RU2208262C2 - Способ получения электронного луча - Google Patents
Способ получения электронного луча Download PDFInfo
- Publication number
- RU2208262C2 RU2208262C2 RU2000109349/09A RU2000109349A RU2208262C2 RU 2208262 C2 RU2208262 C2 RU 2208262C2 RU 2000109349/09 A RU2000109349/09 A RU 2000109349/09A RU 2000109349 A RU2000109349 A RU 2000109349A RU 2208262 C2 RU2208262 C2 RU 2208262C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- electron beam
- cathode
- monopolar
- lenses
- electron
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
Изобретение относится к области электроники, а именно к способам получения электронного пучка. В способе получения электронного луча путем облучения катода электромагнитным излучением катод облучают лазерным лучом, а полученный электронный луч пропускают через одну магнитную линзу, полюса которой располагают по направлению движения электронов, две монополярные конденсаторные линзы и две диполярные, причем первую от катода монополярную конденсаторную линзу заряжают положительно, а вторую - отрицательно, первую и вторую диполярные линзы устанавливают во взаимно перпендикулярных направлениях с возможностью механической коррекции их взаимного расположения. Техническим результатом является получение электронного луча с электронами практически одинаковых кинетичеких энергий и импульсов, что обеспечивает минимальную хроматическую оберрацию и повышает разрешающую способность электронно-оптической системы. 1 ил.
Description
Изобретение относится к области электроники, а именно к способам получения электронного пучка.
Известен способ получения электронного пучка путем термоэлектронной эмиссии. (Черняев В.Н. Технология производства интегральных микросхем и микропроцессоров: Учебник для вузов - 2-е изд., перераб. и доп. - М., Радио и связь, 1987 г., - 484 стр.: ил. стр. 248, рис. 11.1б).
Наиболее близким по технической сущности и достигаемому результату является способ получения электронного луча путем облучения катода электромагнитным излучением (Черняев В.Н. Технология производства интегральных микросхем и микропроцессоров: Учебник для вузов - 2-е изд., перераб. и доп. -М., Радио и связь, 1987 г., -484 стр.: ил. стр. 248, рис. 11. la).
Недостатком вышеописанных способов является наличие хроматической аберрации, которая ограничивает разрешающую способность электронно-оптической системы.
Изобретение направлено на решение следующей технической задачи: добиться минимальной хроматической аберрации при увеличении разрешающей способности реальной оптической системы.
Поставленная задача достигается тем, что в способе получения электронного луча путем облучения катода электромагнитным излучением катод облучают лазерным лучом, а полученный электронный луч пропускают через одну магнитную линзу, полюса которой располагают по направлению движения электронов, две монополярные конденсаторные линзы и две диполярные, причем первую от катода монополярную конденсаторную линзу заряжают положительно, а вторую - отрицательно, первую и вторую диполярные линзы устанавливают во взаимно перпендикулярных направлениях с возможностью механической коррекции их взаимного расположения. Это позволяет получать электронный луч с электронами практически одинаковых кинетических энергий и импульсов, что и обеспечивает минимальную хроматическую аберрацию и повышает разрешающую способность электронно-оптической системы.
Изобретение поясняется чертежом, где представлена схема электронно-оптической системы, реализующей предлагаемый способ получения электронного луча.
Электронно-оптическая система содержит вакуумный объем 1, катод 2, анод 3, источник лазерного излучения 4. Катод 2, анод 3 и источник лазерного излучения 4 расположены в вакуумном объеме 1. Внутри вакуумного объема 1 расположена магнитная линза 5, полюса 6 и 7 которой расположены вдоль тракта движения электронов 8. После магнитной линзы 5 по тракту движения электронов 8 расположены две монополярные конденсаторные линзы 9 и 10, причем линза 9 заряжена положительно, а линза 10 - отрицательно. После монополярных линз 9 и 10 по тракту движения электронов 8 расположены две диполярные линзы 11 и 12, установленные во взаимно перпендикулярных направлениях с возможностью механической коррекции их взаимного расположения посредством двухкоординатной системы корректировки 13.
Способ реализуется следующим образом.
На катод 2 подают луч лазера от источника излучения 4, который обладает высокой когерентностью. Образованный за счет фотоэффекта луч пропускают через магнитную линзу 5, две монополярные конденсаторные линзы 9, 10 и две диполярные линзы 11 и 12.
При движении электронов в магнитном поле линзы 5 строго параллельно силовым магнитным линиям сила Лоренца на них не действует, а будет действовать лишь на те электроны, которые имеют отклонение от параллельного движения вдоль силовых магнитных линий. Эти "неправильные электроны" будут удаляться из электронного луча 8. При движении электронного луча 8 через монополярную конденсаторную линзу 9 электроны ускоряются, а при движении электронного луча 8 через монополярную конденсаторную линзу 10 образуется узконаправленный пучок, отклонение которого осуществляется посредством диполярных линз 11, 12 и двухкоординатной системой корректировки 13.
Применение предложенного способа получения электронного луча обеспечивает снижение хроматической аберрации электронного луча за счет использования лазерного источника излучения и особым образом расположенных монополярных и диполярных конденсаторных линз. При этом данный способ позволяет существенно повысить разрешающую способность всей электронно-оптической системы.
Claims (1)
- Способ получения электронного луча путем облучения катода электромагнитным излучением, отличающийся тем, что катод облучают лазерным лучом, а полученный электронный луч пропускают через одну магнитную линзу, полюса которой располагают по направлению движения электронов, две монополярные конденсаторные линзы и две диполярные, причем первую от катода монополярную конденсаторную линзу заряжают положительно, а вторую - отрицательно, первую и вторую диполярные линзы устанавливают во взаимно перпендикулярных направлениях с возможностью механической коррекции их взаимного расположения.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2000109349/09A RU2208262C2 (ru) | 2000-04-14 | 2000-04-14 | Способ получения электронного луча |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2000109349/09A RU2208262C2 (ru) | 2000-04-14 | 2000-04-14 | Способ получения электронного луча |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2000109349A RU2000109349A (ru) | 2002-02-27 |
RU2208262C2 true RU2208262C2 (ru) | 2003-07-10 |
Family
ID=29208982
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2000109349/09A RU2208262C2 (ru) | 2000-04-14 | 2000-04-14 | Способ получения электронного луча |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2208262C2 (ru) |
-
2000
- 2000-04-14 RU RU2000109349/09A patent/RU2208262C2/ru not_active IP Right Cessation
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
ЧЕРНЯЕВ В.Н. Технология производства интегральных микросхем и микропроцессов, Учебник для вузов - 2-е изд. - М.: Радио и связь, 1987, с. 484. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4661712A (en) | Apparatus for scanning a high current ion beam with a constant angle of incidence | |
US5729028A (en) | Ion accelerator for use in ion implanter | |
JPS6213789B2 (ru) | ||
JP6341680B2 (ja) | 集束イオン・ビームの低kV強化 | |
EP1429587A8 (en) | X-ray generator | |
US4254340A (en) | High current ion implanter | |
CN108807118B (zh) | 一种扫描电子显微镜系统及样品探测方法 | |
KR101439208B1 (ko) | X선관 튜브 구조 | |
US9355818B2 (en) | Reflection electron beam projection lithography using an ExB separator | |
US5045705A (en) | Charged particle beam apparatus with charge-up compensation | |
SE7904360L (sv) | Svepsystem for laddade och neutrala partikelstralar | |
JP6453756B2 (ja) | イオンビーム処理装置 | |
JP2006351312A (ja) | イオン注入装置 | |
US9230789B2 (en) | Printed circuit board multipole for ion focusing | |
RU2208262C2 (ru) | Способ получения электронного луча | |
US4918358A (en) | Apparatus using charged-particle beam | |
US3577026A (en) | Method for producing ions utilizing a charge-transfer collision | |
US4020387A (en) | Field emission electron gun | |
CN110556280B (zh) | 等离子体产生装置和离子注入设备 | |
CN210535623U (zh) | X射线源和x射线成像设备 | |
CN108024439A (zh) | 一种离子rf加速结构及应用该结构的离子注入机 | |
US3925664A (en) | Field emission electron gun | |
JPH02112140A (ja) | 低速イオン銃 | |
JPS6297241A (ja) | X線発生装置 | |
RU2002105838A (ru) | Устройство для электронно-лучевой сварки |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20060415 |