RU215917U1 - Полупроводниковый фотоэлектрический преобразователь - Google Patents
Полупроводниковый фотоэлектрический преобразователь Download PDFInfo
- Publication number
- RU215917U1 RU215917U1 RU2022127342U RU2022127342U RU215917U1 RU 215917 U1 RU215917 U1 RU 215917U1 RU 2022127342 U RU2022127342 U RU 2022127342U RU 2022127342 U RU2022127342 U RU 2022127342U RU 215917 U1 RU215917 U1 RU 215917U1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- type conductivity
- current
- vertical
- silicon wafer
- channels
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 16
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 20
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 claims abstract description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- 229920002068 Fluorinated ethylene propylene Polymers 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminum Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 2
- 230000001815 facial Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
Images
Abstract
Полезная модель относится к полупроводниковой технологии и предназначена для эффективного преобразования солнечной энергии в электрическую. Важнейшей задачей при конструировании любых ФЭП является повышение эффективности преобразования солнечной энергии в электрическую. Техническим результатом полезной модели является повышение эффективности преобразования солнечной энергии в электрическую. Технический результат достигается за счёт того, что полупроводниковый фотоэлектрический преобразователь содержит кремниевую пластину с вертикальными p-n-переходами и токосъёмные контакты, причем кремниевая пластина имеет n-тип проводимости, в объёме которой выполнена система соединённых между собой вертикальных сквозных эпитаксиальных каналов p-типа проводимости, на границах которых расположены p-n-переходы, ширина каналов и расстояние между ними находятся в диапазоне от одной до двух диффузионных длин неравновесных носителей тока в соответствующих областях, n-области соединены n +-слоем на тыльной стороне пластины, токосъёмные контакты к р-области и n +-слою расположены также на тыльной стороне.
Description
Полезная модель относится к полупроводниковой технологии и предназначена для эффективного преобразования солнечной энергии в электрическую.
Известен фотоэлектрический преобразователь (ФЭП) З и С (Физика полупроводниковых приборов, Кн. 2., М.: Мир, 1984, стр. 400), который содержит полупроводниковую пластину с плоским, горизонтальным p-n-переходом, расположенным вблизи лицевой поверхности пластины. Свет падает на лицевую поверхность и генерирует в полупроводнике электронно-дырочные пары, которые разделяются электрическим полем p-n-перехода и выводятся с помощью контактов. Один из этих контактов находится на тыльной поверхности пластины, а другой - в виде гребенки на лицевой поверхности. Такие ФЭПы широко используются для преобразования солнечной энергии как на Земле, так и в космосе.
К недостаткам данного ФЭПа-аналога относятся:
наличие лицевого контакта, затеняющего часть (10-15%) лицевой поверхности;
сложность оптимизации толщины полупроводника, необходимой для полного поглощения активного света (энергия фотонов которого больше ширины запрещенной зона полупроводника) и диффузионной длины неосновных носителей тока, определяющей эффективность разделения носителей тока p-n-переходом. Указанные недостатки ограничивают эффективность преобразования солнечной энергии (~14%).
В качестве прототипа выбран ФЭП Frank R. I., Goodrich J. L., Kaplow R. A Low Series Resistance Silicon Photovoltaic Cell for High Intensity Applications, Conf. Rec. 14th IEEE Photovoltaic Spec. Conf., IEEE, N.Y., 1980, p. 1350, состоящий из полупроводниковой кремниевой пластины с вертикальными p-n-переходами, образованными на границах канавок, перпендикулярных поверхности пластины и проникающих в нее на глубину до 80% ее толщины, и токосъемных контактов на торцевой поверхности пластины.
Важное достоинство этого ФЭП - возможность оптимизации поглощения света и разделения носителей тока p-n-переходом. Это достигается независимым управлением глубины поглощения света (выбором толщины пластины) и заданием оптимального расстояния (не более двух диффузионных длин неосновных носителей тока) между вертикальными p-n-переходами вблизи канавок в полупроводниковой пластине.
К недостаткам этого прототипа ФЭП относятся снижение эффективности ФЭП из-за потери активной площади ФЭП, так как площадь, занятая канавками на пластине, не используется для преобразования световой энергии.
Важнейшей задачей при конструировании любых ФЭП является повышение эффективности преобразования солнечной энергии в электрическую.
Техническим результатом полезной модели является повышение эффективности преобразования солнечной энергии в электрическую.
Технический результат достигается за счет того, что полупроводниковый фотоэлектрический преобразователь содержит кремниевую пластину с вертикальными p-n-переходами и токосъемные контакты, причем кремниевая пластина имеет n-тип проводимости, в объеме которой выполнена система соединенных между собой вертикальных сквозных эпитаксиальных каналов p-типа проводимости, на границах которых расположены p-n-переходы, ширина каналов и расстояние между ними находятся в диапазоне от одной до двух диффузионных длин неравновесных носителей тока в соответствующих областях, «-области соединены n +-слоем на тыльной стороне пластины, токосъемные контакты к р-области и n +-слою расположены также на тыльной стороне.
Повышение эффективности преобразования ФЭПом солнечной энергии в электрическую достигается наличием сквозных вертикальных p-n-переходов, наличием фотоактивности всего объема пластины и заданием определенных размеров ширины каналов p-типа и расстояний между ними.
Использование вертикальных сквозных p-n-переходов увеличивает разделение носителей тока по сравнению с p-n-переходами, проникающими только на часть толщины пластины, как в прототипе. Вертикальные сквозные эпитаксиальные каналы p-типа проводимости фотоактивны, поэтому весь объем полупроводниковой пластины участвует в преобразовании световой энергии в электрическую. Максимальная эффективность разделения носителей тока, генерированных светом, вертикальными сквозными p-n-переходами достигается, когда ширина каналов р-типов проводимости и расстояние между ними не превышают двух диффузионных длин неравновесных носителей тока в n- и p-областях. Однако, ширину каналов p-типа проводимости и расстояние между ними менее одной диффузионной длины неравновесных носителей тока n- и p-областях задавать нецелесообразно, из-за усложнения технологии изготовления ФЭП. Поэтому оптимальные расстояния между вертикальными p-n-переходами структуры (ширина каналов р-типов проводимости и расстояние между ними) должны находиться в диапазоне от одной до двух диффузионных длин неравновесных носителей тока в р- и n-областях.
На фиг. 1 представлена схема ФЭП с лицевой стороны;
На фиг. 2 представлена схема поперечного сечения ФЭП по А-А,
где 1 - кремниевая пластина n-типа проводимости;
2 - вертикальные сквозные эпитаксиальные каналы р-типа проводимости шириной d 1 и расстояния между ними d 2;
3 - n +-слой;
4 - токосъемный контакт к n +-слою 3;
5 - токосъемный контакт к эпитаксиальным каналам р-типа проводимости 2;
6 - сквозные вертикальные p-n-переходы.
Полупроводниковый фотоэлектрический преобразователь содержит кремниевую пластину n-типа проводимости 1 и систему соединенных между собой вертикальных сквозных эпитаксиальных каналов р-типа проводимости 2. Ширина d 1 каналов 2 и расстояние между ними d 2 находятся в диапазоне от одной до двух диффузионных длин неравновесных носителей тока в соответствующих областях. На поперечном сечении ФЭП представлен n +-слой 3, соединяющих «-области между каналами р-типа 2, токосъемный контакт 4 к n +-слою 3, токосъемный контакт 5 к эпитаксиальным каналам р-типа проводимости 2 и сквозные вертикальные p-n-переходы 6.
Возможность осуществления полезной модели показана на следующем примере.
На поверхности кремниевой пластины n-типа проводимости 1 с помощью фотолитографии создают заданную конфигурацию слоя металла-растворителя алюминия в виде системы связанных между собой концентрических кольцевых или прямолинейных зон. Конфигурация зон может быть и иной. Затем, при нагревании, кремниевой пластины 1 с зонами в вакууме или защитном газе образуется система жидких включений раствора-расплава заданной конфигурации, которая под действием градиента температуры мигрирует перпендикулярно поверхности кремниевой пластины 1 вплоть до выхода на ее тыльную поверхность, где остатки зон удаляются. В результате локальной перекристаллизации кремниевой пластины 1 образуются кристаллически совершенные вертикальные сквозные эпитаксиальные каналы р-типа проводимости 2 заданной конфигурации. Неперекристаллизованные термомиграцией области исходной кремниевой пластины n-типа проводимости 1, находящиеся между вертикальными сквозными эпитаксиальными каналами р--типа проводимости 2, объединяются между собой сплошным n +-слоем 3 на тыльной поверхности пластины. Такой n +-слой 3 формируется после процесса термомиграции стандартной диффузией.
Токосъемные контакты 4 и 5 к ФЭПу осуществляют на тыльной поверхности пластины: один к n+-слою 3 - «минус», а другой к эпитаксиальным каналам р-типа проводимости 2 - «плюс».
Для примера, рассмотрим предлагаемый ФЭП на основе пластины кремния марки КСЭ n-типа проводимости с удельным сопротивлением 10 Ом⋅см, в которой с помощью заданной конфигурации зон на основе алюминия формируют систему соединенных между собой вертикальных сквозных эпитаксиальных каналов р-типа проводимости с удельным сопротивлением 0,04-0,05 Ом⋅см. Диффузионная длина дырок в исходной кремниевой пластине n-типа проводимости ~ 250 мкм, а в каналах р-типа проводимости - диффузионная длина электронов ~ 20 мкм.
Для обеспечения почти полного (95%) поглощения активного света с энергией фотонов больших 1,12 эВ толщина пластины кремния должна быть 0,5 мм. Исходную толщину пластины кремния n-типа проводимости надо выбрать большей (~ 0,6 мм), так как после процесса термомиграции требуется механическая и химическая обработка пластины с обеих сторон, приводящая к утонению пластины.
Предложенный полупроводниковый фотоэлектрический
преобразователь работает следующим образом.
Падающий на лицевую поверхность ФЭПа свет поглощается и генерирует электронно-дырочные пары как в «-областях пластины 1, так и в p-областях 2. Неравновесные носители тока эффективно разделяются электрическим полем вертикальных p-n-переходов при условии, что ширина вертикальных сквозных эпитаксиальных каналов р-типа проводимости 2 - d 1 не превышает 40 мкм, а расстояние между ними, т.е. ширина областей n-типа проводимости - d2, не превышает 500 мкм. Вертикальные сквозные эпитаксиальные каналы р-типа проводимости 2 состоят из кольцевых каналов и соединяющих их прямолинейных участков. Количество прямолинейных участков определяется исходя из равномерного распределения фототока в объеме ФЭПа.
Таким образом, ФЭП обеспечивает эффективное разделение носителей тока вертикальными сквозными p-n-переходами, причем все p- и n-области ФЭПа являются фотоактивными, а токосъем происходит с контактов 4 и 5 на тыльной стороне ФЭПа, не затеняющих лицевую сторону. В итоге, кремниевый фотоэлектрический преобразователь позволяет достигнуть эффективности преобразования солнечной энергии в электрическую не менее 20%.
Claims (1)
- Полупроводниковый фотоэлектрический преобразователь, содержащий кремниевую пластину с вертикальными p-n-переходами и токосъёмные контакты, отличающийся тем, что кремниевая пластина имеет n-тип проводимости, в объёме которой выполнена система соединённых между собой вертикальных сквозных эпитаксиальных каналов p-типа проводимости, на границах которых расположены p-n-переходы, ширина каналов и расстояние между ними находятся в диапазоне от одной до двух диффузионных длин неравновесных носителей тока в соответствующих областях, n-области соединены n + -слоем на тыльной стороне пластины, токосъёмные контакты к p-области и n + -слою расположены также на тыльной стороне.
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU215917U1 true RU215917U1 (ru) | 2023-01-10 |
Family
ID=
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2371811C1 (ru) * | 2008-05-06 | 2009-10-27 | Российская академия Сельскохозяйственных наук Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства (ГНУ ВИЭСХ) | Полупроводниковый фотоэлектрический генератор (варианты) и способ его изготовления (варианты) |
RU2605839C2 (ru) * | 2015-03-03 | 2016-12-27 | Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по космической деятельности "РОСКОСМОС" (Госкорпорация "РОСКОСМОС") | Фотоэлектрический преобразователь |
TW202018989A (zh) * | 2018-07-26 | 2020-05-16 | 日商索尼股份有限公司 | 光電轉換元件 |
JP2021077848A (ja) * | 2019-11-08 | 2021-05-20 | ツィンファ ユニバーシティ | 太陽電池 |
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2371811C1 (ru) * | 2008-05-06 | 2009-10-27 | Российская академия Сельскохозяйственных наук Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства (ГНУ ВИЭСХ) | Полупроводниковый фотоэлектрический генератор (варианты) и способ его изготовления (варианты) |
RU2605839C2 (ru) * | 2015-03-03 | 2016-12-27 | Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по космической деятельности "РОСКОСМОС" (Госкорпорация "РОСКОСМОС") | Фотоэлектрический преобразователь |
TW202018989A (zh) * | 2018-07-26 | 2020-05-16 | 日商索尼股份有限公司 | 光電轉換元件 |
JP2021077848A (ja) * | 2019-11-08 | 2021-05-20 | ツィンファ ユニバーシティ | 太陽電池 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5897715A (en) | Interdigitated photovoltaic power conversion device | |
US4341918A (en) | High voltage planar multijunction solar cell | |
US4110122A (en) | High-intensity, solid-state-solar cell device | |
KR101052030B1 (ko) | 전자기 방사 컨버터 | |
CA1073996A (en) | Photovoltaic system including a lens structure | |
Sinton et al. | Silicon point contact concentrator solar cells | |
Swanson et al. | Point-contact silicon solar cells | |
US4283589A (en) | High-intensity, solid-state solar cell | |
CN101689571A (zh) | 太阳电池单元 | |
EP4411832A2 (en) | Solar cell and preparation method thereof, photovoltaic module, and photovoltaic system | |
Green et al. | 25-percent efficient low-resistivity silicon concentrator solar cells | |
Schwartz | Review of silicon solar cells for high concentrations | |
CN220543926U (zh) | 太阳能电池和光伏组件 | |
RU215917U1 (ru) | Полупроводниковый фотоэлектрический преобразователь | |
US4160678A (en) | Heterojunction solar cell | |
Lamers et al. | Towards 21% efficient n-Cz IBC based on screen printing | |
EP0159902A2 (en) | An inverted optically enhanced solar cell | |
JP2023033940A (ja) | 太陽電池セルおよび太陽電池 | |
KR101310518B1 (ko) | 태양전지 및 그 제조방법 | |
RU128396U1 (ru) | Фотоэлектрический преобразователь | |
Frank et al. | A low series resistance silicon photovoltaic cell for high intensity applications | |
Norskog et al. | A horizontal monolithic series‐array solar battery employing thermomigration | |
RU2410794C2 (ru) | Полупроводниковый фотопреобразователь и способ его изготовления | |
KR101685475B1 (ko) | 전자기 방사 변환기의 광-변환부(상이한 실시예들), 및 전자기 방사 변환기 | |
RU106443U1 (ru) | Полупроводниковая многопереходная структура |