RU2240504C1 - Method for determining thickness of dielectric material - Google Patents
Method for determining thickness of dielectric material Download PDFInfo
- Publication number
- RU2240504C1 RU2240504C1 RU2003116326/28A RU2003116326A RU2240504C1 RU 2240504 C1 RU2240504 C1 RU 2240504C1 RU 2003116326/28 A RU2003116326/28 A RU 2003116326/28A RU 2003116326 A RU2003116326 A RU 2003116326A RU 2240504 C1 RU2240504 C1 RU 2240504C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- dielectric
- thickness
- base
- controlled
- dielectric material
- Prior art date
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к области измерительной техники и может быть использовано в системах управления технологическими процессами.The invention relates to the field of measuring equipment and can be used in process control systems.
Известен способ, реализуемый волноводным толщиномером (см. В.А.Викторов и др. “Радиоволновые измерения параметров технологических процессов”, 1989, стр.46), в котором о толщине листа судят по характеристикам (амплитуде) распространения электромагнитных волн в волноводах, в поле которых находится контролируемый лист.A known method implemented by a waveguide thickness gauge (see V.A. Viktorov et al. “Radio wave measurements of technological process parameters”, 1989, p. 46), in which the sheet thickness is judged by the characteristics (amplitude) of the propagation of electromagnetic waves in waveguides, in the field of which is the controlled sheet.
Недостатком этого известного способа является сложность в конструкции волноводного датчика и преобразовании информационного сигнала.The disadvantage of this known method is the complexity in the design of the waveguide sensor and the conversion of the information signal.
Наиболее близким техническим решением к предлагаемому является принятый автором за прототип способ определения толщины диэлектрического слоя (см. В.А.Викторов и др. “Радиоволновые измерения параметров технологических процессов”, 1989 г., стр. 50). В устройстве, реализующем указанный способ, колебания с СВЧ генератора по измерительному (направленный ответвитель) и опорному (умножитель частоты) каналам поступают на передающие антенны, которые излучают волны в сторону объекта контроля. Отраженные от объекта сигналы, улавливаемые приемными антеннами и передаваемые далее соответственно направленным ответвителем и умножителем частоты, сравниваются в фазовом детекторе. Здесь по разности фаз опорного и измерительного сигналов определяют толщину контролируемого материала.The closest technical solution to the proposed one is the method for determining the thickness of the dielectric layer adopted by the author for the prototype (see V.A. Viktorov et al. “Radio-wave measurements of the parameters of technological processes”, 1989, p. 50). In a device that implements this method, the oscillations from the microwave generator through the measuring (directional coupler) and reference (frequency multiplier) channels are transmitted to transmitting antennas that emit waves in the direction of the control object. The signals reflected from the object, captured by the receiving antennas and transmitted further respectively by a directional coupler and frequency multiplier, are compared in a phase detector. Here, the thickness of the controlled material is determined by the phase difference of the reference and measuring signals.
Недостатком данного двухчастотного фазового способа следует считать погрешность, обусловленную сложностью определения разности фаз при широком диапазоне измерения контролируемого параметра.The disadvantage of this two-frequency phase method should be considered the error due to the complexity of determining the phase difference with a wide measurement range of the controlled parameter.
Задачей заявляемого технического решения является повышение точности измерения.The objective of the proposed technical solution is to increase the accuracy of measurement.
Поставленная задача решается тем, что в способе определения толщины диэлектрического материала, расположенного на диэлектрическом основании, использующем взаимодействие электромагнитных колебаний с контролируемым материалом при его зондировании волнами и отражении от него волн, толщину диэлектрического материала d определяют по формуле:The problem is solved in that in a method for determining the thickness of a dielectric material located on a dielectric base using the interaction of electromagnetic waves with a controlled material when it is probed by waves and reflected from it, the thickness of the dielectric material d is determined by the formula:
где Ro - расстояние между излучателем электромагнитных колебаний и диэлектрическим основанием, Ем - энергетическая освещенность, создаваемая излучением, отраженным от поверхности контролируемого диэлектрического материала, Ео - энергетическая освещенность, создаваемая излучением, отраженным от поверхности диэлектрического основания.where R o is the distance between the emitter of electromagnetic waves and the dielectric base, E m is the energy illuminance created by the radiation reflected from the surface of the controlled dielectric material, E o is the energy illuminance created by the radiation reflected from the surface of the dielectric base.
Сущность заявляемого изобретения, характеризуемого совокупностью указанных выше признаков, состоит в том, что при зондировании контролируемого диэлектрического материала электромагнитными волнами, по измеренным значениям энергетических освещенностей отраженными от поверхностей материала и основания излучениями определяют толщину материала.The essence of the claimed invention, characterized by a combination of the above features, is that when probing a controlled dielectric material with electromagnetic waves, the thickness of the material is determined from the measured values of the energy illuminance reflected from the surfaces of the material and the base radiation.
Наличие в заявляемом способе совокупности перечисленных существующих признаков позволяет решить поставленную задачу определения толщины диэлектрического материала, на основе использования интенсивности отраженных от поверхностей основания и материала электромагнитных волн с желаемым техническим результатом, т.е. высокой точностью измерения.The presence in the claimed method of the totality of the listed existing features allows us to solve the problem of determining the thickness of the dielectric material, based on the use of the intensity of electromagnetic waves reflected from the base surfaces and the material with the desired technical result, i.e. high accuracy of measurement.
На чертеже приведена функциональная схема устройства, реализующего предлагаемый способ.The drawing shows a functional diagram of a device that implements the proposed method.
Устройство, реализующее данное технического решение, содержит излучатель инфракрасных волн 1, приемник 2, индикатор 3 для регистрации результатов измерения толщины диэлектрического плоского материала 4, расположенного на диэлектрическом основании 5.A device that implements this technical solution contains an infrared wave emitter 1, a receiver 2, an indicator 3 for recording the results of measuring the thickness of a dielectric flat material 4 located on a dielectric base 5.
Суть предлагаемого способа заключается в определении толщины диэлектрического плоского материала на диэлектрическом основании путем измерения и преобразования отраженных от поверхностей материала и основания электромагнитных сигналов.The essence of the proposed method is to determine the thickness of a dielectric flat material on a dielectric base by measuring and converting electromagnetic signals reflected from the surfaces of the material and the base.
При зондировании плоского диэлектрического материала, расположенного на диэлектрическом основании, инфракрасными волнами для оценки интенсивности (энергетической освещенности) отраженной от поверхности объекта инфракрасной волны можно использовать формулу:When probing a plane dielectric material located on a dielectric base with infrared waves, the following formula can be used to estimate the intensity (energy illumination) of an infrared wave reflected from the surface of an object:
где Ем - величина энергетической освещенности отраженным инфракрасным излучением, θм - угол между нормалью и отражающей поверхностью диэлектрического материала и направлением на приемник, Р - мощность излучателя, ρм - коэффициент отражения от поверхности раздела двух сред (воздух - диэлектрический материал), Rм - расстояние между излучателем и поверхностью контролируемого материала.where E m is the magnitude of the energy illuminance by reflected infrared radiation, θ m is the angle between the normal and the reflecting surface of the dielectric material and the direction to the receiver, P is the emitter power, ρ m is the reflection coefficient from the interface between the two media (air - dielectric material), R m is the distance between the emitter and the surface of the controlled material.
Аналогично при отсутствии диэлектрического материала на диэлектрическом основании для оценки интенсивности отраженной от поверхности диэлектрического основания инфракрасной волны можно записать:Similarly, in the absence of dielectric material on a dielectric base, to estimate the intensity of the infrared wave reflected from the surface of the dielectric base, one can write:
где E0 - величина энергетической освещенности отраженным инфракрасным излучением, θ0 - угол между нормалью к отражающей поверхности диэлектрического основания и направлением на приемник, ρ0 - коэффициент отражения от поверхности раздела двух сред (воздух - диэлектрическое основание), R0 - расстояние между излучателем и диэлектрическим основанием.where E 0 is the magnitude of the energy illuminance by reflected infrared radiation, θ 0 is the angle between the normal to the reflecting surface of the dielectric base and the direction to the receiver, ρ 0 is the reflection coefficient from the interface between the two media (air - dielectric base), R 0 is the distance between the emitter and dielectric base.
При предположении ρм=ρо и ρм=θо совместное преобразование уравнений (1) и (2) дает возможность записать, что:Under the assumption that ρ m = ρ о and ρ m = θ о, the joint transformation of equations (1) and (2) makes it possible to write that:
В данном случае, так как изменение толщины материала сопряжено с изменением расстояния Rм, то при Ro=const параметр Rм, как следует из формулы (3), можно вычислить следующим образом:In this case, since a change in the thickness of the material is associated with a change in the distance R m , then at R o = const the parameter R m , as follows from formula (3), can be calculated as follows:
С другой стороны, геометрическая величина параметра Rм с учетом толщины диэлектрического материала и расстояния Ro может быть определена как:On the other hand, the geometric value of the parameter R m taking into account the thickness of the dielectric material and the distance R o can be defined as:
где d - толщина диэлектрического материала.where d is the thickness of the dielectric material.
В результате совместного преобразования уравнений (4) и (5) имеем:As a result of the joint transformation of equations (4) and (5), we have:
Последнее выражение показывает, что при постоянном значении расстояния Ro путем измерения энергетических освещенностей отраженных от поверхностей диэлектрического материала и диэлектрического основания излучениями можно оценить величину толщины контролируемой среды.The last expression shows that at a constant value of the distance R o by measuring the energy illuminance reflected from the surfaces of the dielectric material and the dielectric base by radiation, it is possible to estimate the thickness of the controlled medium.
Для этого в устройстве, реализующем предлагаемый способ, сначала инфракрасные волны, излучаемые излучателем 1, направляются в сторону диэлектрического плоского материала 4, расположенного на диэлектрическом плоском основании 5. После этого отраженные от поверхности материала (и при отсутствии материала на диэлектрическом основании от поверхности последнего) волны улавливаются приемником 2. Здесь следует отметить, что источник и приемник излучения располагаются в одной плоскости, т.е. на одном расстоянии от объекта контроля. С выхода приемника сигнал, связанный с отражающими свойствами диэлектрического материала (диэлектрического основания) и расстоянием между поверхностью контролируемого объекта и излучателем (приемником), переносится в индикатор 3. В этом блоке отражается информация о толщине диэлектрического материала на основании.To do this, in a device that implements the proposed method, first the infrared waves emitted by the emitter 1 are directed towards the dielectric flat material 4 located on the dielectric flat base 5. After that, reflected from the surface of the material (and in the absence of material on the dielectric base from the surface of the latter) waves are captured by receiver 2. Here it should be noted that the radiation source and receiver are located in the same plane, i.e. at one distance from the control object. From the output of the receiver, the signal associated with the reflective properties of the dielectric material (dielectric base) and the distance between the surface of the controlled object and the emitter (receiver) is transferred to indicator 3. In this block, information on the thickness of the dielectric material on the base is reflected.
Проведены лабораторные эксперименты по определению толщины перфокарты (82 х187 мм), расположенной на фторопласте. В опытах в качестве излучателя и приемника использовался инфракрасный диод типа АЛ107Б с мощностью излучения 9 мВт и длиной волны 0,9...12 мкм. При изменении толщины перфокарты от 0,16 до 4 мм разность инфракрасного сигнала на выходе приемника составила 26,71 мВ. В испытаниях погрешность измерения толщины перфокарты не превышала 0,2%.Laboratory experiments were carried out to determine the thickness of a punch card (82 x187 mm) located on the fluoroplastic. In the experiments, an AL107B type infrared diode with a radiation power of 9 mW and a wavelength of 0.9 ... 12 μm was used as a radiator and a receiver. When changing the thickness of the punch card from 0.16 to 4 mm, the difference in the infrared signal at the output of the receiver was 26.71 mV. In the tests, the error in measuring the thickness of the punch card did not exceed 0.2%.
Таким образом, согласно предлагаемому способу, на основе измерения интенсивности отраженных от диэлектрического материала на диэлектрическом основании инфракрасных волн можно обеспечить более высокую точность и чувствительность измерения толщины контролируемой среды.Thus, according to the proposed method, based on measuring the intensity of infrared waves reflected from the dielectric material on the dielectric base, it is possible to provide higher accuracy and sensitivity for measuring the thickness of the controlled medium.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2003116326/28A RU2240504C1 (en) | 2003-06-02 | 2003-06-02 | Method for determining thickness of dielectric material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2003116326/28A RU2240504C1 (en) | 2003-06-02 | 2003-06-02 | Method for determining thickness of dielectric material |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2240504C1 true RU2240504C1 (en) | 2004-11-20 |
RU2003116326A RU2003116326A (en) | 2004-12-10 |
Family
ID=34310943
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2003116326/28A RU2240504C1 (en) | 2003-06-02 | 2003-06-02 | Method for determining thickness of dielectric material |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2240504C1 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2452938C1 (en) * | 2010-11-30 | 2012-06-10 | Учреждение Российской академии наук Институт проблем управления им. В.А. Трапезникова РАН | Method of determining thickness of metal coating |
RU2528131C1 (en) * | 2013-03-21 | 2014-09-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт проблем управления им. В.А. Трапезникова Российской академии наук | Contactless radiowave device to measure thickness of dielectric materials |
RU2579173C1 (en) * | 2014-11-10 | 2016-04-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт проблем управления им. В.А. Трапезникова Российской академии наук | Radio-wave phase method of measuring thickness of dielectric materials |
-
2003
- 2003-06-02 RU RU2003116326/28A patent/RU2240504C1/en not_active IP Right Cessation
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
ВИКТОРОВ В.А. и др. Радиоволновые измерения параметров технологических процессов. - М.: Энергоатомиздат, 1989, с.46, 50. * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2452938C1 (en) * | 2010-11-30 | 2012-06-10 | Учреждение Российской академии наук Институт проблем управления им. В.А. Трапезникова РАН | Method of determining thickness of metal coating |
RU2528131C1 (en) * | 2013-03-21 | 2014-09-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт проблем управления им. В.А. Трапезникова Российской академии наук | Contactless radiowave device to measure thickness of dielectric materials |
RU2579173C1 (en) * | 2014-11-10 | 2016-04-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт проблем управления им. В.А. Трапезникова Российской академии наук | Radio-wave phase method of measuring thickness of dielectric materials |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6750960B2 (en) | Optical distance measurement device and method thereof | |
CN104197844A (en) | All optical fiber frequency domain interference absolute distance measurement method and device | |
CN102012401A (en) | Nondestructive testing method of heterogeneous property of solid material | |
CN105043531A (en) | Sound field measuring apparatus and method | |
CN103154720B (en) | Measuring apparatus and measuring method for metallic microstructures ormaterial properties | |
RU2240504C1 (en) | Method for determining thickness of dielectric material | |
JP5260799B2 (en) | Method for determining the dielectric constant of a dielectric | |
CN106768264B (en) | Focused ultrasound power measuring system and method based on the axial maximum vibration velocity of focal regions | |
US10883870B2 (en) | Highly doped d-shaped fiberoptic probe for hydrophone applications | |
CN207937595U (en) | Laser acquisition radar optics system based on phase ranging method | |
US5285260A (en) | Spectroscopic imaging system with ultrasonic detection of absorption of modulated electromagnetic radiation | |
CN112505717B (en) | Underwater multi-target range radar system based on frequency domain reflection | |
CN103983344A (en) | Quantitative measurement method of ultrasonic grating phase amplitude | |
RU2276334C1 (en) | Radiowave level meter | |
CN111948665A (en) | Solid-state laser radar system and solid-state laser radar | |
CN112859030A (en) | Radar stray radiation RCS measurement system | |
JP2000171232A (en) | Ultrasonic wave measuring instrument | |
CA2394326A1 (en) | Tissue sensor | |
Maatta et al. | Effect of measurement spot size on the accuracy of laser radar devices in industrial metrology | |
CN214174613U (en) | Absolute distance measuring device based on microwave frequency domain interference | |
RU2589763C2 (en) | Method for guiding pulsed electromagnetic radiation to remote object | |
RU2092874C1 (en) | Method of detection of objects in earth and device intended for its realization | |
JP7342223B2 (en) | Optical inspection equipment and method | |
JP2019020147A (en) | Spectroscopic element, measuring method and measuring device | |
JPH0526655A (en) | Film thickness measuring method and device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20050603 |