RU2285975C1 - Plasma-beam microwave complex - Google Patents
Plasma-beam microwave complex Download PDFInfo
- Publication number
- RU2285975C1 RU2285975C1 RU2005105214/09A RU2005105214A RU2285975C1 RU 2285975 C1 RU2285975 C1 RU 2285975C1 RU 2005105214/09 A RU2005105214/09 A RU 2005105214/09A RU 2005105214 A RU2005105214 A RU 2005105214A RU 2285975 C1 RU2285975 C1 RU 2285975C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- microwave
- power
- plasma
- output
- solenoid
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к электронно-лучевым и пучково-плазменным приборам СВЧ и может использоваться как усилитель, либо генератор мощного излучения в аппаратуре научного и прикладного назначения.The invention relates to electron beam and beam-plasma microwave devices and can be used as an amplifier or a generator of powerful radiation in scientific and applied equipment.
Известен пучково-плазменный СВЧ-прибор, содержащий электронную пушку, объемный резонатор в виде замедляющей структуры с узлами ввода и вывода СВЧ-мощности, полый коллектор и соленоид, охватывающий замедляющую структуру, и вакуумную откачную систему, соединенные с источниками питания [1].Known beam-plasma microwave device containing an electron gun, a cavity resonator in the form of a slowing structure with nodes input and output microwave power, a hollow collector and a solenoid covering the slowing structure, and a vacuum pumping system connected to power sources [1].
Недостатком известного прибора является низкая удельная мощность выходного излучения и ограниченные функциональные возможности, что обусловлено автономным выполнением каждого блока и наличием громоздкой откачной системы, выполняющей в структуре прибора только одну функцию откачки рабочего объема, и независимостью работы каждого блока или узла. В итоге автономное конструктивное исполнение всех блоков и независимая работа источников питания пушки, соленоида, объемного резонатора, вакуумной системы приводят к ограничению кпд прибора, его широкополосности, коэффициента усиления СВЧ-мощности и не позволяет производить синхронизацию и оптимальную настройку параметров режима, гарантирующих их стабильность в условиях эксплуатации.A disadvantage of the known device is the low specific power of the output radiation and limited functionality, which is due to the autonomous execution of each unit and the presence of a cumbersome pumping system that performs in the structure of the device only one function of pumping the working volume, and the independence of the operation of each unit or unit. As a result, the autonomous design of all units and the independent operation of the gun, solenoid, cavity resonator, and vacuum system power sources limit the efficiency of the device, its broadband, microwave power gain, and does not allow synchronization and optimal tuning of the mode parameters, which guarantee their stability in operating conditions.
Наиболее близким по технической сущности решением является пучково-плазменный СВЧ-прибор, содержащий вакуумный цилиндрический корпус, в котором расположена электронная пушка с термокатодом и анодным узлом, встроенные магниторазрядный и сорбционный геттерный насосы, объемный СВЧ-резонатор с устройствами ввода и вывода СВЧ-излучения, генераторы водорода, датчики давления, коллектор и соленоид, охватывающий тракт проводки пучка. Устройство содержит также высоковольтный источник питания, регулируемые источники питания прямого и электронного накала пушки, источники питания соленоида, генератора водорода и магниторазрядного насоса и датчики режима, соединенные с блоком автоматического управления.The closest in technical essence solution is a beam-plasma microwave device containing a vacuum cylindrical body in which an electron gun with a thermal cathode and anode assembly is located, built-in magnetically-discharge and sorption getter pumps, a volumetric microwave resonator with microwave radiation input and output devices, hydrogen generators, pressure sensors, a collector and a solenoid covering the beam path. The device also contains a high-voltage power source, adjustable direct and electronic gun power sources, power supplies for the solenoid, hydrogen generator and magnetic discharge pump and mode sensors connected to the automatic control unit.
Известный комплекс обеспечивает генерацию потока СВЧ-энергии в отпаянной и компактной системе, содержащей гибридную плазменно-резонаторную структуру. При этом взаимодействие электронного пучка с плазмой реализуется в объеме, заполняемом водородом, и обеспечивается компенсация пространственного заряда электронного пучка. Газодинамическая система комплекса обеспечивает перепад давлений в три порядка между электронной пушкой и замедляющей структурой СВЧ-резонатора.The known complex provides the generation of a stream of microwave energy in a sealed and compact system containing a hybrid plasma-resonator structure. In this case, the interaction of the electron beam with the plasma is realized in a volume filled with hydrogen, and the spatial charge of the electron beam is compensated. The gas-dynamic system of the complex provides a pressure difference of three orders of magnitude between the electron gun and the slowing-down structure of the microwave cavity.
Недостатком известного комплекса является ограничение функциональных возможностей при различных коррекциях режима, когда снижается кпд комплекса, растут потери на выходе СВЧ-тракта и в коллекторе, формируется неравномерная нагрузка резонатора и повышается вероятность СВЧ-пробоя.A disadvantage of the known complex is the limitation of functionality with various mode corrections, when the efficiency of the complex decreases, losses at the output of the microwave path and in the collector increase, an uneven resonator load forms, and the probability of microwave breakdown increases.
Независимое питание, регулирование и стабилизация режимов основных блоков и узлов комплекса не позволяет эффективно использовать гибридный пучково-плазменный механизм преобразования энергии и увеличивать установленную мощность и кпд системы в целом.Independent power supply, regulation and stabilization of the modes of the main units and nodes of the complex does not allow the efficient use of a hybrid beam-plasma energy conversion mechanism and to increase the installed power and efficiency of the system as a whole.
Настоящее изобретение решает задачу расширения функциональных возможностей комплекса при одновременном повышении кпд и надежности.The present invention solves the problem of expanding the functionality of the complex while improving efficiency and reliability.
Для решения этой задачи в известном пучково-плазменном СВЧ-комплексе, содержащем пучково-плазменный СВЧ-прибор, высоковольтный источник питания, регулируемые источники питания прямого и электронного накала пушки, источники питания соленоида, генератора водорода и магниторазрядного насоса и датчики режима, соединенные с блоком автоматического управления, а СВЧ-прибор собран в вакуумном цилиндрическом корпусе, в котором расположены электронная пушка с термокатодом и анодным узлом, встроенные магниторазрядный и геттерный насосы, объемный СВЧ-резонатор с замедляющей структурой с устройствами ввода и вывода СВЧ-излучения, генераторы водорода, датчики давления, коллектор и соленоид, охватывающий тракт проводки пучка, анодный узел выполнен в виде цилиндрической секции, торцы которой снабжены диафрагмами и в которую последовательно и аксиально по отношению к оси пучка встроены магниторазрядный и сорбционный насосы, замедляющая структура выполнена в виде последовательной цепочки резонаторов с азимутальными щелями связи, а вывод СВЧ-излучения снабжен ответвителем и контуром обратной связи, содержащим датчик мощности и преобразователь, соединенные с регуляторами блока питания электронного накала пушки и магниторазрядного насоса.To solve this problem, in the well-known beam-plasma microwave complex containing a beam-plasma microwave device, a high-voltage power source, adjustable direct and electronic gun power sources, power sources of a solenoid, hydrogen generator and a magnetic discharge pump and mode sensors connected to the unit automatic control, and the microwave device is assembled in a vacuum cylindrical housing, in which there is an electron gun with a thermal cathode and anode assembly, built-in magneto-discharge and getter pumps, volume a retarded microwave resonator with microwave input and output devices, hydrogen generators, pressure sensors, a collector and a solenoid covering the beam path, the anode assembly is made in the form of a cylindrical section, the ends of which are equipped with diaphragms and into which are sequentially and axially with respect to the axis of the beam, magnetic discharge and sorption pumps are integrated, the retardation structure is made in the form of a series of resonators with azimuthal coupling slits, and the microwave output is equipped with a coupler and rum feedback comprising a power sensor and a converter coupled to the electronic controls filament power supply and the gun magnitorazryadnogo pump.
Датчик тока высоковольтного источника питания соединен через блок автоматического управления со входом регулятора источника питания накала пушки.The current sensor of the high-voltage power source is connected through an automatic control unit to the input of the gun’s power source regulator.
Коллектор выполнен изолированным от корпуса прибора и снабжен регулируемым источником и датчиком напряжения, соединенным через блок автоматического управления с датчиком напряжения в цепи катода пушки.The collector is made isolated from the device’s body and is equipped with an adjustable source and a voltage sensor connected via an automatic control unit to a voltage sensor in the gun’s cathode circuit.
Соленоид выполнен секционированным, а питание на секции, находящиеся вблизи коллектора, подается через регулируемые источники питания, соединенные контуром обратной связи с цепью датчика СВЧ-мощности.The solenoid is partitioned, and the power to the sections located near the collector is supplied through regulated power sources connected by a feedback loop to the microwave power sensor circuit.
Кроме того, датчики давления установлены на входе и выходе замедляющей структуры, а разностный сигнал давлений через блок автоматического управления подан на вход источника питания генератора водорода и в цепь регулятора накала пушки.In addition, pressure sensors are installed at the inlet and outlet of the moderator, and the differential pressure signal is fed through the automatic control unit to the input of the hydrogen generator power source and to the gun’s glow regulator circuit.
Изобретение поясняется чертежами, гдеThe invention is illustrated by drawings, where
на фиг.1 показана структурная схема пучково-плазменного СВЧ-комплекса;figure 1 shows the structural diagram of a beam-plasma microwave complex;
на фиг.2 - диаграмма выходной СВЧ-мощности как функции давления водорода;figure 2 is a diagram of the output microwave power as a function of hydrogen pressure;
на фиг.3 - амплитудно-частотные характеристики комплекса;figure 3 - amplitude-frequency characteristics of the complex;
на фиг.4 - амплитудно-динамические характеристики комплекса в режиме усилителя мощности;figure 4 - amplitude-dynamic characteristics of the complex in the mode of a power amplifier;
на фиг.5 - распределение градиентов магнитного поля вдоль электронно-лучевого тракта.figure 5 - distribution of the gradients of the magnetic field along the cathode ray path.
Устройство содержит пучково-плазменный СВЧ-прибор 1, высоковольтный источник питания 2 с выводами 3 и 4 и регулируемые источники питания прямого и электронного накала пушки 5. Комплекс содержит также источники питания соленоида 6, генератора водорода 7, источник питания магниторазрядного насоса 8 и датчики контроля параметров их режима.The device contains a beam-
СВЧ-прибор содержит вакуумный цилиндрический корпус 9, в котором расположены электронная пушка 10 с термокатодом 11 и анодным узлом 12, встроенные магниторазрядный 13 и геттерный 14 насосы, замедляющую структуру объемного СВЧ-резонатора 15 с устройствами ввода 16 и вывода 17 СВЧ-излучения, генераторы водорода 18, датчики давления 19, коллектор 20 и соленоид 21, охватывающий тракт проводки пучка 22.The microwave device contains a vacuum cylindrical body 9, in which there is an
Анодный узел электронной пушки 12 выполнен в виде цилиндрической секции 23, торцы которой 24 снабжены двумя диафрагмами 25 и в которую последовательно встроены магниторазрядный и геттерный насосы 13 и 14.The anode assembly of the electron gun 12 is made in the form of a cylindrical section 23, the ends of which 24 are equipped with two
Замедляющая структура 15 выполнена в виде последовательной цепочки резонаторов 26 с азимутальными щелями связи 27. Комплекс снабжен блоком автоматического управления 28, соединенным на входе с датчиками и на выходе с регуляторами режима.The retardation structure 15 is made in the form of a series of resonators 26 with azimuthal communication slots 27. The complex is equipped with an automatic control unit 28 connected at the input to the sensors and at the output to the mode regulators.
Датчик тока 29 высоковольтного источника питания 2 соединен через контур обратной связи 30 с регулятором мощности 31 источника питания электронного накала 5 пушки 10.The current sensor 29 of the high-voltage power supply 2 is connected through a
Вывод СВЧ-излучения 17 снабжен ответвителем 32 и преобразователем сигнала 33, выход 34 с датчика мощности которого соединен со входом 35 регулятора мощности 31 блока электронного накала и входом 36 регулятора 37 источника питания 8 магниторазрядного насоса 13.The output of the microwave radiation 17 is equipped with a coupler 32 and a signal converter 33, the output 34 of the power sensor of which is connected to the input 35 of the power controller 31 of the electronic filament unit and the input 36 of the controller 37 of the power source 8 of the magnetic discharge pump 13.
Коллектор 20 пучково-плазменного СВЧ-прибора выполнен изолированным от корпуса 9 и снабжен регулируемым источником 38 и датчиком напряжения 39, соединенными через блок автоматического управления 28 с датчиком напряжения в цепи катода пушки.The
Датчики давления 19 установлены на входе и выходе СВЧ-резонатора 15, а разностный сигнал давлений 40 от блока сравнения 42 через блок автоматического управления 28 подан на вход 41 регулятора источника питания 7 генератора водорода 18 и в цепь регулятора 31 накала пушки.Pressure sensors 19 are installed at the input and output of the microwave resonator 15, and the differential pressure signal 40 from the comparison unit 42 through the automatic control unit 28 is fed to the input 41 of the power supply controller 7 of the hydrogen generator 18 and to the gun control circuit 31.
Блок высоковольтного источника питания 2 может содержать электронный коммутатор 46, состоящий из электронно-лучевого вентиля 47 и блока управления 49 с выводами 48 и 50.The high-voltage power supply unit 2 may include an electronic switch 46, consisting of an electron-beam valve 47 and a control unit 49 with terminals 48 and 50.
Соленоид 21, охватывающий объемный СВЧ-резонатор 15, снабжен дополнительными секциями 51, выводы которых 52 подключены к регулируемым источникам питания 53, соединенным контуром обратной связи 54 с выходом цепи датчика мощности 34. В качестве датчика напряжения в цепи катода пушки может использоваться высоковольтный делитель напряжения 55.The solenoid 21 covering the microwave cavity resonator 15 is equipped with additional sections 51, the terminals of which 52 are connected to regulated power sources 53, connected by a feedback loop 54 to the output of the power sensor circuit 34. A high voltage voltage divider can be used as a voltage sensor in the gun’s cathode circuit 55.
Пучково-плазменный СВЧ-комплекс функционирует следующим образом. Блок автоматического управления 28 источников питания подает сигналы для включения магниторазрядного насоса 8, соленоида 6 и генератора водорода 7. В отпаянном и герметичном корпусе 9 СВЧ-прибора после включения источников питания 5 прямого и электронного накала пушки 10, а затем высоковольтного источника питания 2 формируется вакуумный перепад давлений между рабочим объемом электронной пушки (10-6 Торр) и замедляющей структурой. Электронный пучок формируется и ускоряется в промежутке катод 11 и передняя диафрагма 25 полого анодного узла 12.The beam-plasma microwave complex operates as follows. The automatic control unit 28 of the power sources gives signals to turn on the magnetic discharge pump 8, the solenoid 6 and the hydrogen generator 7. In the sealed and sealed case 9 of the microwave device, after turning on the power sources 5 of the direct and electronic glow of the
Магниторазрядный 13 и сорбционно геттерный 14 насосы, расположенные в эквипотенциальном объеме анодного узла, образуют коаксиальную структуру по отношению к электронному пучку и выполняют функции регулируемой газодинамической системы, снабженной обратными связями через датчики мощности 33 и 34 и датчики давления 19. На фиг.2 приведена диаграмма выходной СВЧ-мощности W2 как функция давления водорода - Р. Диапазон вариаций мощности ΔW2 стабилизируется СВЧ-комплексом автоматически. Электронный пучок, транспортируемый в пролетном канале цепочки резонаторов 26 и в магнитном поле соленоида 21, создает пучковую плазму с концентрацией порядка 1012 см-3 при давлении водорода 10-3 Торр. Это делает возможным как вакуумный, так и плазменный режим работы комплекса.Magnetic discharge 13 and sorption getter 14 pumps located in the equipotential volume of the anode assembly form a coaxial structure with respect to the electron beam and perform the functions of an adjustable gas-dynamic system provided with feedback via power sensors 33 and 34 and pressure sensors 19. Figure 2 shows a diagram output microwave power W 2 as a function of hydrogen pressure - P. The range of power variations ΔW 2 is automatically stabilized by the microwave complex. An electron beam transported in the passage channel of the chain of resonators 26 and in the magnetic field of the solenoid 21 creates a beam plasma with a concentration of about 10 12 cm -3 at a hydrogen pressure of 10 -3 Torr. This makes it possible both vacuum and plasma mode of operation of the complex.
На фиг. 3 приведена зависимость выходной мощности W2 от частоты сигнала Δf (амплитудно-частотная х-ка), подаваемого на вход 16 замедляющей структуры. Зависимость а) - характеризует вакуумный режим работы, б) - плазменный режим, диапазон ΔW2 - автоматическую стабилизацию режима. Диаграммы на фиг.2 и 3 характеризуют плазменно-резонаторный процесс в СВЧ-комплексе с объемным разделением области переноса энергии электронным пучком и области взаимодействия пучка с возбуждаемой волной. В такой гибридной системе, снабженной датчиками режима и обратными связями, автоматически реализуются следующие основные функции комплекса: компенсация пространственного заряда электронного пучка и устойчивый синхронизм пучка с волнами гибридных замедляющих структур 26, 27. Кроме того, для повышения эффективности генерации и вывода СВЧ-мощности и поглощения энергии электронного пучка в коллекторе 20 формируются продольные градиенты концентрации плазмы (блоки 13, 14, 18, 42) и магнитного поля, для чего соленоид 21 выполнен секционированным 51, а выводы секций 52 подключены к регулируемым источникам питания 53, соединенным по контуру обратный связи 54 с выходом цепи датчика мощности 34. Амплитудно-динамическая характеристика комплекса, функционирующего в вакуумном режиме а) и в плазменном режиме б), показана на фиг.4 где W1 ~ мощность на входе 16, a W2 - мощность на выходе 17, измеряемая ответвителем 32 и преобразователем 33. Канал 16, 26, 27, 17 функционирует как пучково-плазменный усилитель полезной мощности, а эффективность комплекса зависит от общего кпд гибридной электродинамической системы с положительными обратными связями, позволяющими обеспечивать устойчивость в диапазоне ΔW2. Широкополосность в относительных единицах тракта усилителя иллюстрируется зависимостью на фиг.3.In FIG. 3 shows the dependence of the output power W 2 on the frequency of the signal Δf (amplitude-frequency x-ka) supplied to the input 16 of the slowing structure. Dependence a) - characterizes the vacuum operating mode, b) - plasma mode, the range ΔW 2 - automatic stabilization of the mode. The diagrams in FIGS. 2 and 3 characterize the plasma-resonator process in the microwave complex with volumetric separation of the energy transfer region of the electron beam and the region of interaction of the beam with the excited wave. In such a hybrid system, equipped with mode sensors and feedbacks, the following main functions of the complex are automatically realized: compensation of the space charge of the electron beam and stable synchronism of the beam with the waves of hybrid slowdown structures 26, 27. In addition, to increase the efficiency of generation and output of microwave power and the energy absorption of the electron beam in the
Соленоид 21 с секциями 57, установленными у входа пучка в коллектор 20 и вывода (полезной) СВЧ-мощности 17, обеспечивает формирование в гибридной электродинамической замедляющей структуре магнитоактивности плазмы и продольный градиент магнитного поля в соответствии с фиг. 5, где L - длина электронно-лучевого тракта комплекса. Контур обратной связи 54 датчика СВЧ-мощности и источника питания 53 секций соленоида в комбинации с датчиками давления 19, установленными на входе и выходе СВЧ-резонатора, соединенными с регулятором источника питания 43 генератора водорода 18, обеспечивает равномерность нагрузки гибридной системы на выходе 17 СВЧ-тракта и в коллекторе 20.A solenoid 21 with sections 57 installed at the beam inlet to the
Соединение датчика тока 29 высоковольтного источника питания 2 со входом регулятора 31 источника питания электронного накала пушки 5 формирует контур обратной связи 30, замыкающийся через блок автоматического управления 28. Стабилизация напряжения U0 высоковольтного источника 2 достигает 0,5% при коэффициенте пульсации также 0,5%.The connection of the current sensor 29 of the high-voltage power supply 2 with the input of the regulator 31 of the electronic glow power supply of the gun 5 forms a
Любые отклонения от режима в плазменном волноводе, имеющие знак плюс или минус, через преобразователь 33 и контур обратной связи 34 переводят блок электронного накала 5 в режим компенсирующего эту флуктуацию нового значения тока электронного пучка, при этом сохраняется U0=const и устанавливается новое значение P2=const, что обеспечивает стабилизацию амплитудно-фазовых характеристик комплекса.Any deviations from the regime in the plasma waveguide with a plus or minus sign, through the converter 33 and feedback loop 34, transfer the electronic glow unit 5 to the mode of compensating this fluctuation for the new value of the electron beam current, while U 0 = const is maintained and a new value P is set 2 = const, which ensures stabilization of the amplitude-phase characteristics of the complex.
Выполнение коллектора 20 изолированным от корпуса прибора и подключение его к регулируемому источнику напряжения 38 с датчиком напряжения 39 позволяет автоматически (через блок сравнения, соединенный с датчиком напряжения в цепи катода пушки) регулировать потенциал коллектора, определяющий параметр пучковой плазмы в пролетном канале прибора. Положительный эффект от применения данного предложения обусловлен расширением функциональных возможностей пучково-плазменного СВЧ комплекса, которое определяется конструктивным совмещением блоков и использованием внутренних и внешних обратных связей в системе, обеспечивающих режим стабилизации мощности СВЧ-вывода. При любых флуктуациях режима, медленных, обусловленных изменением давления в приборе, и быстрых, обусловленных стохастикой СВЧ-излучения, и процессом поглощения энергии электронным пучком, осуществляется автоматическая коррекция режима при сохранении постоянства полезной мощности.The execution of the
Источники информацииInformation sources
1. Патент США №3902098, кл.315-5, 39, 1973 г.1. US patent No. 3902098, CL 315-5, 39, 1973.
2. Патент РФ №2084986, 6 H 01 J 25/00, 1997 г. Бюл. №20.2. RF patent No. 2084986, 6 H 01
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2005105214/09A RU2285975C1 (en) | 2005-02-28 | 2005-02-28 | Plasma-beam microwave complex |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2005105214/09A RU2285975C1 (en) | 2005-02-28 | 2005-02-28 | Plasma-beam microwave complex |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2005105214A RU2005105214A (en) | 2006-08-10 |
RU2285975C1 true RU2285975C1 (en) | 2006-10-20 |
Family
ID=37059125
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2005105214/09A RU2285975C1 (en) | 2005-02-28 | 2005-02-28 | Plasma-beam microwave complex |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2285975C1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2569493C1 (en) * | 2014-07-16 | 2015-11-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технический университет радиотехники, электроники и автоматики" (МИРЭА) | Diode of plasma shf-generator |
-
2005
- 2005-02-28 RU RU2005105214/09A patent/RU2285975C1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2569493C1 (en) * | 2014-07-16 | 2015-11-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технический университет радиотехники, электроники и автоматики" (МИРЭА) | Diode of plasma shf-generator |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2005105214A (en) | 2006-08-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6041975B2 (en) | High-frequency accelerator manufacturing method, high-frequency accelerator, and circular accelerator system | |
JP2000106299A (en) | High-frequency accelerating method and device thereof | |
RU2461908C2 (en) | High-frequency generator for ionic and electronic sources | |
CN101805895A (en) | Helicon wave plasma enhanced chemical vapor deposition unit | |
RU2452143C2 (en) | Method of generating deceleration radiation with pulse-by-pulse energy switching and radiation source for realising said method | |
US20090091395A1 (en) | Microwave signal generator | |
RU2285975C1 (en) | Plasma-beam microwave complex | |
CN115148565A (en) | Three-axis relativistic klystron amplifier adopting slow wave extraction device | |
US3313979A (en) | Device for producing electro-magnetic oscillations of very high frequency | |
CN113764252A (en) | Plasma source and starting method thereof | |
US3111604A (en) | Electronic device for generating or amplifying high frequency oscillations | |
CN103681178A (en) | Highly stable and long-life gas ion source | |
Whittum et al. | Experimental studies of microwave amplification in the ion-focused regime | |
US4140942A (en) | Radio-frequency electron accelerator | |
RU2330347C1 (en) | Beam-plasma microwave device (versions) | |
Gold et al. | High Power Accelerator R&D at the NRL 11.424‐GHz Magnicon Facility | |
Su et al. | Bimodal design of 500MHz and 1.5 GHz normal conducting RF cavity for advanced synchrotron radiation facilities | |
JP3414977B2 (en) | Gyrotron device | |
Kovtun et al. | ICRF plasma production in gas mixtures in the Uragan-2M stellarator | |
Ding et al. | The research on the low peak power multi-beam broadband klystron | |
CN114672790B (en) | Microwave plasma chemical vapor deposition system | |
CN117594398A (en) | Nested phase-locked high-power microwave generator capable of outputting two paths of same frequency | |
RU2084986C1 (en) | Beam-plasma microwave device | |
Liang et al. | Design of a 4kW CW X-Band Broadband Klystron | |
CN117641695A (en) | Drift tube linear accelerator and charged particle linear accelerator system |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20080229 |