работает в режиме фиксированного тока дуги, напряженности дополнительных магнитных полей внутри анода 2 будут пропорциональные токам дуги, которые текут через анод 2 и отрезок трубы отражателя макрочастиц 11. Напряженности этих полей будут также обратно пропорциональны анодному падению потенциала. Если источник 15 работает в режиме фиксированного напряжения, тогда при приближении плазменных потоков к внутренней поверхности анода 2 или к внешней поверхности отрезка трубы 11, увеличится анодный ток на эти электроды. Вследствие этого увеличится ток, который течет через соответствующую катушку 16 или 12 и увеличится напряженность соответствующего магнитного поля, которое отклонит плазменный поток от стенки соответствующего конструктивного элемента источника плазмы.If the power source 15 is operating in a fixed arc current mode, the intensities of the additional magnetic fields inside the anode 2 will be proportional to the arc currents that flow through the anode 2 and the pipe segment of the particulate reflector 11. The intensities of these fields will also be inversely proportional to the anode potential drop. If the source 15 operates in a fixed voltage mode, then when the plasma flows approach the inner surface of the anode 2 or the outer surface of the pipe segment 11, the anode current to these electrodes will increase. As a result, the current that flows through the corresponding coil 16 or 12 will increase and the intensity of the corresponding magnetic field will increase, which will deflect the plasma stream from the wall of the corresponding structural element of the plasma source.
Благодаря тому, что положительный полюс источника питания 17 соединен с выходной частью 5 плазмовода через дополнительную электромагнитную катушку 18, напряженность дополнительного магнитного поля внутри входной части 4 плазмовода при заданном постоянном потенциале относительно анода, подаваемом на электромагнитную катушку 18, будет пропорциональна величине тока, который течет через выходную часть 5 плазмовода.Due to the fact that the positive pole of the power source 17 is connected to the output part 5 of the plasma duct through an additional electromagnetic coil 18, the intensity of the additional magnetic field inside the input part 4 of the plasma duct at a given constant potential relative to the anode supplied to the electromagnetic coil 18 will be proportional to the magnitude of the current that flows through the output part 5 of the plasma duct.
При изложенных выше условиях при любых перемещениях катодных пятен на торцевой поверхности катода обеспечивается динамическое равновесие плазменных потоков в той области их транспортировки вдоль магнитного поля, в которой потери плазмы поперек магнитного поля будут минимальны. Причем устойчивость такого динамического равновесия плазменных потоков и стабилизация падения напряжения на дуге, растет пропорционально току дуги.Under the above conditions, for any displacements of the cathode spots on the end surface of the cathode, a dynamic equilibrium of plasma flows is ensured in the region of their transportation along the magnetic field in which the plasma losses across the magnetic field will be minimal. Moreover, the stability of such a dynamic equilibrium of plasma flows and stabilization of the voltage drop across the arc increases in proportion to the arc current.
Как показали эксперименты, предложенный способ и устройство для транспортировки вакуумнодуговой катодной плазмы в прямолинейной фильтрующей плазмооптической системе, обеспечивает увеличение среднего выходного ионного потока при токе дуги 100 А не менее чем в 1,5 раза по сравнению с прототипом. При этом минимальное и максимальное значения выходного ионного тока составили 3,5 А и 4 А, соответственно. При увеличении тока дуги до 110 А минимальное и максимальное значения выходного ионного тока возрастают до 4 А и 5 А, соответственно.As experiments have shown, the proposed method and device for transporting a vacuum-arc cathode plasma in a rectilinear filtering plasma-optic system, provides an increase in the average output ion flux at an arc current of 100 A not less than 1.5 times in comparison with the prototype. In this case, the minimum and maximum values of the output ion current were 3.5 A and 4 A, respectively. When the arc current is increased to 110 A, the minimum and maximum values of the output ion current increase to 4 A and 5 A, respectively.
Вариант осуществления предложенных способа и устройства в случа криволинейной плазмооптической системы отличается от варианта для случая прямолинейной плазмооптической системы тем, что постоянная составляющая транспортирующего магнитного поля создается электромагнитными катушками, охватывающими катод, анод и плазмовод. Внутри анода в криволинейной системе отсутствует отрезок трубы с размещенной внутри него отклоняющей электромагнитной катушкой. Работа криволинейной плазмооптической системы в режиме постоянного тока дуги отличается способом возбуждения дополнительной электромагнитной катушки, охватывающей анод. Это отличие, в частности, заключается в том, что возбуждение этой катушки осуществляют от отдельного управляемого источника питания, который представляет собой усилитель постоянного тока с отрицательной обратной связью по анодному падению напряжения Ua на дуге, которое соответствует соотношению: Ua=Uд-Uк, гдеAn embodiment of the proposed method and device in the case of a curvilinear plasmooptical system differs from the option for the case of a rectilinear plasmooptical system in that the constant component of the transporting magnetic field is created by electromagnetic coils covering the cathode, anode and plasma duct. Inside the anode in the curvilinear system there is no pipe segment with a deflecting electromagnetic coil located inside it. The operation of a curvilinear plasmooptical system in a constant arc mode differs in the way the excitation of an additional electromagnetic coil covering the anode. This difference, in particular, lies in the fact that the excitation of this coil is carried out from a separate controlled power source, which is a direct current amplifier with negative feedback on the anode voltage drop U a on the arc, which corresponds to the ratio: U a = U d - U to where
Uк и Uд - соответственно, катодное падение напряжения на дуге и полное падение напряжения на дуге.U to and U d - respectively, the cathodic voltage drop across the arc and the total voltage drop across the arc.
В данном частном случае Ua определяется с помощью компоратора, в котором задается постоянное, выбранное для данного материала катода, значение величины Uк. При отсутствии дугового разряда Uд=Ux.x, гдеIn this particular case, U a is determined using a comparator in which the constant value U k selected for a given cathode material is specified. In the absence of an arc discharge, U d = U xx , where
Ux.х - напряжение холостого хода источника питания дуги. При таком условии источник питания дополнительной электромагнитной катушки заперт и ток в этой катушке равен нулю. При поджиге дуги Ua уменьшается и источник питания этой катушки отпирается. В результате через катушку будет протекать ток обратно пропорциональный анодному падению потенциала Ua, генерируя соответствующее дополнительное магнитное поле.U x.x is the open circuit voltage of the arc power source. Under this condition, the power source of the additional electromagnetic coil is locked and the current in this coil is zero. When the arc is ignited, U a decreases and the power source of this coil is unlocked. As a result, a current inversely proportional to the anode drop in potential U a will flow through the coil, generating a corresponding additional magnetic field.
Когда плазменные струи приближаются к внутренней поверхности анода, Ua уменьшается и напряженность дополнительного магнитного поля внутри анода, соответственно, увеличивается. Когда же плазменные струи удаляются от внутренней поверхности анода в сторону его оси, Ua увеличивается и, соответственно этому, уменьшается напряженность этого поля внутри анода. В результате такого воздействия на плазменные потоки дополнительным магнитным полем стабильность дугового разряда не ухудшается, а потери плазмы при ее транспортировке внутри анода в среднем уменьшаются. При дальнейшей транспортировке плазменных потоков в плазмоводе подача положительного потенциала относительно анода на криволинейный плазмовод осуществляется через дополнительную электромагнитную катушку, охватывающую этот плазмовод.When the plasma jets approach the inner surface of the anode, U a decreases and the additional magnetic field inside the anode, respectively, increases. When the plasma jets move away from the inner surface of the anode towards its axis, U a increases and, accordingly, the intensity of this field inside the anode decreases. As a result of such an effect on plasma flows by an additional magnetic field, the stability of the arc discharge does not deteriorate, and the plasma losses during its transportation inside the anode decrease on average. During further transportation of plasma flows in the plasma duct, the supply of a positive potential relative to the anode to the curved plasma duct is carried out through an additional electromagnetic coil covering this plasma duct.
Источники информации:Information sources:
1. И.И. Аксенов, В.А. Белоус, В.Г. Падалка, В.М. Хороших. Устройство для очистки плазмы вакуумной дуги от макрочастиц // ПТЭ, №5, 1978, с.236-237.1. I.I. Aksenov, V.A. Belous, V.G. Padalka, V.M. Good ones. A device for cleaning the plasma of a vacuum arc from particles // PTE, No. 5, 1978, S. 236-237.
2. Патент Украины №87880. МПК С23С 14/00. Вакуумно-дуговой источник плазмы, 2009 (прототип).2. Patent of Ukraine No. 87880. IPC С23С 14/00. Vacuum-arc plasma source, 2009 (prototype).
Claims (13)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2011136514/02A RU2507305C2 (en) | 2011-09-01 | 2011-09-01 | Method of transportation with filtration from macroparticles of vacuum arc cathode plasma, and device for its implementation |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2011136514/02A RU2507305C2 (en) | 2011-09-01 | 2011-09-01 | Method of transportation with filtration from macroparticles of vacuum arc cathode plasma, and device for its implementation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2011136514A RU2011136514A (en) | 2013-03-10 |
| RU2507305C2 true RU2507305C2 (en) | 2014-02-20 |
Family
ID=49123166
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2011136514/02A RU2507305C2 (en) | 2011-09-01 | 2011-09-01 | Method of transportation with filtration from macroparticles of vacuum arc cathode plasma, and device for its implementation |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2507305C2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2657273C1 (en) * | 2017-05-22 | 2018-06-09 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" | Method of filtration of drop phase during deposition from vacuum-arc discharge plasma |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2053311C1 (en) * | 1992-10-29 | 1996-01-27 | Владимир Ильич Гороховский | Vacuum arc plasma source |
| UA46887C2 (en) * | 1999-08-10 | 2002-06-17 | Національний Науковий Центр "Харківський Фізико-Технічний Інститут" | VACUUM ARC SOURCE OF PLASMA |
| EP1316986B1 (en) * | 2001-11-30 | 2006-06-21 | Nissin Electric Co., Ltd. | Vacuum arc vapor deposition process and apparatus |
| EP2068602A1 (en) * | 2006-09-30 | 2009-06-10 | Ferrotec Corporation | Radially enlarged type plasma generating apparatus |
| UA87880C2 (en) * | 2007-06-13 | 2009-08-25 | Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт" | Vacuum-arc source of plasma |
| RU2382118C1 (en) * | 2009-01-28 | 2010-02-20 | Открытое акционерное общество "Национальный институт авиационных технологий" | Vacuum-arc source of plasma |
-
2011
- 2011-09-01 RU RU2011136514/02A patent/RU2507305C2/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2053311C1 (en) * | 1992-10-29 | 1996-01-27 | Владимир Ильич Гороховский | Vacuum arc plasma source |
| UA46887C2 (en) * | 1999-08-10 | 2002-06-17 | Національний Науковий Центр "Харківський Фізико-Технічний Інститут" | VACUUM ARC SOURCE OF PLASMA |
| EP1316986B1 (en) * | 2001-11-30 | 2006-06-21 | Nissin Electric Co., Ltd. | Vacuum arc vapor deposition process and apparatus |
| EP2068602A1 (en) * | 2006-09-30 | 2009-06-10 | Ferrotec Corporation | Radially enlarged type plasma generating apparatus |
| UA87880C2 (en) * | 2007-06-13 | 2009-08-25 | Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт" | Vacuum-arc source of plasma |
| RU2382118C1 (en) * | 2009-01-28 | 2010-02-20 | Открытое акционерное общество "Национальный институт авиационных технологий" | Vacuum-arc source of plasma |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2657273C1 (en) * | 2017-05-22 | 2018-06-09 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" | Method of filtration of drop phase during deposition from vacuum-arc discharge plasma |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2011136514A (en) | 2013-03-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2012064311A1 (en) | Method and device for transporting vacuum arc plasma | |
| RU2369664C2 (en) | Filtered vacuum arc plasma source | |
| AU695441B2 (en) | Rectangular vacuum-arc plasma source | |
| US5468363A (en) | Magnetic-cusp, cathodic-arc source | |
| US20070034501A1 (en) | Cathode-arc source of metal/carbon plasma with filtration | |
| RU2507305C2 (en) | Method of transportation with filtration from macroparticles of vacuum arc cathode plasma, and device for its implementation | |
| JPH07501654A (en) | Charged particle acceleration method and particle accelerator | |
| US20130206585A1 (en) | Compact, filtered ion source | |
| RU2097868C1 (en) | Device for cleaning arc evaporator plasma from microparticles (options) | |
| RU2364003C1 (en) | Device for cleaning off microparticles from plasma of arc evaporator | |
| UA127223C2 (en) | THE METHOD OF CREATING A VACUUM ARC CATHODE PLASMA | |
| RU2657273C1 (en) | Method of filtration of drop phase during deposition from vacuum-arc discharge plasma | |
| UA87880C2 (en) | Vacuum-arc source of plasma | |
| RU2108636C1 (en) | Gear cleaning plasma of arc evaporator from microparticles | |
| RU2539881C1 (en) | Anode pack of vacuum arc source of cathode plasma | |
| RU2039849C1 (en) | Vacuum arc unit | |
| RU2098512C1 (en) | Vacuum-arc plasma source | |
| JPS637680B2 (en) | ||
| MXPA96005104A (en) | Rectangular source of plasma de arco al va | |
| UA63164A (en) | A plasma apparatus | |
| UA77299C2 (en) | Vacuum electroarc device with curved plasma channels |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20180902 |