RU2193462C1 - Устройство для ультразвуковой очистки пластин - Google Patents

Устройство для ультразвуковой очистки пластин Download PDF

Info

Publication number
RU2193462C1
RU2193462C1 RU2001119707A RU2001119707A RU2193462C1 RU 2193462 C1 RU2193462 C1 RU 2193462C1 RU 2001119707 A RU2001119707 A RU 2001119707A RU 2001119707 A RU2001119707 A RU 2001119707A RU 2193462 C1 RU2193462 C1 RU 2193462C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
plates
cleaning
tetrahedron
ultrasonic
plate
Prior art date
Application number
RU2001119707A
Other languages
English (en)
Inventor
В.Н. Комаров
Р.В. Комаров
А.Ф. Малахов
А.А. Завалишин
Original Assignee
Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения" filed Critical Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения"
Priority to RU2001119707A priority Critical patent/RU2193462C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2193462C1 publication Critical patent/RU2193462C1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

Изобретение относится к технике ультразвуковой очистки изделий и может быть использовано в производстве полупроводниковых приборов на операциях очистки полупроводниковых пластин с помощью ультразвука, а также мегазвука. Устройство содержит ванну для очистки моющим раствором, ультразвуковой излучатель, установленный на дне ванны, кассету с пластинами и механизм перемещения пластин, выполненный в виде вала, имеющего в сечении форму четырехгранника, кинематически связанного с приводом вращения и установленного в передней и задней стойках механизма перемещения вне зоны действия излучателя. На одном из ребер четырехгранника выполнен продольный паз, в котором установлена эластичная пластина, выполненная из стойкого к моющему раствору материала, а сам четырехгранник выполнен из фторопласта. Устройство обеспечивает повышение равномерности и качества очистки пластин, расширение технологических возможностей и упрощение конструкции. 4 ил.

Description

Изобретение относится к технике ультразвуковой очистки изделий и может быть использовано в производстве полупроводниковых приборов на операциях очистки полупроводниковых пластин с помощью ультразвука, а также мегазвука.
Широко известны способы и устройства для ультразвуковой (УЗ) очистки изделий [1, 2], в которых ультразвуковой преобразователь установлен на дне ванны. УЗ-колебания от преобразователя передаются жидкости, в результате чего происходит отмывка изделий. Однако, поскольку пластины находятся в разных условиях отмывки вследствие неравномерности распределения УЗ-поля, известные устройства не обеспечивают равномерную очистку поверхности пластин. Применение рефлектора [2] с неровной отражающей поверхностью, наклоненной под определенным углом к источнику УЗ-колебаний, усложняет конструкцию и не обеспечивает качество отмывки из-за использования ослабленных отраженных УЗ-волн.
Известно также ультразвуковое чистящее устройство [3] для чистки в статических условиях, содержащее резервуар, в котором находятся моющий раствор и подлежащие чистке полупроводниковые пластины, устанавливаемые вертикально в держателе параллельно одна другой, при этом каждая пластина отделена от соседней зазором определенной ширины. В нижней стенке держателя имеется отверстие, вытянутое на всю длину ряда установленных пластин, причем ширина этого отверстия меньше диаметра пластин, в результате чего только центральная часть последних находится непосредственно над отверстием. На дне резервуара под держателем расположена линза, одна поверхность которой открыта наружу в полость резервуара, а другая, выполненная плоской, обращена вниз. На плоской поверхности закреплен преобразователь, соединенный с генератором УЗ-колебаний. Поток УЗ-энергии, излучаемой преобразователем, расходящимся пучком направлен снизу вверх в направлении продольного отверстия в дне держателя, в результате чего достигается воздействие энергии на обе стороны каждой пластины, в том числе тех участков, которые расположены непосредственно над отверстием, что обеспечивает чистку неподвижных пластин.
Однако вследствие расфокусирования пучка УЗ-энергии снижается эффективность очистки пластин и не обеспечивается равномерная очистка пластин вследствие того, что поверхности пластины находятся в разных условиях очистки. Все это не обеспечивает хорошее качество процесса очистки.
Эта задача частично решается в устройстве для ультразвуковой обработки пластин [4] за счет возвратно-поступательного перемещения излучателя. Упомянутое выше устройство для обработки поверхностей полупроводниковых пластин содержит открытый сверху контейнер с рабочей жидкостью, куда погружают кассету с несколькими пластинами, установленными вертикально. Кассета с пластинами полностью погружена в жидкость. В нижней части контейнера расположен держатель с ультразвуковым преобразователем, формирующим ультразвуковой луч, направленный вверх по вертикальной плоскости пластины. Этот держатель в процессе обработки перемещают поперек контейнера параллельно поверхностям пластин, вследствие чего ультразвуковой луч обрабатывает поверхности пластин по всей их площади. Хотя излучатель и совершает возвратно-поступательное перемещение, озвучивая всю поверхность пластин, этому устройству также присуща неравномерность обработки пластин, обусловленная неравномерностью распределения ультразвуковой энергии по вертикали пластины.
Из известных наиболее близким по технической сущности является устройство для отмывки полупроводниковых пластин [5]. Устройство содержит ванну с моющим раствором, куда помещают кассету с пластинами, УЗ-преобразователь, установленный на дне ванны, механизм перемещения пластин, выполненный в виде ленточного привода. Недостаток известного устройства заключается в сложности аппаратурной реализации его, так как ленточный привод позволяет вращать только одну пластину. Для одновременного вращения всех пластин в кассете необходима широкая лента и соответствующий привод, который перекрывал бы зону действия ультразвуковых колебаний. При этом привод установлен и в рабочей ванне, и вне ее и он попеременно то входит в рабочую ванну, то выходит из нее, что требует дополнительных уплотняющих средств в стенке ванны и приводит к загрязнению моющего раствора. А это сказывается на качестве отмывки пластин, Кроме того, конструкция привода не позволяет получить вращение пластин с базовым срезом. Базовый срез упирается при этом в стенку кассеты и затормаживается. То есть это устройство имеет ограниченное применение и для массового производства непригодно.
Предложенное устройство позволяет устранить указанные недостатки и получить технический результат, выражающийся в повышении равномерности и качества очистки пластин, расширении технологических возможностей и упрощении конструкции.
Технический результат достигается тем, что механизм перемещения пластин выполнен в виде вала, имеющего в сечении форму четырехгранника, кинематически связанного с приводом вращения и установленного в передней и задней стойке механизма перемещения вне зоны действия мегазвуковых колебаний, при этом на одной из ребер четырехгранника выполнен продольный паз, в котором установлена эластичная пластина, выполненная из стойкого к моющему раствору материала, а сам четырехгранник выполнен из фторопласта.
Выполнение механизма перемещения в виде вала, имеющего в сечении форму четырехгранника, обеспечивает возвратно-поступательное перемещение пластин в вертикальной плоскости с одновременным вращением ее, что в совокупности с использованием ультразвука на частоте f≈l МГц (мегазвука) обеспечивает интенсификацию процесса, а также равномерность и качество очистки пластин. Кроме того, такое выполнение механизма перемещения не требует дополнительного второго привода, что упрощает конструкцию.
При повороте пластины наблюдается застревание ее в кассете. Эффект застревания пластин с базовым срезом устраняется благодаря действию на пластину одновременно двух перемещений (возвратно-поступательного и вращательного) за счет выполнения четырехгранного вала с эластичной пластиной на одной из граней. Это по сравнению с прототипом, предусматривающим обработку только круглых пластин, расширяет технологические возможности устройства. А выполнение эластичной пластины из стойкого к моющему раствору материала и четырехгранника из фторопласта исключает нарушение обрабатываемой пластины и исключает попадание загрязнений в рабочий объем.
Механизм перемещения, кинематически связанный с приводом вращения посредством промежуточных шестерен и установленный в его передней и задней стойках, образует в устройстве автономный блок с возможностью его демонтажа, что упрощает обслуживание его и устройства в целом по сравнению с ленточным приводом. Кроме прочего, размещение четырехгранника вне зоны действия излучателя, установленного на дне ванны по центру, исключает перекрытие ультразвуковых волн, что сказывается на равномерности распределения и воздействии их на пластины.
Таким образом, предложенная совокупность признаков является новой, обеспечивает положительный эффект, указанный в цели изобретения, и не вытекает очевидным образом из известного уровня техники.
Следовательно, она соответствует критерию "изобретательский уровень".
Сущность изобретения поясняется чертежами, где схематично изображены:
на фиг.1 - ванна для очистки пластин;
на фиг.2 - ванна для очистки пластин, вид сверху;
на фиг.3 - привод вращения механизма перемещения пластин;
на фиг.4 - схема распределения УЗ-энергии на частоте f≈1 МГц (мегазвука) по пластине.
Предлагаемое устройство для УЗ-очистки пластин (фиг.1-4) содержит ванну 1 с рабочей жидкостью, кассету 2 с пластинами 3, мегазвуковой излучатель 4. Пьезокерамический излучатель 4 приклеивают эпоксидной смолой к кварцевому стеклу 5, к которому в свою очередь приклеивают металлическую рамку 6. Весь блок в составе излучателя 4, стекла 5, рамки 6 прикрепляют ко дну ванны 1 с помощью винтов 7 через уплотнение 8.
Для предохранения пьезокерамического излучателя 4 от перегрева на излучатель подают поток азота через штуцер 9. Крышка 10, уплотнение 11 служат для защиты пьезокерамического излучателя от вредных паров. Для установки кассет 2 с пластинами 3 служат стойки поперечные 12. Перемещение пластин осуществляется с помощью механизма перемещения, выполненного в виде вала 13, имеющего форму четырехгранника и установленного с возможностью вращения в посадочных местах передней 14 и задней 15 стенок механизма перемещения (фиг. 2), стягиваемых с помощью планок 16.
Четырехгранный вал 13 (фиг.1, 2, 3) через ведущую шестерню 17, промежуточную шестерню 18, установленную на оси 19, взаимодействует с электродвигателем через ведущий вал 20.
На одном из ребер четырехгранника 13 выполнен продольный паз, в котором установлена эластичная пластина 21, выполненная из стойкого к рабочей жидкости материала (например, полиуретана), высотой h≈1,5 мм с коэффициентом трения, обеспечивающим преодоление сил трения базового среза пластины и стенки кассеты, что исключает застревание пластин в кассете при их вращении. Четырехгранник 13 выполнен из фторопласта.
Механизм перемещения автономно установлен вне зоны действия излучателя с возможностью демонтажа, что упрощает конструкцию устройства в целом, а также упрощает обслуживание его.
Устройство работает следующим образом. Кассету 2 с пластинами 3 (фиг.1, 2) помещают в ванну 1 и устанавливают на стойки 12. При этом пластины 3 опираются на вал 13 и приподнимаются над опорной площадкой (фиг.1). Включают генератор (не показан), и на пьезокерамический излучатель подается напряжение. Излучатель начинает работать. Волны УЗ-энергии на частоте f≈1 МГц (мегазвук) направляются вдоль поверхности полупроводниковых пластин. Высокочастотные волны периодически ударяют частицы, находящиеся на поверхности пластин. Жидкость при этом пробивается между частицами и поверхностью пластин пока частицы не оторвутся от поверхности и не попадут в раствор во взвешенном состоянии. Все 100% энергии пьезокерамического излучателя направляются на поверхность пластин в одном направлении в отличие от известных. График распределения этого излучения представлен на фиг.4, из которого видно, что мегазвуковое излучение имеет вид направленного пучка энергии небольшой ширины.
Для равномерной обработки пластин 3 включают электродвигатель (не показан) вращения ведущего вала 20, который через промежуточную шестерню 18, шестерню 17 вращает четырехгранный вал 13. Вал 13 начинает взаимодействовать с пластинами 3, которые совершают одновременно возвратно-поступательное перемещение в вертикальной плоскости и вращательное движение. Когда базовый срез 22 пластины 3 (фиг.4) упирается в стенку кассеты 2 и препятствует вращению пластин, эффективно проявляется действие эластичной пластины 21, которая заставляет пластину 3 преодолеть препятствие в виде базового среза 22 за счет повышенных сил трения между торцом обрабатываемой пластиной и эластичной пластиной. Пластину 3 диаметром 150 мм вращают со скоростью 1 об/мин в течение 10 мин. Этого достаточно для озвучивания всей поверхности пластины. Так как пластина 3 совершает одновременно возвратно-поступательное и вращательное перемещение, то обеспечивается интенсификация процесса при сравнительно небольших затратах мощности и повышается эффективность взаимодействия мегазвукового поля с пластинами. Это позволяет повысить качество очистки пластин. Устройство позволяет осуществлять мегазвуковую очистку пластин не только одной кассеты, но и двух (фиг.2).
На предприятии разработано устройство для ультразвуковой очистки пластин диаметром 150 мм (модуль химической очистки SC1 с мегазвуком, ЩЦМ 3.240.014), используемое в линии химической очистки пластин ("Лада-150").
Источники информации
1. Заявка Японии 60-36099, кл. H 01 L 21/304, опубл. 1985 г.
2. Заявка Японии 61-194727, кл. H 01 L 21/304, опубл. 1987 г.
3. Патент США 869278, кл. В 08 В 3/10, опубл. 1989 г.
4. РСТ 89/11730, кл. H 01 L 21/00, опубл. 1989 г.
5. Заявка Японии 61-220434, кл. H 01 L 21/304, опубл. 1986 г. (прототип).

Claims (1)

  1. Устройство для ультразвуковой очистки пластин, содержащее ванну для очистки моющим раствором, ультразвуковой излучатель, установленный на дне ванны, кассету с пластинами и механизм перемещения пластин, отличающееся тем, что механизм перемещения пластин выполнен в виде вала, имеющего в сечении форму четырехгранника, кинематически связанного с приводом вращения и установленного в передней и задней стойках механизма перемещения вне зоны действия излучателя, при этом на одном из ребер четырехгранника выполнен продольный паз, в котором установлена эластичная пластина, выполненная из стойкого к моющему раствору материала, а сам четырехгранник выполнен из фторопласта.
RU2001119707A 2001-07-16 2001-07-16 Устройство для ультразвуковой очистки пластин RU2193462C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2001119707A RU2193462C1 (ru) 2001-07-16 2001-07-16 Устройство для ультразвуковой очистки пластин

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2001119707A RU2193462C1 (ru) 2001-07-16 2001-07-16 Устройство для ультразвуковой очистки пластин

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2193462C1 true RU2193462C1 (ru) 2002-11-27

Family

ID=20251746

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2001119707A RU2193462C1 (ru) 2001-07-16 2001-07-16 Устройство для ультразвуковой очистки пластин

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2193462C1 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2743936C1 (ru) * 2020-06-09 2021-03-01 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Омский государственный технический университет"(ОмГТУ) Способ моделирования процесса очистки поверхности и устройство для его реализации
RU220014U1 (ru) * 2023-05-11 2023-08-21 Вадим Игоревич Зайков Устройство ультразвуковой очистки

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2743936C1 (ru) * 2020-06-09 2021-03-01 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Омский государственный технический университет"(ОмГТУ) Способ моделирования процесса очистки поверхности и устройство для его реализации
RU220014U1 (ru) * 2023-05-11 2023-08-21 Вадим Игоревич Зайков Устройство ультразвуковой очистки

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5427622A (en) Method for uniform cleaning of wafers using megasonic energy
KR101333288B1 (ko) 디스크상 기판의 습식처리 장치 및 방법
US6412499B1 (en) Continuous cleaning megasonic tank with reduced duty cycle transducers
WO2000028578A2 (en) Improved megasonic cleaner
US6220259B1 (en) Tank design for sonic wafer cleaning
US7040332B2 (en) Method and apparatus for megasonic cleaning with reflected acoustic waves
US20020096578A1 (en) Megasonic cleaning device and process
CN112893302A (zh) 一种电子半导体加工用清洗装置
US6460551B1 (en) Megasonic resonator for disk cleaning and method for use thereof
RU2193462C1 (ru) Устройство для ультразвуковой очистки пластин
JPH0795540B2 (ja) 超音波洗浄スプレイノズルを用いた基板両面の洗浄方法及び洗浄装置
JPH049670A (ja) 分析装置
KR20050100405A (ko) 패터닝된 기판의 메가소닉 세정을 위한 방법 및 장치
JP2011031156A (ja) 洗浄装置
US20040250843A1 (en) Ultrasonic cleaning system for cleaning a plurality of parallel extending, strand like products, such as example wires, profiles and pipes
KR101043482B1 (ko) 웨이퍼 세정장치
JPH10137710A (ja) 洗浄処理装置および洗浄処理方法
JP2518971B2 (ja) 表面洗浄装置
JP3394508B2 (ja) 筒形フィルタ用超音波洗浄装置
KR0179134B1 (ko) 초음파 세척기
RU2243038C2 (ru) Способ и устройство для мегазвуковой очистки подложек
JP2002086068A (ja) 超音波振動ユニット、超音波洗浄装置、および超音波洗浄方法
JPH07328572A (ja) 超音波洗浄方法及び装置
JPH08299928A (ja) 基板の表面処理用超音波発生装置
KR100741029B1 (ko) 메가소닉 에너지 발생장치

Legal Events

Date Code Title Description
QB4A License on use of patent

Effective date: 20090918

MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20140717