RU2082836C1 - Электролит для электрохимического осаждения покрытий никель-индий - Google Patents

Электролит для электрохимического осаждения покрытий никель-индий Download PDF

Info

Publication number
RU2082836C1
RU2082836C1 RU93036356A RU93036356A RU2082836C1 RU 2082836 C1 RU2082836 C1 RU 2082836C1 RU 93036356 A RU93036356 A RU 93036356A RU 93036356 A RU93036356 A RU 93036356A RU 2082836 C1 RU2082836 C1 RU 2082836C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
electrolyte
indium
nickel
sulfate
coatings
Prior art date
Application number
RU93036356A
Other languages
English (en)
Other versions
RU93036356A (ru
Inventor
А.В. Звягинцева
А.И. Фаличева
Original Assignee
Воронежский Политехнический Институт
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Воронежский Политехнический Институт filed Critical Воронежский Политехнический Институт
Priority to RU93036356A priority Critical patent/RU2082836C1/ru
Publication of RU93036356A publication Critical patent/RU93036356A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2082836C1 publication Critical patent/RU2082836C1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

Изобретение относится к гальванотехнике, в частности к электролитическому осаждению никелевых покрытий, легированных индием до 1%, и может быть использовано в качестве функциональных в радиоэлектронной промышленности для обеспечения сварки ультразвуком, а также в качестве коррозионно-стойких, защитно-декоративных покрытий в ряде отраслей приборостроения и машиностроения. Электролит для электрохимического осаждения покрытий никель-индий содержит, г/л: сульфат никеля 7-ми водный 120-180; хлорид индия 6-9; малоновую кислоту 40-6; сульфат натрия 10-ти водный 15-25; борфторид аммония 5-12; лаурилсульфат натрия 0,03-0,06. 2 табл.

Description

Изобретение относится к гальванотехнике, в частности к электрохимическому осаждению никелевых покрытий, легированных индием, и может быть использовано в качестве функционального в радиоэлектронной промышленности, а также в качестве коррозионно-стойкого, защитно-декоративного покрытия в ряде отраслей приборостроения и машиностроения.
Известен для электроосаждения покрытий Ni-In сульфаматный электролит состава, г/л: индий (на металл) 0,8 1,0; никель (на металл) 100 110; сульфаминовая кислота 50 55 при 18-25oC; iк 5 8 A/дм2 [1] Однако он имеет ряд существенных недостатков: катодный выход по току не превышает 20% быстрое старение и связанная с этим необходимость частой регенерации.
Наиболее близким по составу электролита к заявляемому изобретению является сульфатный электролит, содержащий в качестве комплексообразователя лимонную кислоту, при температуре электролита 20-40oC, pH 9 и iк= 0,25 4,01 А/дм2 [2] Основными недостатками данного электролита являются сложность состава, использование в качестве комплексообразователя и буферной добавки лимонной кислоты дефицитного, пищевого, содержащегося в большом количестве до 250 г/л компонента, а также недостаточная стабильность электролита (выпадение осадка гидроксидов индия и никеля по истечению 12 месяцев). Кроме этого, данный электролит не позволяет получать осадки Ni-In с малым содержанием индия до 1%
Изобретение решает задачу создания более простого, стабильного по составу электролита с pH 2,5 3,5, не содержащего пищевых, дефицитных и особотоксичных компонентов, обеспечивающего получение покрытий Ni-In с малым содержанием индия до 1% обладающих функциональными свойствами. Поставленная задача осуществляется электролитом следующего состава, г/л:
Сульфат никеля, 7-водный 120 180
Хлорид индия 6 9
Малоновая кислота 40 65
Сульфат натрия, 10-водный 15 25
Борфторид аммония 5 12
Лаурилсульфат натрия 0,03 0,06
Режимы электроосаждения: iк 1 3 A/дм2; t 18 - 25oC.
Аноды никелевые марки Ni-00 или НПА-1.
Из предлагаемого электролита можно получить качественные, блестящие, мелкокристаллические никелевые покрытия, легированные индием до 1% хорошо сцепленные с основным металлом (медь, сталь, латунь) и выходом по току 55 - 80%
Пример конкретного выполнения. Предлагаемый электролит готовят следующим образом. Навески сульфатов никеля, натрия и хлорида индия растворяют в небольших порциях дистиллированной воды в отдельных емкостях. 1/3 малоновой кислоты растворяют при температуре 40 50oC в растворе хлорида индия, а 2/3 в растворе сульфата никеля, полученные растворы фильтруют в емкость, содержащую сульфат натрия. После этого электролит находится при комнатной температуре до 2 ч. Затем электролит прорабатывают током при iк 0,3 - 0,5 A/дм2 в течение 1 ч. Добавки борфторида аммония и лаурилсульфата натрия вводят после проработки электролита током. pH электролита корректируют концентрированной серной кислотой или 6 н. NaOH.
Использование малоновой кислоты в предлагаемом электролите обеспечивает следующие его характеристики: повышение буферных свойств раствора, торможение процесса образования твердой фазы гидрооксидов никеля и индия, образование устойчивых малонатных комплексов никеля (II) и индия (III). Кроме того, установлено, что малоновая кислота в кислых растворах pH до 3,5 ед. проявляет выравнивающее действие подобно блескообразователям класса II и способствует получению выровненных блестящих осадков Ni-In. Борфторид аммония необходим для повышения выхода по току Ni-In за счет повышения перенапряжения водорода и улучшения буферных свойств электролита.
Пределы и соотношение концентраций малоновой кислоты и сульфата никеля (1: 1), хлорида индия и кислоты (1:14) соответствует области максимального буферирования раствора, торможения процесса образования твердой фазы гидроксидов никеля и индия, устойчивого существования комплексов никеля (II) и индия (III) с малоновой кислотой и обеспечивают получение выровненных, блестящих, мелкокристаллических осадков Ni-In с содержанием индия до 1% Повышение концентрации малоновой кислоты неэффективно, так как не влияет на комплексообразование никеля (II) с малоновой кислотой и снижает выход по току покрытия. Уменьшение концентрации борфторида аммония не оказывает желаемого эффекта, а с ее повышением возможно ухудшение качества получаемых осадков. При уменьшении концентрации сульфата натрия электропроводность электролита ухудшается, а повышение концентрации нецелесообразно, так как не приводит к ее увеличению. Несоблюдение какого-либо из этих условий приводит к появлению в электролите осадка гидроксида индия и изменению состава покрытия Ni-In.
Сравнительные данные по составу электролита, его стабильности и условиям электролиза для известного и предлагаемого представлены в табл. 1, а по свойствам получаемых осадков в табл. 2. Как видно из приведенных данных, предлагаемый электролит характеризуется меньшей сложностью по составу, более высокой стабильностью, содержит менее дефицитные, непищевые компоненты и позволяет получить блестящие, мелкокристаллические, выровненные покрытия Ni-In с содержанием индия до 1% обладающие высокой коррозийной стойкостью, отсутствием пор, способностью к сварке и пайке, что определяет их применение в качестве функциональных в радиоэлектронной промышленности и в ряде отраслей приборостроения и машиностроения в качестве коррозионно-стойких, защитно-декоративных.
Источники информации
3. Розенфельд М.А. Жигалова К.А. Ускоренные методы коррозийных испытаний металлов. М. Металлургия, 1986, 347 с.

Claims (1)

  1. Электролит для электрохимического осаждения покрытий никель-индий, содержащий сульфат никеля, соль индия, сульфат-ионы и карбоновую кислоту, отличающийся тем, что он дополнительно содержит борфторид аммония и лаурилсульфат натрия, в качестве соли индия хлорид индия, в качестве сульфат-ионов сульфат натрия, а в качестве карбоновой кислоты малоновую кислоту при рН 2,5 3,5 при следующем соотношении компонентов, г/л:
    Сульфат никеля 7-водный 120 180
    Хлорид индия 6 9
    Малоновая кислота 40 65
    Сульфат натрия 10-водный 15 25
    Борфторид аммония 5 12
    Лаурилсульфат натрия 0,03 0,06т
RU93036356A 1993-07-14 1993-07-14 Электролит для электрохимического осаждения покрытий никель-индий RU2082836C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU93036356A RU2082836C1 (ru) 1993-07-14 1993-07-14 Электролит для электрохимического осаждения покрытий никель-индий

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU93036356A RU2082836C1 (ru) 1993-07-14 1993-07-14 Электролит для электрохимического осаждения покрытий никель-индий

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU93036356A RU93036356A (ru) 1996-08-10
RU2082836C1 true RU2082836C1 (ru) 1997-06-27

Family

ID=20145062

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU93036356A RU2082836C1 (ru) 1993-07-14 1993-07-14 Электролит для электрохимического осаждения покрытий никель-индий

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2082836C1 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1. Беленький М.А., Иванов А.Ф. Электроосаждение металлических покрытий. Справочник. - М.: Металлургия, 1985, с. 288. 2. Авторское свидетельство СССР N 1211342, кл. C 25 D 3/56, 1986. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101838830A (zh) 一种电镀钯镍合金的电解液
US5378346A (en) Electroplating
US4076598A (en) Method, electrolyte and additive for electroplating a cobalt brightened gold alloy
US20040195107A1 (en) Electrolytic solution for electrochemical deposition gold and its alloys
US4478692A (en) Electrodeposition of palladium-silver alloys
US4297177A (en) Method and composition for electrodepositing palladium/nickel alloys
CA1132088A (en) Electrodepositing iron alloy composition with aryl complexing compound present
US3892638A (en) Electrolyte and method for electrodepositing rhodium-ruthenium alloys
CA1222720A (en) Zinc cobalt alloy plating
US4673471A (en) Method of electrodepositing a chromium alloy deposit
US4465563A (en) Electrodeposition of palladium-silver alloys
NL8001999A (nl) Bad voor het platteren met zilver en een legering van goud en zilver en een werkwijze voor het platteren daarmede.
RU2082836C1 (ru) Электролит для электрохимического осаждения покрытий никель-индий
US4297179A (en) Palladium electroplating bath and process
US4778574A (en) Amine-containing bath for electroplating palladium
US4422908A (en) Zinc plating
US4634505A (en) Process and bath for the electrolytic deposition of gold-tin alloy coatings
JPH1060683A (ja) 電気めっき三元系亜鉛合金とその方法
US4411744A (en) Bath and process for high speed nickel electroplating
CA1050471A (en) Electroplating of rhodium-ruthenium alloys
JPS6324092A (ja) 亜鉛−鉄合金の電着用の酸性硫酸塩含有浴
US3890210A (en) Method and electrolyte for electroplating rhodium-rhenium alloys
SU1135816A1 (ru) Электролит дл осаждени покрытий сплавами цинка или кадми с титаном и цирконием
CN114108031B (zh) 一种环保无氰碱性镀铜细化剂及其制备方法
JP3277816B2 (ja) 三元系亜鉛合金電気めっき方法