RU2071187C1 - Камера для свч-нагрева диэлектриков - Google Patents

Камера для свч-нагрева диэлектриков Download PDF

Info

Publication number
RU2071187C1
RU2071187C1 RU92015137A RU92015137A RU2071187C1 RU 2071187 C1 RU2071187 C1 RU 2071187C1 RU 92015137 A RU92015137 A RU 92015137A RU 92015137 A RU92015137 A RU 92015137A RU 2071187 C1 RU2071187 C1 RU 2071187C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
pyramidal
waveguides
heating
shf
horns
Prior art date
Application number
RU92015137A
Other languages
English (en)
Other versions
RU92015137A (ru
Inventor
Л.И. Кац
А.Ю. Сомов
В.А. Сосунов
Original Assignee
Научно-исследовательский институт механики и физики при Саратовском государственном университете им.Н.Г.Чернышевского
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Научно-исследовательский институт механики и физики при Саратовском государственном университете им.Н.Г.Чернышевского filed Critical Научно-исследовательский институт механики и физики при Саратовском государственном университете им.Н.Г.Чернышевского
Priority to RU92015137A priority Critical patent/RU2071187C1/ru
Publication of RU92015137A publication Critical patent/RU92015137A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2071187C1 publication Critical patent/RU2071187C1/ru

Links

Landscapes

  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Abstract

Изобретение относится к устройствам сверхвысокочастотного нагрева и сушки веществ, обладающих диэлектрическими потерями в диапазоне СВЧ.
Цель изобретения - улучшение равномерности нагрева.
Поставленная цель достигается тем, что в камере для СВЧ нагрева диэлектриков, содержащей два пирамидальных рупора, сложенных раскрывами большего сечения, к меньшим сечениям которых подсоединены отрезки запредельных волноводов, и элементы возбуждения пирамидальных рупоров в виде групп излучающих волноводов на их стенках, группы излучающих волноводов каждого из пирамидальных рупоров развернуты в противоположные стороны относительно плоскости, проходящей через линии, перпендикулярные параллельным сторонам боковых стенок, на которых они размещены, и проходящие через середины этих сторон, причем угол разворота группы излучающих волноводов равен углу раскрыва пирамидального рупора.
Кроме того, группа излучающих волноводов размещена на смежных стенках пирамидальных рупоров. 1 з.п. ф-лы. 1 ил.

Description

Изобретение относится к устройствам сверхвысокочастотного нагрева и сушки веществ, обладающих диэлектрическими потерями в диапазоне СВЧ.
Известна камера для СВЧ нагрева (СВЧ-энергетика. /Под ред. Э.Окресса. - М. Мир, 1971/, содержащая полость прямоугольного сечения, на одной из стенок которой расположены излучающие волноводы.
Однако возбуждаемая электромагнитная волна попадает на обрабатываемый материал с одной стороны, что приводит к неравномерности его нагрева.
Известна также нагревательная камера (кл. N 388328, H 01 P 7/06), содержащая прямоугольный открытый предельный резонатор, состоящий из отрезка прямоугольного волновода с двумя центральными перегородками, параллельно которым установлены четыре боковых перегородки, разделяющие поровну участки волновода, образованные его боковой поверхностью и центральными перегородками.
Однако в такой камере могут возбуждаться два типа волн, H10 и H20, что недостаточно для создания равномерного нагрева обработанных диэлектриков.
Наиболее близкой к предлагаемой является камера для СВЧ нагрева диэлектриков (авт. св. СССР N 1709556, кл. H 05 B 6/64), содержащая два отрезка волновода, имеющих форму пирамидальных рупоров, размеры, поперечного сечения которых выполнены плавно меняющимися от одного конца к другому, при этом отрезки волновода соединены между собой раскрывами большого сечения, к другим подсоединены отрезки запредельных волноводов, и элементы возбуждения отрезков волноводов. Элементы возбуждения каждого из пирамидальных рупоров выполнены в виде излучающих волноводов, расположенных в двух противоположных стенках пирамидального рупора.
Однако в данном устройстве имеются ограничения на возбуждаемые типы волн, которые обусловлены расположением излучающих волноводов на стенках рупоров.
Цель изобретения улучшение равномерности нагрева.
Поставленная цель достигается тем, что в камере для СВЧ нагрева диэлектриков, содержащей два пирамидальных рупора, сложенных раскрывами большего сечения, к меньшим сечениям которых подсоединены отрезки запредельных волноводов, и элементы возбуждения пирамидальных рупоров в виде групп излучающих волноводов на их стенках, группы излучающих волноводов каждого из пирамидальных рупоров развернуты в противоположные стороны относительно плоскости, проходящей через линии, перпендикулярные параллельным сторонам боковых стенок, на которых они размещены, и проходящие через середины этих сторон, причем угол разворота группы излучающих волноводов равен углу раскрыва пирамидального рупора.
Кроме того, группа излучающих волноводов размещена на смежных стенках пирамидальных рупоров.
Улучшение равномерности распределения поля в области расположения термообрабатываемого изделия из диэлектрика с потерями в диапазоне СВЧ достигается поворотом совокупности излучающих волноводов относительно линии, перпендикулярной параллельным сторонам боковых стенок, на которой оно расположено. Причем совокупности излучающих волноводов, расположенные на противоположных стенках рупора, повернуты в разные стороны относительно плоскости, проходящей через линии, перпендикулярные параллельным сторонам боковых стенок, на которых они размещены, и проходящие через середины этих сторон. Такое расположение излучающих волноводов обеспечивает связь как с продольными, так и поперечными компонентами магнитного поля, возбуждаемых в рупоре типов волн, и увеличивает их число. Результаты эксперимента подтверждают теоретические предпосылки такого режима пирамидального рупора.
На чертеже приведена схематически конструкция камеры для СВЧ нагрева. Камера для СВЧ нагрева диэлектриков содержит пирамидальные рупоры 1, 2, излучатели 3, запредельные волноводы 4, подводящие волноводы 5, согласованные нагрузки 6, обрабатываемый объект 7.
Пирамидальные рупоры 1, 2 сложены раскрывами и образуют камеру для обработки диэлектрика, к их горловинам подключены запредельные волноводы 4, которые используются для принудительной вентиляции камеры. Для возбуждения рупоров используются волноводно-щелевые (шлейфовые) излучатели 3, которые, в свою очередь, расположены на широких стенках подводящих волноводов 5. Волноводы 5, питающие шлейфовые излучатели, могут быть нагружены на согласованные нагрузки 6 или закорочены, если вносимое излучателем в волновод 5 затухание более 8 9 дБ.
На чертеже показаны совокупности волноводов излучателей 3, расположенные на противоположных стенках пирамидальных рупоров. Группа излучающих волноводов 3 может быть размещена на боковых смежных стенках пирамидальных рупоров. Группа волноводов излучателей пирамидального рупора 1 (чертеж) дает представление о том, как они повернуты на угол относительно линии, перпендикулярной параллельным сторонам боковых стенок, и проходящей через середины этих сторон, рупора 1. Аналогичны и другие совокупности излучающих волноводов.
Во время работы устройства в области расположения нагреваемого диэлектрика возникает большое число волн высшего типа, которое однозначно связано с расположением совокупности излучающих волноводов на боковых стенках пирамидальных рупоров.
Число волн высшего типа исключает наличие в пространстве камеры узлов, где электрическая компонента электромагнитного поля равна нулю в результате интерференции, так как волны разных типов имеют разные постоянные распространения.
Таким образом, указанный отличительный признак позволяет улучшить распределение электрической компоненты поля в месте расположения обрабатываемого диэлектрика.
Пример. Были изготовлены экспериментальные установки с раскрывом рупора 500 х 500 мм и 375 х 375 мм, работающие на частоте f 2450 МГц. Длина по оси 1000 мм и 750 мм соответственно. Угол раскрыва α 30o и 45o. Мощность 500 кВт. Возбуждение первого рупора осуществлялось через 20-элементный шлейфовый излучатель, и второго через 5-элементный с законом распределения возбуждаемых волн отдельных волноводов.
Как показал эксперимент качество высушиваемой древесины, определяемое по наличию внутренних трещин, образующихся при сушке, в установках с разворотом возбуждающих волноводов выше, чем в установках без разворотов.

Claims (2)

1. Камера для СВЧ-нагрева диэлектриков, содержащая два пирамидальных рупора, сложенных раскрывами большего сечения, к меньшим сечениям которых подсоединены отрезки запредельных волноводов, и элементы возбуждения пирамидальных рупоров в виде групп излучающих волноводов на их стенках, отличающаяся тем, что группы излучающих волноводов каждого пирамидального рупора развернуты в противоположные стороны относительно плоскости, проходящей через линии, перпендикулярные параллельным сторонам боковых стенок, на которых они размещены, и проходящие через середины этих сторон, причем угол разворота группы излучающих волноводов равен углу раскрыва пирамидального рупора.
2. Камера по п. 1, отличающаяся тем, что группа излучающих волноводов размещена на смежных стенках пирамидальных рупоров.
RU92015137A 1992-12-28 1992-12-28 Камера для свч-нагрева диэлектриков RU2071187C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU92015137A RU2071187C1 (ru) 1992-12-28 1992-12-28 Камера для свч-нагрева диэлектриков

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU92015137A RU2071187C1 (ru) 1992-12-28 1992-12-28 Камера для свч-нагрева диэлектриков

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU92015137A RU92015137A (ru) 1995-02-27
RU2071187C1 true RU2071187C1 (ru) 1996-12-27

Family

ID=20134629

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU92015137A RU2071187C1 (ru) 1992-12-28 1992-12-28 Камера для свч-нагрева диэлектриков

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2071187C1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2587394C1 (ru) * 2014-12-15 2016-06-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Казанский национальный исследовательский технический университет им. А.Н. Туполева - КАИ" (КНИТУ-КАИ) Излучатель для микроволновых установок

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1. Патент Великобритании N 1181208, кл.H 05 B 6/64, 1975. 2. Авторское свидетельство СССР N 1709556, кл. H 05 B 6/64, 1992. *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2587394C1 (ru) * 2014-12-15 2016-06-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Казанский национальный исследовательский технический университет им. А.Н. Туполева - КАИ" (КНИТУ-КАИ) Излучатель для микроволновых установок

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5998774A (en) Electromagnetic exposure chamber for improved heating
US4429313A (en) Waveguide slot antenna
US5843236A (en) Plasma processing apparatus for radiating microwave from rectangular waveguide through long slot to plasma chamber
KR930005132A (ko) 플라즈마 처리장치 및 방법
US20070215612A1 (en) Apparatus and method for microwave processing of materials
US3715551A (en) Twisted waveguide applicator
US2840818A (en) Slotted antenna
US7023393B2 (en) Slot array antenna and plasma processing apparatus
US5107602A (en) Method and an apparatus for drying veneer and similar products
US3622732A (en) Microwave applicator with distributed feed to a resonator
US3764768A (en) Microwave applicator employing a broadside slot radiator
US6888115B2 (en) Cascaded planar exposure chamber
JPH0799716B2 (ja) マイクロ波エネルギ−を用いる加熱装置
RU2071187C1 (ru) Камера для свч-нагрева диэлектриков
US6072167A (en) Enhanced uniformity in a length independent microwave applicator
JP3064875B2 (ja) 高周波加熱装置
AU2008283987B2 (en) Wide waveguide applicator
JP2010277971A (ja) プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の給電方法
US3189908A (en) Ridged waveguide slot antenna
US6753516B1 (en) Method and apparatus for controlling an electric field intensity within a waveguide
CN111183708B (zh) 微波处理装置
SU1709556A1 (ru) Камера дл СВЧ-нагрева диэлектриков
WO1988002934A1 (en) Array beam position control using compound slots
US5754008A (en) Device for creating a beam of adjustable-energy ions particularly for sequential vacuum treatment of surfaces with large dimensions
EP1145601B1 (en) Electromagnetic exposure chamber for improved heating