Claims (16)
1. Способ получения стеклянной подложки большого размера, из которой формируют подложку фотошаблона, при этом подложку фотошаблона используют в способе экспонирования материнского стекла, включающем в себя закрепление подложки фотошаблона, имеющей противоположные боковые поверхности, в устройстве экспонирования с помощью средства поддержки противоположных боковых кромок, размещение ниже и вблизи подложки фотошаблона материнского стекла, служащего в качестве подложки стороны матрицы или стороны цветного фильтра в жидкокристаллической панели на тонкопленочных транзисторах, и излучение света из устройства экспонирования к материнскому стеклу через подложку фотошаблона, содержащий этап, на котором обрабатывают заготовку стеклянной подложки большого размера, имеющую переднюю и заднюю поверхности и размер по диагонали по меньшей мере 500 мм и толщину по меньшей мере 4 мм, в стеклянную подложку большого размера путем удаления с нее (1) выравнивающего удаляемого количества материала на основе высотных данных плоскостности и параллельности передней и задней поверхностей заготовки стеклянной подложки большого размера в вертикальном положении с добавлением корректирующего деформацию удаляемого количества материала, при этом корректирующее деформацию удаляемое количество материала вычисляют на основании (2) прогиба заготовки подложки под действием ее собственной массы в горизонтальном положении, вычисляемого на основании толщины и размера заготовки подложки и местоположения опор, когда подложка фотошаблона поддерживается горизонтально, (3) деформации подложки фотошаблона, вызываемой средством поддержки подложки фотошаблона, когда подложка фотошаблона закреплена в устройстве экспонирования, и (4) точного искривления опорной плиты для поддержания материнского стекла, в котором получающаяся в результате стеклянная подложка большого размера имеет такую изогнутую форму в поперечном сечении, что поверхность, являющаяся противолежащей по отношению к материнскому стеклу, является вогнутой, когда удерживается вертикально, и уменьшает вариацию микрозазора между материнским стеклом и подложкой фотошаблона, сформированной из стеклянной подложки большого размера, которая удерживается горизонтально, когда противоположные боковые кромки подложки фотошаблона поддерживаются в устройстве экспонирования.1. A method of producing a large glass substrate from which a photomask substrate is formed, wherein the photomask substrate is used in a method for exposing a mother glass including fixing a photomask substrate having opposite side surfaces in an exposure device by means of supporting opposite side edges, placement below and near the substrate of the maternal glass photomask serving as the substrate of the matrix side or color filter side in a liquid crystal a panel on thin-film transistors, and emitting light from the exposure device to the mother glass through a photo mask substrate, comprising: processing a large glass substrate preform having a front and rear surfaces and a diagonal size of at least 500 mm and a thickness of at least 500 mm 4 mm into a large glass substrate by removing (1) a leveling, removable amount of material from it based on altitude data of flatness and parallelism of the front and back surfaces large-sized glass substrate preforms in an upright position with the addition of a deformation-correcting amount of material removed, the deformation-correcting amount of material removed is calculated based on (2) deflection of the substrate preform under its own weight in a horizontal position, calculated on the basis of the thickness and size of the substrate preform and locations of supports when the photomask substrate is supported horizontally, (3) deformation of the photomask substrate caused by the sub hooting the photomask substrate when the photomask substrate is fixed to the exposure device, and (4) accurately bending the base plate to support the mother glass, in which the resulting large glass substrate has such a curved cross-sectional shape that the surface is opposite to to the mother glass, is concave when held vertically, and reduces the micro-gap variation between the mother glass and the photomask substrate formed of glass a large substrate that is held horizontally when the opposite side edges of the photomask substrate are supported in the exposure device.
2. Способ по п.1, в котором дополнительно после обработки на этапе выравнивания и коррекции деформации выполняют последующий этап, на котором полируют стеклянную подложку на одной или обеих ее поверхностях, при этом корректирующее деформацию удаляемое количество вычисляют путем дальнейшего добавления (5) изменения плоскостности на последующем этапе полирования.2. The method according to claim 1, in which, after processing, at the stage of leveling and correction of deformation, the next step is performed, on which the glass substrate is polished on one or both of its surfaces, while the deformation-correcting amount to be removed is calculated by further adding (5) a change in flatness at the subsequent stage of polishing.
3. Способ по п.1 или 2, в котором на этапе удаления используют обрабатывающий инструмент пескоструйной очистки.3. The method according to claim 1 or 2, in which at the stage of removal using a sandblasting processing tool.
4. Способ по п.3, в котором этап удаления с использованием обрабатывающего инструмента пескоструйной очистки выполняют при постоянном давлении.4. The method according to claim 3, in which the removal step using a sandblasting processing tool is performed at constant pressure.
5. Способ по п.3, в котором при пескоструйной очистке используют частицы оксида церия, оксида кремния, оксида алюминия или карбида кремния.5. The method according to claim 3, in which particles of cerium oxide, silicon oxide, aluminum oxide or silicon carbide are used for sandblasting.
6. Способ по п.1, в котором обрабатывают поверхность заготовки подложки в произвольном положении, в то время как перемещают заготовку подложки и/или обрабатывающий инструмент.6. The method according to claim 1, in which the surface of the substrate preform is treated in an arbitrary position, while the substrate preform and / or the processing tool are moved.
7. Стеклянная подложка большого размера, из которой формируют подложку фотошаблона, при этом подложку фотошаблона используют в способе экспонирования материнского стекла, включающем в себя закрепление подложки фотошаблона, имеющей противоположные боковые поверхности, в устройстве экспонирования с помощью средства поддержки противоположных боковых кромок, размещение ниже и вблизи подложки фотошаблона материнского стекла, служащего в качестве подложки стороны матрицы или стороны цветного фильтра в жидкокристаллической панели на тонкопленочных транзисторах, и излучение света из устройства экспонирования к материнскому стеклу через подложку фотошаблона, указанную стеклянную подложку большого размера получают путем обработки заготовки стеклянной подложки большого размера, имеющей переднюю и заднюю поверхности и размер по диагонали по меньшей мере 500 мм и толщину по меньшей мере 4 мм, при (1) выравнивающем удаляемом количестве материала, основанном на высотных данных плоскостности и параллельности передней и задней поверхностей заготовки стеклянной подложки большого размера в вертикальном положении, с добавлением корректирующего деформацию удаляемого количества материала,7. A large-sized glass substrate from which the photomask substrate is formed, wherein the photomask substrate is used in a method for exposing a mother glass, which includes fixing the photomask substrate having opposite side surfaces in an exposure device by means of supporting opposite side edges, placement below and near the substrate of the maternal glass photomask, serving as the substrate of the matrix side or the side of the color filter in the LCD panel per tone film transistors, and emitting light from the exposure device to the mother glass through a photo mask substrate, said large glass substrate is obtained by treating a large glass substrate preform having a front and rear surfaces and a diagonal size of at least 500 mm and a thickness of at least 4 mm, with (1) a leveling removal amount of material based on height data of flatness and parallelism of the front and back surfaces of the glass substrate preform, a size in a vertical position, with the addition correction amount of material removed deformation,
корректирующее деформацию удаляемое количество вычисляют на основании (2) прогиба заготовки подложки под действием ее собственной массы в горизонтальном положении, вычисляемого на основании толщины и размера заготовки подложки и местоположения опор, когда подложка фотошаблона поддерживается горизонтально, (3) деформации подложки фотошаблона, вызываемой средством поддержки подложки фотошаблона, когда подложка фотошаблона закреплена в устройстве экспонирования, и (4) точного искривления опорной плиты для поддержания материнского стекла, при этом стеклянная подложка большого размера имеет такую изогнутую форму в поперечном сечении, что поверхность, являющаяся противолежащей по отношению к материнскому стеклу, является вогнутой, когда удерживается вертикально, и уменьшает вариацию микрозазора между материнским стеклом и подложкой фотошаблона, сформированной из стеклянной подложки большого размера, которая удерживается горизонтально, когда противоположные боковые кромки подложки фотошаблона поддерживаются в устройстве экспонирования.the deformation-correcting amount to be removed is calculated on the basis of (2) deflection of the substrate preform under its own weight in a horizontal position, calculated on the basis of the thickness and size of the substrate preform and the location of the supports when the photo mask substrate is supported horizontally, (3) deformation of the photo mask substrate caused by the support means photo mask substrates when the photo mask substrate is fixed in the exposure device, and (4) accurately curving the base plate to support the mother stack a, the large glass substrate has such a curved cross-sectional shape that the surface that is opposite to the mother glass is concave when held vertically and reduces the micro-gap variation between the mother glass and the photomask substrate formed from a large glass substrate the size that is held horizontally when the opposite side edges of the photomask substrate are supported in the exposure device.
8. Стеклянная подложка большого размера по п.7, которая имеет отношение плоскостности поверхности к размеру по диагонали до 4,8·10-5 в горизонтальном положении.8. The large-sized glass substrate according to claim 7, which has a ratio of flatness of the surface to the size diagonally up to 4.8 · 10 -5 in a horizontal position.
9. Стеклянная подложка большого размера по п.7 или 8, которая имеет размер по диагонали до 825 мм и толщину от 3 мм до меньше чем 6 мм.9. A large-sized glass substrate according to claim 7 or 8, which has a diagonal size of up to 825 mm and a thickness of 3 mm to less than 6 mm.
10. Стеклянная подложка большого размера по п.7 или 8, которая имеет размер по диагонали от 800 до 1650 мм и толщину от 6 до 11 мм.10. The large-sized glass substrate according to claim 7 or 8, which has a diagonal size of from 800 to 1650 mm and a thickness of from 6 to 11 mm.
11. Стеклянная подложка большого размера по п.7 или 8, которая имеет размер по диагонали от 1800 до 2150 мм и толщину от 9 до 16 мм.11. The large glass substrate according to claim 7 or 8, which has a diagonal size of from 1800 to 2150 mm and a thickness of from 9 to 16 mm.
12. Стеклянная подложка большого размера по п.7 или 8, которая имеет размер по диагонали от 2151 до 3000 мм и толщину от 9 до 20 мм.12. The large glass substrate according to claim 7 or 8, which has a diagonal size of from 2151 to 3000 mm and a thickness of from 9 to 20 mm.
13. Способ экспонирования материнского стекла, заключающийся в том, что закрепляют подложку фотошаблона, имеющую противоположные боковые поверхности, в устройстве экспонирования путем поддержания противоположных боковых кромок, размещают ниже и вблизи подложки фотошаблона материнское стекло, служащее в качестве подложки стороны матрицы или стороны цветного фильтра в жидкокристаллической панели на тонкопленочных транзисторах, и излучают свет из устройства экспонирования к материнскому стеклу через подложку фотошаблона, в котором указанную подложку фотошаблона формируют из стеклянной подложки большого размера, которую получают путем обработки заготовки стеклянной подложки большого размера, имеющей переднюю и заднюю поверхности и размер по диагонали по меньшей мере 500 мм и толщину по меньшей мере 4 мм, при (1) выравнивающем удаляемом количестве материала, основанном на высотных данных плоскостности и параллельности передней и задней поверхностей заготовки стеклянной подложки большого размера в вертикальном положении, с добавлением корректирующего деформацию удаляемого количества материала, корректирующее деформацию удаляемое количество материала вычисляют на основании (2) прогиба заготовки подложки под действием ее собственной массы в горизонтальном положении, вычисляемого на основании толщины и размера заготовки подложки и местоположения опор, когда подложка фотошаблона поддерживается горизонтально, (3) деформации подложки фотошаблона, вызываемой средством поддержки подложки фотошаблона, когда подложка фотошаблона закреплена в устройстве экспонирования, и (4) точного искривления опорной плиты для поддержания материнского стекла, при этом стеклянная подложка большого размера имеет такую изогнутую форму в поперечном сечении, что поверхность, являющаяся противолежащей по отношению к материнскому стеклу, является вогнутой, когда удерживается вертикально, подложка фотошаблона удерживается горизонтально, когда противоположные боковые кромки подложки фотошаблона поддерживаются в устройстве экспонирования, в результате чего вариация микрозазора между материнским стеклом и подложкой фотошаблона уменьшается.13. The method of exposure of the mother glass, namely, that they fix the substrate of the photomask, having opposite side surfaces, in the exposure device by maintaining opposite lateral edges, place the mother glass below and near the substrate of the photomask, serving as the substrate of the matrix side or color filter side in LCD panel on thin-film transistors, and emit light from the exposure device to the mother glass through the substrate of the photomask, in which The bonded photo mask substrate is formed from a large glass substrate, which is obtained by treating a large glass substrate preform having a front and back surfaces and a diagonal size of at least 500 mm and a thickness of at least 4 mm, with (1) a leveling material to be removed based on high-altitude data of flatness and parallelism of the front and rear surfaces of the large glass substrate preform in a vertical position, with the addition of deformation-correcting deletion the amount of material, the strain correction, the amount of material removed is calculated on the basis of (2) the deflection of the substrate preform under the action of its own weight in a horizontal position, calculated on the basis of the thickness and size of the substrate preform and the location of the supports when the photomask substrate is supported horizontally, (3) substrate deformation of the photomask caused by the support tool for the substrate of the photomask when the substrate of the photomask is fixed in the exposure device, and (4) the exact curvature of the reference It is necessary to maintain the mother glass, while the large glass substrate has such a curved cross-sectional shape that the surface opposite to the mother glass is concave when held vertically, the photo mask substrate is held horizontally when the opposite side edges of the photo mask substrate are supported in the exposure device, as a result of which the variation of the micro-gap between the mother glass and the substrate of the photomask is reduced.
14. Способ экспонирования материнского стекла по п.13, в котором стеклянная подложка большого размера имеет отношение плоскостности поверхности к размеру по диагонали до 4,8·10-5 в горизонтальном положении.14. The method of exhibiting mother glass according to item 13, in which a large glass substrate has a ratio of surface flatness to diagonal size up to 4.8 · 10 -5 in a horizontal position.
15. Считываемая компьютером среда записи для записи способа получения стеклянной подложки большого размера из заготовки стеклянной подложки большого размера, имеющей переднюю и заднюю поверхности и размер по диагонали по меньшей мере 500 мм и толщину по меньшей мере 4 мм, при этом подложку фотошаблона формируют из указанной стеклянной подложки большого размера, подложку фотошаблона используют в способе экспонирования материнского стекла, включающем в себя закрепление подложки фотошаблона, имеющей противоположные боковые поверхности, в устройстве экспонирования с помощью средства поддержки противоположных боковых кромок, размещение ниже и вблизи подложки фотошаблона материнского стекла, служащего в качестве подложки стороны матрицы или стороны цветного фильтра в жидкокристаллической панели на тонкопленочных транзисторах, и излучение света из устройства экспонирования к материнскому стеклу через подложку фотошаблона, указанная среда снабжена записанной на ней программой для управления компьютером с целью выполнения следующих этапов: этапа вычисления (1) выравнивающего удаляемого количества материала на основании высотных данных плоскостности и параллельности передней и задней поверхностей заготовки стеклянной подложки большого размера, имеющей размер по диагонали по меньшей мере 500 мм и толщину по меньшей мере 4 мм в вертикальном положении, этапа вычисления корректирующего деформацию удаляемого количества материала на основании (2) прогиба заготовки подложки под действием ее собственной массы в горизонтальном положении, вычисляемого на основании толщины и размера заготовки подложки и местоположения опор, когда подложка фотошаблона поддерживается горизонтально, (3) деформации подложки фотошаблона, вызываемой средством поддержки подложки фотошаблона, когда подложка фотошаблона закреплена в устройстве экспонирования, и (4) точного искривления опорной плиты для поддержания материнского стекла, и этапа выдачи команды на обрабатывающее устройство для осуществления обработки для выравнивания и коррекции деформации путем удаления суммарного количества материала, получаемого из выравнивающего удаляемого количества и корректирующего деформацию удаляемого количества.15. A computer-readable recording medium for recording a method for producing a large-sized glass substrate from a large-sized glass substrate preform having a front and a back surface and a diagonal size of at least 500 mm and a thickness of at least 4 mm, wherein the photomask substrate is formed from said a large glass substrate, the photomask substrate is used in a method for exposing a mother glass including fixing a photomask substrate having opposite side surfaces in arrangement of exposure by means of supporting opposite lateral edges, placement below and near the substrate of the photomask of the mother glass serving as the substrate of the matrix side or the side of the color filter in the liquid crystal panel on thin film transistors, and light emission from the exposure device to the mother glass through the photomask substrate indicated the environment is equipped with a program recorded on it for controlling a computer in order to perform the following steps: calculation step (1) aligning the amount of material to be removed based on the altitude data of flatness and parallelism of the front and back surfaces of the large glass substrate blank having a diagonal size of at least 500 mm and a thickness of at least 4 mm in the vertical position, the step of calculating the deformation-correcting amount of material to be removed based on (2) the deflection of the substrate preform under the action of its own mass in a horizontal position, calculated on the basis of the thickness and size of the substrate preform and the location positioning of the supports when the photomask substrate is supported horizontally, (3) deformation of the photomask substrate caused by the support for the photomask substrate when the photomask substrate is fixed in the exposure device, and (4) the curvature of the base plate to maintain the mother glass, and the step of issuing a command to the processing device for processing to align and correct deformation by removing the total amount of material obtained from the leveling removal amount and correcting uyuschego deformation amount removed.
16. Среда записи по п.15, в которой способ дополнительно содержит после обработки на этапе выравнивания и коррекции деформации последующий этап полирования стеклянной подложки на одной или обеих ее поверхностях, программа дополнительно включает в себя этап вычисления суммарного количества материала путем добавления (5) изменения плоскостности на последующем этапе полирования.16. The recording medium according to clause 15, in which the method further comprises, after processing at the leveling and deformation correction step, the subsequent step of polishing the glass substrate on one or both of its surfaces, the program further includes the step of calculating the total amount of material by adding (5) the change flatness in the subsequent polishing step.
The text of the description is given in facsimile form. 