RU208093U1 - Плазменный источник - Google Patents

Плазменный источник Download PDF

Info

Publication number
RU208093U1
RU208093U1 RU2021127805U RU2021127805U RU208093U1 RU 208093 U1 RU208093 U1 RU 208093U1 RU 2021127805 U RU2021127805 U RU 2021127805U RU 2021127805 U RU2021127805 U RU 2021127805U RU 208093 U1 RU208093 U1 RU 208093U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
waveguide
ionization chamber
tip
plasma
plasma source
Prior art date
Application number
RU2021127805U
Other languages
English (en)
Inventor
Виктор Николаевич Тихонов
Александр Викторович Тихонов
Игорь Анатольевич Иванов
Сергей Андреевич Горбатов
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Всероссийский научно-исследовательский институт радиологии и агроэкологии" (ФГБНУ ВНИИРАЭ)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Всероссийский научно-исследовательский институт радиологии и агроэкологии" (ФГБНУ ВНИИРАЭ) filed Critical Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Всероссийский научно-исследовательский институт радиологии и агроэкологии" (ФГБНУ ВНИИРАЭ)
Priority to RU2021127805U priority Critical patent/RU208093U1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU208093U1 publication Critical patent/RU208093U1/ru

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy

Abstract

Полезная модель относится к плазменной технике, в частности к устройствам для генерирования низкотемпературной (нетермальной, недеструктивной) плазмы с использованием внешних электромагнитных полей сверхвысокой частоты, и может быть использована для проведения низкотемпературных плазмохимических процессов, а также для плазменной обработки поверхности различных теплочувствительных материалов, в том числе биологических тканей. Техническим результатом полезной модели является снижение температуры потока рабочего газа при сохранении его концентрации и ионизации/ активации путем установки на внешний конец наконечника газового концентратора, выполненного в виде усеченного конуса и снабжения прямоугольного волновода волноводной согласованной нагрузкой. Вышеуказанный технический результат достигается за счет того, что плазменный источник (1) содержит ионизационную камеру (2) с впускным патрубком (3) для ввода газа, ионизирующий электрод (4) внутри ионизационной камеры (2) и микроволновый генератор (8). При этом ионизирующий электрод (4) расположен внутри ионизационной камеры (2) и выполнен в виде разомкнутого конца внутреннего проводника (5) жесткой коаксиальной линии, которая проходит сквозь прямоугольный волновод (6) посередине его широких стенок, перпендикулярно к ним. Внешний проводник (7) коаксиальной линии снабжен разрывом, равным высоте узкой стенки волновода (6), который делит его на два патрубка (7а) и (7б), неразрывно сочлененных с волноводом (6). На внешнем конце одного из патрубков (7а) расположена ионизационная камера (2), имеющая выходное отверстие (9), выполненное в наконечнике (10). Кроме того, прямоугольный волновод (6) снабжен волноводной согласованной нагрузкой (13). А на внешним конце наконечника (10) выполнен газовый концентратор (14) с корпусом толщиной 0,4 мм, в виде усеченного конуса, в котором площадь внутреннего круга S1, сочлененного с наконечником (10) и соплом плазменного источника (1), с площадью внешнего круга S2находится в соотношении, равном 1:2.

Description

Полезная модель относится к плазменной технике, в частности к устройствам для генерирования низкотемпературной (нетермальной, недеструктивной) плазмы с использованием внешних электромагнитных полей сверхвысокой частоты, и может быть использована для проведения низкотемпературных плазмохимических процессов, а также для плазменной обработки поверхности различных теплочувствительных материалов, в том числе биологических тканей.
Известно «Газоразрядное устройство для обработки плазмой при атмосферном давлении поверхности биосовместимых полимеров», содержащее электродную систему из острийного катода и плоского анода с протоком газа в разрядном промежутке, модифицируемый полимер, высоковольтный источник питания и систему нагнетания газа, отличающееся тем, что острийный катод представляет собой стальной стержень диаметром 1,5-2 мм с радиусом закругления вершины острия 25 мкм и нагружен на регулируемое балластное сопротивление, а плоский анод выполнен в виде стального круга диаметром 3-24 см и установлен перпендикулярно острийному катоду, причем центр симметрии анода расположен на расстоянии 30-100 мм от вершины острия острийного катода, катод и анод размещены в среде аргона, прокачиваемого продольно либо перпендикулярно катоду, при этом модифицируемый полимер толщиной 10-100 мкм выполнен в форме круга или прямоугольника, и удерживается на аноде заточенным краем торцевого среза стальной накидной шайбы, электрически соединенной с анодом.
Патент РФ на изобретение №2751547 МПК: Н05Н 1/24, д. публ. 14.07.2021 г.
Известен «Плазменный источник излучения», состоящий из источника питания, двух коаксиальных электродов, устройства для напуска газа в область сжатия плазмы, вспомогательного и рабочего газов, причем вспомогательный газ имеет большую молярную массу, чем рабочий газ, и отличающийся тем, что содержит систему регулировки напуска рабочего газа, состоящую из устройства временной задержки инициации разряда и устройства накачки и контроля давления газа под клапаном устройства для напуска рабочего газа, при этом плазменный источник излучения выполнен с возможностью инициации разряда между электродами во вспомогательном газе; а с помощью системы регулировки напуска рабочего газа формируется неравномерное распределение рабочего газа, напущенного через устройство для напуска, в межэлектродном промежутке устройства.
Патент РФ на изобретение №270865, МПК: Н05Н 1/24, д. публ. 14.01.2020 г.
Известно «Устройство для генерации потока нетермальной плазмы», содержащее высоковольтный источник питания, сопло с электродной системой, устройство прокачки рабочего газа через сопло, отличающееся тем, что на электродах напряжение подано в виде импульсов с длительностью 2 мкс и с паузами между импульсами продолжительностью 200 мкс с целью снижения температуры газовой струи и исключения контракции газового разряда при низкой скорости прокачки рабочего газа, что увеличит площадь контакта плазмы с обрабатываемой поверхностью.
Патент РФ на ПМ №202393, МПК: Н05Н 1/24, д. публ. 16.02.2021 г.
Наиболее близким аналогом к предлагаемому в качестве полезной модели устройству является «Плазменный источник» (1), содержащий ионизационную камеру (2) с впускным патрубком (3) для ввода газа, ионизирующий электрод (4) внутри ионизационной камеры (2) и микроволновый генератор (8), отличающийся тем, что ионизирующий электрод (4), расположенный внутри ионизационной камеры (2), выполнен в виде разомкнутого конца внутреннего проводника (5) жесткой коаксиальной линии, которая проходит сквозь прямоугольный волновод (6) посередине его широких стенок, перпендикулярно к ним, а внешний проводник (7) коаксиальной линии снабжен разрывом, равным высоте узкой стенки волновода (6), который делит его на два патрубка (7а) и (7б), неразрывно сочлененных с волноводом (6), по которому проходит от микроволнового генератора (8) электромагнитная волна основного типа колебаний Н10, при этом на внешнем конце одного из патрубков (7а) расположена ионизационная камера (2), имеющая выходное отверстие (9), выполненное в наконечнике (10), снабженный внутренней полостью, образующей ионизационную камеру (2), которая вместе с выходным отверстием (9) наконечника (10), обеспечивает выполнение условий холостого хода на разомкнутом конце внутреннего проводника (5) жесткой коаксиальной линии, наконец на внешнем конце второго патрубка (7б) закреплен узел короткого замыкания (11), который выполнен в виде подвижного цангового сочленения с внутренним проводником (5), кроме того, на конце ионизирующего электрода (4)) на всю его толщину, и вдоль оси внутреннего проводника (5), выполнены сквозные радиальные пропилы (12), при этом длина пропилов по оси равна четверти длины волны микроволнового генератора (8), а суммарная длина ионизирующего электрода (4) и внутреннего проводника (5) жесткой коаксиальной линии кратна нечетному числу четвертей длин волн микроволнового генератора (8). Заявка на ПМ №2021106762(014565), МПК: Н05Н 1/24, д. подачи 15.03.2021 г.
Техническим результатом полезной модели является снижение температуры потока рабочего газа при сохранении его концентрации и ионизации/ активации путем установки на внешний конец наконечника газового концентратора, выполненного в виде усеченного конуса и снабжения прямоугольного волновода волноводной согласованной нагрузкой.
Вышеуказанный технический результат достигается за счет того, что плазменный источник (1), содержит ионизационную камеру (2) с впускным патрубком (3) для ввода газа, ионизирующий электрод (4) внутри ионизационной камеры (2) и микроволновый генератор (8). При этом ионизирующий электрод (4), расположен внутри ионизационной камеры (2) и выполнен в виде разомкнутого конца внутреннего проводника (5) жесткой коаксиальной линии, которая проходит сквозь прямоугольный волновод (6) посередине его широких стенок, перпендикулярно к ним. Внешний проводник (7) коаксиальной линии снабжен разрывом, равным высоте узкой стенки волновода (6), который делит его на два патрубка (7а) и (7б), неразрывно сочлененных с волноводом (6). На внешнем конце одного из патрубков (7а) расположена ионизационная камера (2), имеющая выходное отверстие (9), выполненное в наконечнике (10). Кроме того, прямоугольный волновод (6) снабжен волноводной согласованной нагрузкой (13). А на внешним конце наконечника (10) выполнен газовый концентратор (14), с корпусом толщиной 0,4 мм, в виде усеченного конуса, в котором площадь внутреннего круга S1, сочлененного с наконечником (10) и соплом плазменного источника (1), с площадью внешнего круга S2 находится в соотношении, равном 1:2.
«Плазменный источник» поясняется чертежом-схемой на фиг. 1 и 2.
Фиг. 1 - Плазменный источник (схема общего вида).
Фиг 2 - Плазменный источник (схема газового концентратора).
Плазменный источник (1), содержащий ионизационную камеру (2), имеющую впускной патрубок (3) для ввода рабочего газа в ионизационную камеру (2), где рабочий газ ионизируется с помощью ионизирующего электрода (4), расположенного внутри ионизационной камеры (2). Ионизирующий электрод (4), расположенный внутри ионизационной камеры (2), представляет собой разомкнутый конец внутреннего проводника (5) жесткой коаксиальной линии, которая проходит сквозь прямоугольный волновод (6) посередине его широких стенок, перпендикулярно к ним. Внешний проводник (7) коаксиальной линии имеет разрыв, равный высоте узкой стенки волновода (6) и, таким образом, состоит из двух патрубков (7а) и (7б), неразрывно сочлененных с волноводом (6) микроволнового генератора (8). На внешнем конце одного из патрубков (7а) сформирована ионизационная камера (2), имеющая выходное отверстие (9), выполненное в наконечнике (10), сочленения с внутренним проводником (5). Кроме того, прямоугольный волновод (6) снабжен согласованной нагрузкой (13). При этом внешний конец наконечника (10) снабжен газовым концентратором, с корпусом толщиной 0,4 мм, выполненном в виде усеченного конуса, в котором площадь внутреннего круга S1, соединенного с наконечником с площадью выходного круга S2 находится в соотношении, равном 1:2.
Устройство работает следующим образом.
При включении микроволнового генератора (8) часть энергии электромагнитной волны, распространяющейся по волноводу (6) в направлении согласованной волноводной нагрузки (13), поступает в жесткую коаксиальную линию, поскольку их сочленение образует волноводно-коаксиальный переход. В результате выполнения условий резонанса, для чего длина жесткой коаксиальной линии выбирается кратной нечетному числу четвертей длин волн микроволнового генератора (8), на разомкнутом конце центрального проводника (5) возрастает напряженность электрического поля и создаются условия для возникновения и поддержания микроволнового разряда в полости ионизационной камеры (2) - между торцом ионизирующего электрода (4) и внутренней поверхностью наконечника (10).
При этом в СВЧ-плазматроне на выходе из сопла (9) плазменного источника (1) на расстоянии 10 мм, поток рабочего газа имеет высокие значения температуры, а также содержит высокую концентрацию ионизации/активации потока рабочего газа. На расстоянии 30 мм от плазменного источника (1) ионизация/ активация потока рабочего газа минимальна, а температура равна комнатной.
Для этого прямоугольный волновод (6) снабжают волноводной согласованной нагрузкой (13), а на внешний конец наконечника (10) устанавливают газовый концентратор (4) с корпусом толщиной 0,4 мм, выполненном в виде усеченного конуса, в котором площадь внутреннего круга S1, соединенного с наконечником с площадью выходного круга S2 находится в соотношении, равном 1:2, что способствует снижению температуры потока и сохранению концентрации ионизации/активации потока газа.
Предложенный в качестве полезной модели «Плазменный источник» сохраняет концентрацию ионизации/ активации потока рабочего газа, а также уменьшает температуру потока.

Claims (1)

  1. Плазменный источник (1), содержащий ионизационную камеру (2) с впускным патрубком (3) для ввода газа, ионизирующий электрод (4) внутри ионизационной камеры (2) и микроволновый генератор (8), при этом ионизирующий электрод (4), расположенный внутри ионизационной камеры (2), выполнен в виде разомкнутого конца внутреннего проводника (5) жесткой коаксиальной линии, которая проходит сквозь прямоугольный волновод (6) посередине его широких стенок, перпендикулярно к ним, а внешний проводник (7) коаксиальной линии снабжен разрывом, равным высоте узкой стенки волновода (6), который делит его на два патрубка (7а) и (7б), неразрывно сочлененных с волноводом (6), кроме того, на внешнем конце одного из патрубков (7а) расположена ионизационная камера (2), имеющая выходное отверстие (9), выполненное в наконечнике (10), отличающийся тем, что прямоугольный волновод (6) снабжен волноводной согласованной нагрузкой (13), а на внешним конце наконечника (10) выполнен газовый концентратор (14) с корпусом толщиной 0,4 мм, в виде усеченного конуса, в котором площадь внутреннего круга S1, сочлененного с наконечником (10) и соплом плазменного источника (1), с площадью внешнего круга S2 находится в соотношении, равном 1:2.
RU2021127805U 2021-09-13 2021-09-13 Плазменный источник RU208093U1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2021127805U RU208093U1 (ru) 2021-09-13 2021-09-13 Плазменный источник

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2021127805U RU208093U1 (ru) 2021-09-13 2021-09-13 Плазменный источник

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU208093U1 true RU208093U1 (ru) 2021-12-01

Family

ID=79174772

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2021127805U RU208093U1 (ru) 2021-09-13 2021-09-13 Плазменный источник

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU208093U1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2803644C1 (ru) * 2022-11-14 2023-09-19 Общество С Ограниченной Ответственностью "Вандер Технолоджис" Свч-плазмохимический реактор для получения синтетического алмаза

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2274963C2 (ru) * 2004-05-24 2006-04-20 Федеральное государственное унитарное предприятие "НПП "Контакт" Сверхвысокочастотный плазмотрон
RU2415522C2 (ru) * 2005-09-16 2011-03-27 Макс-Планк-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Виссеншафтен Е.Ф. Плазменный источник
US20120288934A1 (en) * 2009-08-11 2012-11-15 Leibnitz-Institut fuer Plasma. und Tech. e. V. Device and method for treating living cells by means of a plasma
RU183873U1 (ru) * 2018-06-13 2018-10-08 Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Всероссийский научно-исследовательский институт радиологии и агроэкологии" (ФГБНУ ВНИИРАЭ) СВЧ-плазмотрон
WO2019121968A1 (en) * 2017-12-20 2019-06-27 L'oreal Cosmetic treatment process using cold plasma and device for carrying out the process

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2274963C2 (ru) * 2004-05-24 2006-04-20 Федеральное государственное унитарное предприятие "НПП "Контакт" Сверхвысокочастотный плазмотрон
RU2415522C2 (ru) * 2005-09-16 2011-03-27 Макс-Планк-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Виссеншафтен Е.Ф. Плазменный источник
US20120288934A1 (en) * 2009-08-11 2012-11-15 Leibnitz-Institut fuer Plasma. und Tech. e. V. Device and method for treating living cells by means of a plasma
WO2019121968A1 (en) * 2017-12-20 2019-06-27 L'oreal Cosmetic treatment process using cold plasma and device for carrying out the process
RU183873U1 (ru) * 2018-06-13 2018-10-08 Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Всероссийский научно-исследовательский институт радиологии и агроэкологии" (ФГБНУ ВНИИРАЭ) СВЧ-плазмотрон

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2803644C1 (ru) * 2022-11-14 2023-09-19 Общество С Ограниченной Ответственностью "Вандер Технолоджис" Свч-плазмохимический реактор для получения синтетического алмаза
RU2808774C1 (ru) * 2023-02-27 2023-12-05 Дмитрий Алексеевич Бондаренко Способ получения заряженных частиц

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2415522C2 (ru) Плазменный источник
US20100125267A1 (en) Plasma Gun for Bio/Medical Treatment
KR20040005851A (ko) 플라즈마에 의한 가스 처리용 장치
CN104411083B (zh) 一种产生连续低温大截面大气压等离子体羽的装置及方法
CN106028616A (zh) 一种滑动弧放电等离子体射流发生装置及方法
KR20100107290A (ko) 대기압 플라즈마 발생장치
CN103327722B (zh) 介质阻挡增强型多电极辉光放电低温等离子体刷阵列发生装置
CN106973482A (zh) 一种花瓣式辉光放电射流等离子体生成结构
KR101150382B1 (ko) 저온 상압 플라즈마 제트 발생기
RU208093U1 (ru) Плазменный источник
CN111246651B (zh) 一种利用喷枪阵列产生大尺度等离子体羽的装置及方法
RU2011123888A (ru) Устройство для получения энергии из дымовых газов
KR20120005870A (ko) 모세관 구동 전극형 대기압 플라즈마 제트 발생기
RU216154U1 (ru) Плазменный источник
CN107591301B (zh) 等离子体阴极实心注电子枪
CN115315055A (zh) 一种微波冷等离子体射流装置
CN108878249B (zh) 一种脉冲潘宁放电等离子体发生装置
RU183873U1 (ru) СВЧ-плазмотрон
Fadeev et al. The influence of transverse acoustic oscillations on contraction of the glow discharge
CN112004304B (zh) 一种电晕复合介质阻挡放电等离子体射流发生装置
Lei et al. DBD plasma jet in atmospheric pressure neon
CN113365404B (zh) 介质阻挡放电等离子体辅助煤炭燃烧发生装置
CN112741962A (zh) 一种低温等离子体关节腔穿刺射流装置
RU207628U1 (ru) Плазменный источник
RU2713214C1 (ru) Устройство для возбуждения факельного разряда