RU215917U1 - Полупроводниковый фотоэлектрический преобразователь - Google Patents

Полупроводниковый фотоэлектрический преобразователь Download PDF

Info

Publication number
RU215917U1
RU215917U1 RU2022127342U RU2022127342U RU215917U1 RU 215917 U1 RU215917 U1 RU 215917U1 RU 2022127342 U RU2022127342 U RU 2022127342U RU 2022127342 U RU2022127342 U RU 2022127342U RU 215917 U1 RU215917 U1 RU 215917U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
type conductivity
current
vertical
silicon wafer
channels
Prior art date
Application number
RU2022127342U
Other languages
English (en)
Inventor
Виктор Павлович Попов
Борис Михайлович Середин
Александр Николаевич Заиченко
Игорь Викторович Гаврус
Original Assignee
федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Южно-Российский государственный политехнический университет (НПИ) имени М.И. Платова"
Filing date
Publication date
Application filed by федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Южно-Российский государственный политехнический университет (НПИ) имени М.И. Платова" filed Critical федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Южно-Российский государственный политехнический университет (НПИ) имени М.И. Платова"
Application granted granted Critical
Publication of RU215917U1 publication Critical patent/RU215917U1/ru

Links

Images

Abstract

Полезная модель относится к полупроводниковой технологии и предназначена для эффективного преобразования солнечной энергии в электрическую. Важнейшей задачей при конструировании любых ФЭП является повышение эффективности преобразования солнечной энергии в электрическую. Техническим результатом полезной модели является повышение эффективности преобразования солнечной энергии в электрическую. Технический результат достигается за счёт того, что полупроводниковый фотоэлектрический преобразователь содержит кремниевую пластину с вертикальными p-n-переходами и токосъёмные контакты, причем кремниевая пластина имеет n-тип проводимости, в объёме которой выполнена система соединённых между собой вертикальных сквозных эпитаксиальных каналов p-типа проводимости, на границах которых расположены p-n-переходы, ширина каналов и расстояние между ними находятся в диапазоне от одной до двух диффузионных длин неравновесных носителей тока в соответствующих областях, n-области соединены n +-слоем на тыльной стороне пластины, токосъёмные контакты к р-области и n +-слою расположены также на тыльной стороне.

Description

Полезная модель относится к полупроводниковой технологии и предназначена для эффективного преобразования солнечной энергии в электрическую.
Известен фотоэлектрический преобразователь (ФЭП) З и С (Физика полупроводниковых приборов, Кн. 2., М.: Мир, 1984, стр. 400), который содержит полупроводниковую пластину с плоским, горизонтальным p-n-переходом, расположенным вблизи лицевой поверхности пластины. Свет падает на лицевую поверхность и генерирует в полупроводнике электронно-дырочные пары, которые разделяются электрическим полем p-n-перехода и выводятся с помощью контактов. Один из этих контактов находится на тыльной поверхности пластины, а другой - в виде гребенки на лицевой поверхности. Такие ФЭПы широко используются для преобразования солнечной энергии как на Земле, так и в космосе.
К недостаткам данного ФЭПа-аналога относятся:
наличие лицевого контакта, затеняющего часть (10-15%) лицевой поверхности;
сложность оптимизации толщины полупроводника, необходимой для полного поглощения активного света (энергия фотонов которого больше ширины запрещенной зона полупроводника) и диффузионной длины неосновных носителей тока, определяющей эффективность разделения носителей тока p-n-переходом. Указанные недостатки ограничивают эффективность преобразования солнечной энергии (~14%).
В качестве прототипа выбран ФЭП Frank R. I., Goodrich J. L., Kaplow R. A Low Series Resistance Silicon Photovoltaic Cell for High Intensity Applications, Conf. Rec. 14th IEEE Photovoltaic Spec. Conf., IEEE, N.Y., 1980, p. 1350, состоящий из полупроводниковой кремниевой пластины с вертикальными p-n-переходами, образованными на границах канавок, перпендикулярных поверхности пластины и проникающих в нее на глубину до 80% ее толщины, и токосъемных контактов на торцевой поверхности пластины.
Важное достоинство этого ФЭП - возможность оптимизации поглощения света и разделения носителей тока p-n-переходом. Это достигается независимым управлением глубины поглощения света (выбором толщины пластины) и заданием оптимального расстояния (не более двух диффузионных длин неосновных носителей тока) между вертикальными p-n-переходами вблизи канавок в полупроводниковой пластине.
К недостаткам этого прототипа ФЭП относятся снижение эффективности ФЭП из-за потери активной площади ФЭП, так как площадь, занятая канавками на пластине, не используется для преобразования световой энергии.
Важнейшей задачей при конструировании любых ФЭП является повышение эффективности преобразования солнечной энергии в электрическую.
Техническим результатом полезной модели является повышение эффективности преобразования солнечной энергии в электрическую.
Технический результат достигается за счет того, что полупроводниковый фотоэлектрический преобразователь содержит кремниевую пластину с вертикальными p-n-переходами и токосъемные контакты, причем кремниевая пластина имеет n-тип проводимости, в объеме которой выполнена система соединенных между собой вертикальных сквозных эпитаксиальных каналов p-типа проводимости, на границах которых расположены p-n-переходы, ширина каналов и расстояние между ними находятся в диапазоне от одной до двух диффузионных длин неравновесных носителей тока в соответствующих областях, «-области соединены n +-слоем на тыльной стороне пластины, токосъемные контакты к р-области и n +-слою расположены также на тыльной стороне.
Повышение эффективности преобразования ФЭПом солнечной энергии в электрическую достигается наличием сквозных вертикальных p-n-переходов, наличием фотоактивности всего объема пластины и заданием определенных размеров ширины каналов p-типа и расстояний между ними.
Использование вертикальных сквозных p-n-переходов увеличивает разделение носителей тока по сравнению с p-n-переходами, проникающими только на часть толщины пластины, как в прототипе. Вертикальные сквозные эпитаксиальные каналы p-типа проводимости фотоактивны, поэтому весь объем полупроводниковой пластины участвует в преобразовании световой энергии в электрическую. Максимальная эффективность разделения носителей тока, генерированных светом, вертикальными сквозными p-n-переходами достигается, когда ширина каналов р-типов проводимости и расстояние между ними не превышают двух диффузионных длин неравновесных носителей тока в n- и p-областях. Однако, ширину каналов p-типа проводимости и расстояние между ними менее одной диффузионной длины неравновесных носителей тока n- и p-областях задавать нецелесообразно, из-за усложнения технологии изготовления ФЭП. Поэтому оптимальные расстояния между вертикальными p-n-переходами структуры (ширина каналов р-типов проводимости и расстояние между ними) должны находиться в диапазоне от одной до двух диффузионных длин неравновесных носителей тока в р- и n-областях.
На фиг. 1 представлена схема ФЭП с лицевой стороны;
На фиг. 2 представлена схема поперечного сечения ФЭП по А-А,
где 1 - кремниевая пластина n-типа проводимости;
2 - вертикальные сквозные эпитаксиальные каналы р-типа проводимости шириной d 1 и расстояния между ними d 2;
3 - n +-слой;
4 - токосъемный контакт к n +-слою 3;
5 - токосъемный контакт к эпитаксиальным каналам р-типа проводимости 2;
6 - сквозные вертикальные p-n-переходы.
Полупроводниковый фотоэлектрический преобразователь содержит кремниевую пластину n-типа проводимости 1 и систему соединенных между собой вертикальных сквозных эпитаксиальных каналов р-типа проводимости 2. Ширина d 1 каналов 2 и расстояние между ними d 2 находятся в диапазоне от одной до двух диффузионных длин неравновесных носителей тока в соответствующих областях. На поперечном сечении ФЭП представлен n +-слой 3, соединяющих «-области между каналами р-типа 2, токосъемный контакт 4 к n +-слою 3, токосъемный контакт 5 к эпитаксиальным каналам р-типа проводимости 2 и сквозные вертикальные p-n-переходы 6.
Возможность осуществления полезной модели показана на следующем примере.
На поверхности кремниевой пластины n-типа проводимости 1 с помощью фотолитографии создают заданную конфигурацию слоя металла-растворителя алюминия в виде системы связанных между собой концентрических кольцевых или прямолинейных зон. Конфигурация зон может быть и иной. Затем, при нагревании, кремниевой пластины 1 с зонами в вакууме или защитном газе образуется система жидких включений раствора-расплава заданной конфигурации, которая под действием градиента температуры мигрирует перпендикулярно поверхности кремниевой пластины 1 вплоть до выхода на ее тыльную поверхность, где остатки зон удаляются. В результате локальной перекристаллизации кремниевой пластины 1 образуются кристаллически совершенные вертикальные сквозные эпитаксиальные каналы р-типа проводимости 2 заданной конфигурации. Неперекристаллизованные термомиграцией области исходной кремниевой пластины n-типа проводимости 1, находящиеся между вертикальными сквозными эпитаксиальными каналами р--типа проводимости 2, объединяются между собой сплошным n +-слоем 3 на тыльной поверхности пластины. Такой n +-слой 3 формируется после процесса термомиграции стандартной диффузией.
Токосъемные контакты 4 и 5 к ФЭПу осуществляют на тыльной поверхности пластины: один к n+-слою 3 - «минус», а другой к эпитаксиальным каналам р-типа проводимости 2 - «плюс».
Для примера, рассмотрим предлагаемый ФЭП на основе пластины кремния марки КСЭ n-типа проводимости с удельным сопротивлением 10 Ом⋅см, в которой с помощью заданной конфигурации зон на основе алюминия формируют систему соединенных между собой вертикальных сквозных эпитаксиальных каналов р-типа проводимости с удельным сопротивлением 0,04-0,05 Ом⋅см. Диффузионная длина дырок в исходной кремниевой пластине n-типа проводимости ~ 250 мкм, а в каналах р-типа проводимости - диффузионная длина электронов ~ 20 мкм.
Для обеспечения почти полного (95%) поглощения активного света с энергией фотонов больших 1,12 эВ толщина пластины кремния должна быть 0,5 мм. Исходную толщину пластины кремния n-типа проводимости надо выбрать большей (~ 0,6 мм), так как после процесса термомиграции требуется механическая и химическая обработка пластины с обеих сторон, приводящая к утонению пластины.
Предложенный полупроводниковый фотоэлектрический
преобразователь работает следующим образом.
Падающий на лицевую поверхность ФЭПа свет поглощается и генерирует электронно-дырочные пары как в «-областях пластины 1, так и в p-областях 2. Неравновесные носители тока эффективно разделяются электрическим полем вертикальных p-n-переходов при условии, что ширина вертикальных сквозных эпитаксиальных каналов р-типа проводимости 2 - d 1 не превышает 40 мкм, а расстояние между ними, т.е. ширина областей n-типа проводимости - d2, не превышает 500 мкм. Вертикальные сквозные эпитаксиальные каналы р-типа проводимости 2 состоят из кольцевых каналов и соединяющих их прямолинейных участков. Количество прямолинейных участков определяется исходя из равномерного распределения фототока в объеме ФЭПа.
Таким образом, ФЭП обеспечивает эффективное разделение носителей тока вертикальными сквозными p-n-переходами, причем все p- и n-области ФЭПа являются фотоактивными, а токосъем происходит с контактов 4 и 5 на тыльной стороне ФЭПа, не затеняющих лицевую сторону. В итоге, кремниевый фотоэлектрический преобразователь позволяет достигнуть эффективности преобразования солнечной энергии в электрическую не менее 20%.

Claims (1)

  1. Полупроводниковый фотоэлектрический преобразователь, содержащий кремниевую пластину с вертикальными p-n-переходами и токосъёмные контакты, отличающийся тем, что кремниевая пластина имеет n-тип проводимости, в объёме которой выполнена система соединённых между собой вертикальных сквозных эпитаксиальных каналов p-типа проводимости, на границах которых расположены p-n-переходы, ширина каналов и расстояние между ними находятся в диапазоне от одной до двух диффузионных длин неравновесных носителей тока в соответствующих областях, n-области соединены n + -слоем на тыльной стороне пластины, токосъёмные контакты к p-области и n + -слою расположены также на тыльной стороне.
RU2022127342U 2022-10-21 Полупроводниковый фотоэлектрический преобразователь RU215917U1 (ru)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU215917U1 true RU215917U1 (ru) 2023-01-10

Family

ID=

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2371811C1 (ru) * 2008-05-06 2009-10-27 Российская академия Сельскохозяйственных наук Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства (ГНУ ВИЭСХ) Полупроводниковый фотоэлектрический генератор (варианты) и способ его изготовления (варианты)
RU2605839C2 (ru) * 2015-03-03 2016-12-27 Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по космической деятельности "РОСКОСМОС" (Госкорпорация "РОСКОСМОС") Фотоэлектрический преобразователь
TW202018989A (zh) * 2018-07-26 2020-05-16 日商索尼股份有限公司 光電轉換元件
JP2021077848A (ja) * 2019-11-08 2021-05-20 ツィンファ ユニバーシティ 太陽電池

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2371811C1 (ru) * 2008-05-06 2009-10-27 Российская академия Сельскохозяйственных наук Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства (ГНУ ВИЭСХ) Полупроводниковый фотоэлектрический генератор (варианты) и способ его изготовления (варианты)
RU2605839C2 (ru) * 2015-03-03 2016-12-27 Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по космической деятельности "РОСКОСМОС" (Госкорпорация "РОСКОСМОС") Фотоэлектрический преобразователь
TW202018989A (zh) * 2018-07-26 2020-05-16 日商索尼股份有限公司 光電轉換元件
JP2021077848A (ja) * 2019-11-08 2021-05-20 ツィンファ ユニバーシティ 太陽電池

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5897715A (en) Interdigitated photovoltaic power conversion device
US4341918A (en) High voltage planar multijunction solar cell
US4110122A (en) High-intensity, solid-state-solar cell device
KR101052030B1 (ko) 전자기 방사 컨버터
CA1073996A (en) Photovoltaic system including a lens structure
Sinton et al. Silicon point contact concentrator solar cells
Swanson et al. Point-contact silicon solar cells
US4283589A (en) High-intensity, solid-state solar cell
CN101689571A (zh) 太阳电池单元
EP4411832A2 (en) Solar cell and preparation method thereof, photovoltaic module, and photovoltaic system
Green et al. 25-percent efficient low-resistivity silicon concentrator solar cells
Schwartz Review of silicon solar cells for high concentrations
CN220543926U (zh) 太阳能电池和光伏组件
RU215917U1 (ru) Полупроводниковый фотоэлектрический преобразователь
US4160678A (en) Heterojunction solar cell
Lamers et al. Towards 21% efficient n-Cz IBC based on screen printing
EP0159902A2 (en) An inverted optically enhanced solar cell
JP2023033940A (ja) 太陽電池セルおよび太陽電池
KR101310518B1 (ko) 태양전지 및 그 제조방법
RU128396U1 (ru) Фотоэлектрический преобразователь
Frank et al. A low series resistance silicon photovoltaic cell for high intensity applications
Norskog et al. A horizontal monolithic series‐array solar battery employing thermomigration
RU2410794C2 (ru) Полупроводниковый фотопреобразователь и способ его изготовления
KR101685475B1 (ko) 전자기 방사 변환기의 광-변환부(상이한 실시예들), 및 전자기 방사 변환기
RU106443U1 (ru) Полупроводниковая многопереходная структура