RU2075129C1 - Холодный эмиттер для вакуумных приборов - Google Patents

Холодный эмиттер для вакуумных приборов Download PDF

Info

Publication number
RU2075129C1
RU2075129C1 SU5026661A RU2075129C1 RU 2075129 C1 RU2075129 C1 RU 2075129C1 SU 5026661 A SU5026661 A SU 5026661A RU 2075129 C1 RU2075129 C1 RU 2075129C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
emitter
pores
pore
current
vacuum
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
Н.В. Татаринова
В.С. Соколов
В.А. Курнаев
Н.Е. Новиков
Н.В. Волков
Original Assignee
Московский Инженерно-Физический Институт
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Московский Инженерно-Физический Институт filed Critical Московский Инженерно-Физический Институт
Priority to SU5026661 priority Critical patent/RU2075129C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2075129C1 publication Critical patent/RU2075129C1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Cold Cathode And The Manufacture (AREA)

Abstract

Использование: в электронной технике, вакуумной и газовой электронике, а также в других областях науки и техники, где используется облучение электронами. Сущность изобретения: холодный эмиттер выполнен из пористого материала с максимально возможной пористостью и размером пор в плоскости эмиттера и их глубиной в пределах 20oC80 мкм, при этом боковые стенки пор перпендикулярны к поверхности эмиттера, что позволяет увеличить плотность эмиттируемых электронов до 100 мкА/см2 в статическом режиме, а в импульсном на 5 - 6 порядков. Эмиттер имеет равномерное распределение электронного пучка, прост в изготовлении больших площадей, стоек к впуску атмосферы и работает при низких требованиях к вакууму. 3 ил.

Description

Иобретение относится к электронной технике, к вакуумной и газовой электронике, а также к другим областям науки и техники, где используется облучение электронами.
Известно, что к существующим холодным источникам электронов для вакуумных приборов относятся катоды со взрывной эмиссией (С.Р.Бугаев, Ю.Е. Крейндель, П. М. Шанин. Электронные пучки большого сечения, Энергоиздат, 1984); плоские автокатоды с плотностью эмиттеров 106-107 на мм2 в виде тонких монокристаллов (T. A. Poskekhonova, A.A.Nosov. V.M.Gennadyev, N.P. Ovsyannikov, D. I.Nosov, High current field emission whisker cafhode, Proc. of VIIth Intern. Symp, on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum, USSR, Novosibirsk, 1970, p. 200); десорбционные катоды (С.А.Высоцкий, Ю.Ф. Павлычев, В.И.Першин. Исследование влияния высоты диэлектрических элементов десорбционных катодов на их эмиссионные характеристики. Препринт ИТЭФ-90/17).
Однако эти типы источников электронов работают в импульсном режиме с ограниченной длительностью и в некоторых случаях с ограниченным числом включений.
Наиболее близким по технической сущности к изобретению относится холодный эмиттер электронов, выполненный в виде напыленного на подложку металлического слоя, насыщенного газом. Толщина слоя превышает 1 мкм, а пористость составляет 90% Источником электронов в этом эмиттере является пороэлектронная эмиссия, возникающая при зажигании газового разряда в порах поверхности. Газовая среда создается при десорбции газа с поверхности пор (Н.В.Татаринова, П.Н.Чистяков, Н.А.Осипов. Пороэлектронная эмиссия заявка на открытие, N. V. Tatarinova, Poro-electron emission from metal-dielectric contact, Proc. of 14th Intern. Symp of Discharges and Electrical Insulation in Vacuum, USA, Santa-Fe, 1990, p. 381); Н.В. Татаринова. Механизм нарушения электроизоляции при зажигании газового разряда в микропорах поверхности электронов. М. Препринт / МИФИ, 076-88, 1988, с. 24). Вольт-амперная характеристика пороэлектронной эмиссии состоит из двух частей: начальной, которая слабо зависит от внешнего поля, и второй близкой к экспоненте. Вольт-амперная характеристика пороэлектронной эмиссии состоит из двух частей: начальной, которая слабо зависит от внешнего поля, и второй близкой к экспоненте. Вид вольт-амперной характеристики зависит от конструкции микропор и давления газа в порах. Эмиттер, описанный в прототипе, использует начальный участок характеристики, на котором отбор тока плотностью более 10 мкА/см2 приводит к быстрому падению тока во времени. При переходе к экспоненциальному участку для напыленной пленки, размер пор которой составляет несколько мкм, появляются большие колебания токов и этот эмиттер нельзя использовать при плотностях тока более нескольких мкA/см2. Для различных целей облучения электронами требуются плотности токов большей величины. Этот технический результат, т.е. повышение плотности тока, можно достичь следующим путем.
Предлагается выполнить холодный эмиттер электронов из пористого материала с максимально возможной пористостью и размером пор в плоскости эмиттера и их глубиной в пределах 20oC80 мкм, при этом боковые стенки пор перпендикулярны к поверхности эмиттера.
Указанный диапазон размера пор был выбран экспериментально с учетом оптимальных условий для пороэлектронной эмиссии, а именно с учетом давления газа в порах при десорбции его со стенок пор и усиления электрического поля на краях поры при его провисании в пору. Зависимость тока пороэлектронной эмиссии от давления газа в порах имеет максимум.
Нижний размер пор был выбран из условий увеличения давления газа, а следовательно, уменьшения тока пороэлектронной эмиссии относительно максимума зависимости тока от давления газа. Верхний предел размера пор был выбран из условий уменьшения давления газа в поре относительно этого максимума.
На фиг. 1 представлен холодный эмиттер электронов. Он состоит из основания 1, изготовленного из порошкового материала, и поверхностного слоя 2 со специально изготовленными порами. Диаметр и глубина пор (а=б) выдерживается в пределах 20oC80 мкм, причем частота повторения этих пор должна быть по возможности наибольшей. Испытуемые образцы эмиттера изготавливались из порошкового материала методом прессования. Площадь эмиттеров S=4,0 см2. Один из образцов имел размер микропор 30 мкм, другой 50 мкм. При испытаниях эмиттер помещался в вакуумную высоковольтную камеру, устанавливался напротив анода на расстоянии d=2 мм и откачивался до давления 10-3 Па. Размер анода был несколько большим, чем размер эмиттера. В первый день после установления эмиттера и откачки от атмосферного давления высокое напряжение поднималось постепенно, в течение нескольких часов, чтобы предотвратить микропробои за счет наличия пыли на электродах.
На фиг. 2 показаны вольт-амперные характеристики эмиттеров с размерами пор 30 мкм (1) и 50 мкм (2), а также для размеров пор вне предлагаемого диапазона 10 мкм (3) и 100 мкм (4). Как видно из графиков, при одной и той же напряженности внешнего поля E≈105 В/см величины токов эмиттеров (3) и (4) значительно меньше.
На фиг. 3 представлены результаты длительных испытаний эмиттеров с размерами пор 30 мкм (а) и 50 мкм (б). Режим испытаний соответствует условиям в точке А на графиках фиг. 2. Испытания проводились при плотности тока 100 мкА/см2 длине вакуумного промежутка d=2 мм и напряженности поля E≈105 В/см. Испытания были продолжены после впуска атмосферы воздуха в экспериментальный прибор на 1 час. Кратковременный впуск атмосферы (без внешнего напряжения) практически не повлиял на эмиссионную способность эмиттера.
Испытания в импульсном режиме показали повышение плотности тока на много порядков по сравнению со статическим режимом. Так, при испытаниях эмиттера в наносекундом диапазоне длительности импульса плотность тока возросла на 5oC6 порядков при увеличении напряженности внешнего поля.
Таким образом, предлагаемый холодный эмиттер позволяет повысить плотность токов с 1 мкА/см2 до 100 мкА/см2 (на два порядка) и может быть использован в статическом режиме в установках для улучшения экологии очистки потоков воздуха из производственных цехов от пыли и вредных газов, а также для накачки лазеров большой площади в импульсном режиме и т.д.
К преимуществам предлагаемого эмиттера следует отнести значительное повышение плотности токов, стойкость к впуску атмосферы воздуха при сохранении преимуществ прототипа: равномерное распределение электронного пучка, простота изготовления эмиттера при больших площадях и низкие требования к вакууму.

Claims (1)

  1. Холодный эмиттер для вакуумных приборов, имеющий пористую поверхность, отличающийся тем, что он выполнен из пористого материала с максимальной пористостью и размером пор в плоскости эмиттера и их глубиной в пределах 20
    80 мкм, при этом боковые стенки пор перпендикулярны поверхности эмиттера.
SU5026661 1992-02-10 1992-02-10 Холодный эмиттер для вакуумных приборов RU2075129C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU5026661 RU2075129C1 (ru) 1992-02-10 1992-02-10 Холодный эмиттер для вакуумных приборов

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU5026661 RU2075129C1 (ru) 1992-02-10 1992-02-10 Холодный эмиттер для вакуумных приборов

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2075129C1 true RU2075129C1 (ru) 1997-03-10

Family

ID=21596560

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU5026661 RU2075129C1 (ru) 1992-02-10 1992-02-10 Холодный эмиттер для вакуумных приборов

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2075129C1 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1. Н.В.Татаринова. Механизм нарушения электроизоляции при зажигании газового разряда в микропорах поверхности электронов.- М.: препринт, МИФИ, 076-88, 1988, с.24. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Ganteför et al. Pure metal and metal-doped rare-gas clusters grown in a pulsed ARC cluster ion source
Schoenbach et al. Microhollow cathode discharges
JP5642721B2 (ja) ビーム状プラズマ源
US4749912A (en) Ion-producing apparatus
JP2008535193A (ja) 電子及びプラズマのビームを発生し、加速し、伝播するための装置及びプロセス
KR20000076338A (ko) 글로우 플라즈마 방전 장치
JPH08339779A (ja) 微小穴の配列を具備する陰極を持った放電装置
US6975073B2 (en) Ion plasma beam generating device
RU2075129C1 (ru) Холодный эмиттер для вакуумных приборов
JPH01289051A (ja) イオン電子源装置
JPH0762989B2 (ja) 電子ビ−ム励起イオン源
Mazurek et al. Fast cathode processes in vacuum discharge development
KR100386526B1 (ko) 다공성 전극을 이용하는 상압 플라즈마 장치
US4412150A (en) Maser
US5814942A (en) Method and apparatus for generating high-density sheet plasma mirrors using a slotted-tube cathode configuration
Voiteshonok et al. Runaway electrons beams in stationary open discharge for technological applications
US7429761B2 (en) High power diode utilizing secondary emission
RU2143766C1 (ru) Эмиттер заряженных частиц
RU2817564C1 (ru) Источник быстрых атомов для травления диэлектриков
RU2743786C2 (ru) Способ изготовления автоэмиссионного катода на основе микроканальных пластин
RU2035790C1 (ru) Полый катод плазменного эмиттера ионов
JPS5949149A (ja) プラズマ陰極電子ビ−ム発生装置および方法
JP2848590B1 (ja) 電子ビーム励起プラズマ発生装置
JP2605031B2 (ja) 電子ビーム励起イオン源
JP3103181B2 (ja) 高速原子線源