RU2056702C1 - Трансформаторный плазмотрон - Google Patents
Трансформаторный плазмотрон Download PDFInfo
- Publication number
- RU2056702C1 RU2056702C1 SU4848965A RU2056702C1 RU 2056702 C1 RU2056702 C1 RU 2056702C1 SU 4848965 A SU4848965 A SU 4848965A RU 2056702 C1 RU2056702 C1 RU 2056702C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- transformer
- gas
- discharge chamber
- sections
- nodes
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Использование: при обработке газообразных продуктов в диапазоне давлений от 102- мм рт. ст. до 1 атм. Сущность изобретения: секции плазмотрона образуют замкнутое кольцо. На каждой секции радиально расположен магнитопровод с первичной обмоткой. На торцовых участках секций расположены узлы ввода и вывода газа. Прилегающие друг к другу узлы ввода и вывода соседних секций разделены промежуточными диафрагмами. 1 ил.
Description
Изобретение относится к плазменной технике, использующейся в плазмохимии и металлургии, более конкретно к трансформаторным плазмотронам низкотемпературной плазмы.
Известен трансформаторный плазмотрон, содержащий стержневой магнитопровод и разрядную камеру с несколькими вводами и выводами, где патрубки вывода расположены на стенках труб разрядной камеры, а патрубки ввода на каждой трубе на равном расстоянии от примыкающих к ней патрубков вывода.
Наличие разрядной камеры с конструктивным расположением патрубков ввода и вывода газа ведет к турбулизации газового потока на выходе за счет встречи двух соседних потоков газа, что нарушает устойчивость контрагированного разряда, и напряжение на дуге возрастает, что вызывает возрастание удельного расхода электроэнергии.
Известно, что оптимальным для такого трансформаторного плазмотрона является соотношение, когда длина разрядной камеры практически равна периметру сердечника. В этом случае напряжение на дуге UдEl, где Е напряженность электрического поля; l длина разрядной камеры, приблизительно равная длине дуги, будет минимальным. В указанном трансформаторном плазмотроне указанное соотношение реализовать невозможно. Для такой конструкции плазмотрона длина разрядной камеры составляет 1,5 периметра сердечника, поэтому из-за увеличения U общая потребляемая мощность увеличивается.
Целью изобретения является снижение удельного расхода электроэнергии и увеличение производительности.
Цель достигается тем, что в трансформаторном плазмотроне, содержащем замкнутую разрядную камеру, выполненную в виде электроизолированных друг от друга охлаждаемых металлических секций, узел тангенциального ввода газа и трансформатор, содержащий по меньшей мере два магнитопровода с индивидуальными обмотками, разрядная камера выполнена в форме кольца, количество магнитопроводов, узлов ввода газа и узлов вывода газа выбрано равным количеству секций камеры, причем магнитопроводы установлены радиально по центру каждой секции, а узлы ввода и вывода газа по противоположным торцам секций и соединены между собой промежуточными диафрагмами.
Сопоставительный анализ с прототипом позволяет сделать вывод о том, что заявляемый плазмотрон отличается тем, что магнитопроводы с первичными обмотками расположены радиально по центру каждой секции, их количество, а также количество узлов ввода и вывода газа выбираются равным количеству секций камеры, при этом сама разрядная камера выполнена в форме кольца, трансформатор содержит по меньшей мере два магнитопровода с первичными обмотками, а узлы ввода и вывода газа установлены по противоположным торцам секций и соединены между собой промежуточными диафрагмами. Таким образом, заявляемое техническое решение соответствует критерию "новизна".
Анализ известных технических решений позволяет сделать вывод об отсутствии в них признаков, сходных с существенными отличительными признаками в заявляемом плазмотроне, и признать заявляемое решение соответствующим критерию "существенные отличия".
На чертеже показан плазмотрон.
Он состоит из нескольких магнитопроводов 1 с первичными обмотками 2, расположенных радиально по центру каждой секции 3 замкнутой разрядной камеры, узлов ввода 4 и вывода 5 газообразных продуктов. Узлы ввода и вывода расположены по противоположным торцам секций и соединены между cобой введенными промежуточными диафрагмами 6.
Плазмотрон работает следующим образом.
Разряд зажигается при пониженном давлении 10-1-10-2 мм рт.ст. Затем давление в разрядной камере может подниматься до 1-10 атм. Ввод газа осуществляется через узел 4. Прореагированный в плазме поток поджимается диафрагмой. Основная часть газового потока и продукты реакций выходят из разрядной камеры. Небольшая часть газового потока, непосредственно окружающего ядро дуги, проходит через диафрагму во входной узел следующего участка разрядной камеры, где дуга вновь стабилизируется входящим газом. Тем самым не нарушается устойчивость дуги.
Claims (1)
- ТРАНСФОРМАТОРНЫЙ ПЛАЗМОТРОН, содержащий замкнутую разрядную камеру, выполненную в виде электроизолированных одна от другой охлаждаемых металлических секций, узел тангенциального ввода газа, узел вывода газа и трансформатор, содержащий по меньшей мере два магнитопровода с индивидуальными обмотками, отличающийся тем, что, с целью снижения удельного расхода энергии и повышения производительности плазмотрона, разрядная камера выполнена в форме кольца, количество магнитопроводов, узлов ввода газа и узлов вывода газа выбрано равным количеству секций камеры, причем магнитопроводы установлены радиально по центру каждой секции, а узлы ввода и вывода газа - по противоположным торцам секций и соединены между собой введенными промежуточными диафрагмами.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4848965 RU2056702C1 (ru) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | Трансформаторный плазмотрон |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4848965 RU2056702C1 (ru) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | Трансформаторный плазмотрон |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2056702C1 true RU2056702C1 (ru) | 1996-03-20 |
Family
ID=21526318
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU4848965 RU2056702C1 (ru) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | Трансформаторный плазмотрон |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2056702C1 (ru) |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8124906B2 (en) | 1997-06-26 | 2012-02-28 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for processing metal bearing gases |
US8779322B2 (en) | 1997-06-26 | 2014-07-15 | Mks Instruments Inc. | Method and apparatus for processing metal bearing gases |
US8872525B2 (en) | 2011-11-21 | 2014-10-28 | Lam Research Corporation | System, method and apparatus for detecting DC bias in a plasma processing chamber |
US8898889B2 (en) | 2011-11-22 | 2014-12-02 | Lam Research Corporation | Chuck assembly for plasma processing |
US8999104B2 (en) | 2010-08-06 | 2015-04-07 | Lam Research Corporation | Systems, methods and apparatus for separate plasma source control |
US9083182B2 (en) | 2011-11-21 | 2015-07-14 | Lam Research Corporation | Bypass capacitors for high voltage bias power in the mid frequency RF range |
RU2558728C1 (ru) * | 2014-05-29 | 2015-08-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН) | Комбинированный индукционно-дуговой плазмотрон и способ поджига индукционного разряда |
US9111729B2 (en) | 2009-12-03 | 2015-08-18 | Lam Research Corporation | Small plasma chamber systems and methods |
US9155181B2 (en) | 2010-08-06 | 2015-10-06 | Lam Research Corporation | Distributed multi-zone plasma source systems, methods and apparatus |
US9177762B2 (en) | 2011-11-16 | 2015-11-03 | Lam Research Corporation | System, method and apparatus of a wedge-shaped parallel plate plasma reactor for substrate processing |
US9190289B2 (en) | 2010-02-26 | 2015-11-17 | Lam Research Corporation | System, method and apparatus for plasma etch having independent control of ion generation and dissociation of process gas |
US9263240B2 (en) | 2011-11-22 | 2016-02-16 | Lam Research Corporation | Dual zone temperature control of upper electrodes |
US9396908B2 (en) | 2011-11-22 | 2016-07-19 | Lam Research Corporation | Systems and methods for controlling a plasma edge region |
US9449793B2 (en) | 2010-08-06 | 2016-09-20 | Lam Research Corporation | Systems, methods and apparatus for choked flow element extraction |
US9508530B2 (en) | 2011-11-21 | 2016-11-29 | Lam Research Corporation | Plasma processing chamber with flexible symmetric RF return strap |
US9967965B2 (en) | 2010-08-06 | 2018-05-08 | Lam Research Corporation | Distributed, concentric multi-zone plasma source systems, methods and apparatus |
US10283325B2 (en) | 2012-10-10 | 2019-05-07 | Lam Research Corporation | Distributed multi-zone plasma source systems, methods and apparatus |
US10586686B2 (en) | 2011-11-22 | 2020-03-10 | Law Research Corporation | Peripheral RF feed and symmetric RF return for symmetric RF delivery |
-
1990
- 1990-07-09 RU SU4848965 patent/RU2056702C1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Краткое описание термоядерных установок ИАЭ, Препринт ИАЭ-2314.М., ИАЭ, 1973. * |
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8779322B2 (en) | 1997-06-26 | 2014-07-15 | Mks Instruments Inc. | Method and apparatus for processing metal bearing gases |
US8124906B2 (en) | 1997-06-26 | 2012-02-28 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for processing metal bearing gases |
US9111729B2 (en) | 2009-12-03 | 2015-08-18 | Lam Research Corporation | Small plasma chamber systems and methods |
US9911578B2 (en) | 2009-12-03 | 2018-03-06 | Lam Research Corporation | Small plasma chamber systems and methods |
US9735020B2 (en) | 2010-02-26 | 2017-08-15 | Lam Research Corporation | System, method and apparatus for plasma etch having independent control of ion generation and dissociation of process gas |
US9190289B2 (en) | 2010-02-26 | 2015-11-17 | Lam Research Corporation | System, method and apparatus for plasma etch having independent control of ion generation and dissociation of process gas |
US9967965B2 (en) | 2010-08-06 | 2018-05-08 | Lam Research Corporation | Distributed, concentric multi-zone plasma source systems, methods and apparatus |
US8999104B2 (en) | 2010-08-06 | 2015-04-07 | Lam Research Corporation | Systems, methods and apparatus for separate plasma source control |
US9155181B2 (en) | 2010-08-06 | 2015-10-06 | Lam Research Corporation | Distributed multi-zone plasma source systems, methods and apparatus |
US9449793B2 (en) | 2010-08-06 | 2016-09-20 | Lam Research Corporation | Systems, methods and apparatus for choked flow element extraction |
US9177762B2 (en) | 2011-11-16 | 2015-11-03 | Lam Research Corporation | System, method and apparatus of a wedge-shaped parallel plate plasma reactor for substrate processing |
US8872525B2 (en) | 2011-11-21 | 2014-10-28 | Lam Research Corporation | System, method and apparatus for detecting DC bias in a plasma processing chamber |
US9508530B2 (en) | 2011-11-21 | 2016-11-29 | Lam Research Corporation | Plasma processing chamber with flexible symmetric RF return strap |
US9083182B2 (en) | 2011-11-21 | 2015-07-14 | Lam Research Corporation | Bypass capacitors for high voltage bias power in the mid frequency RF range |
US9263240B2 (en) | 2011-11-22 | 2016-02-16 | Lam Research Corporation | Dual zone temperature control of upper electrodes |
US9396908B2 (en) | 2011-11-22 | 2016-07-19 | Lam Research Corporation | Systems and methods for controlling a plasma edge region |
US8898889B2 (en) | 2011-11-22 | 2014-12-02 | Lam Research Corporation | Chuck assembly for plasma processing |
US10586686B2 (en) | 2011-11-22 | 2020-03-10 | Law Research Corporation | Peripheral RF feed and symmetric RF return for symmetric RF delivery |
US10622195B2 (en) | 2011-11-22 | 2020-04-14 | Lam Research Corporation | Multi zone gas injection upper electrode system |
US11127571B2 (en) | 2011-11-22 | 2021-09-21 | Lam Research Corporation | Peripheral RF feed and symmetric RF return for symmetric RF delivery |
US10283325B2 (en) | 2012-10-10 | 2019-05-07 | Lam Research Corporation | Distributed multi-zone plasma source systems, methods and apparatus |
RU2558728C1 (ru) * | 2014-05-29 | 2015-08-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук (ИТ СО РАН) | Комбинированный индукционно-дуговой плазмотрон и способ поджига индукционного разряда |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2056702C1 (ru) | Трансформаторный плазмотрон | |
US10674594B2 (en) | Harmonic cold plasma device and associated methods | |
US5503809A (en) | Compact ozone generator | |
US6815899B2 (en) | Remote plasma generator | |
US3280018A (en) | Method for chemically reacting flowing gases | |
WO2003041112A3 (en) | Non-thermal plasma slit discharge apparatus | |
EP0242023A3 (en) | Plasma-arc torch with gas cooled blow-out electrode | |
RU2094961C1 (ru) | Трансформаторный плазмотрон | |
US5374802A (en) | Vortex arc generator and method of controlling the length of the arc | |
US10010854B2 (en) | Plasma reactor for liquid and gas | |
US3308050A (en) | Electric discharge apparatus for chemically reacting flowing gases | |
DE60209926D1 (de) | Mikrowellen-plasmagenerator | |
KR20040012858A (ko) | 오존 발생 방법 및 장치 | |
KR20160049630A (ko) | 파티클 저감 구조를 갖는 플라즈마 챔버 | |
US3480829A (en) | Electric arc light source and method | |
RU2061262C1 (ru) | Обмотка для создания тороидального магнитного поля | |
US20030194358A1 (en) | Ozone generator | |
KR100464809B1 (ko) | 원격 플라즈마 발생기 | |
US4454436A (en) | Disc-shaped M.H.D. generator | |
US20240216887A1 (en) | Plasma reactor for plasma-based gas conversion comprising an effusion nozzle | |
ATE106780T1 (de) | Wirbelkammerabscheider. | |
RU2407249C2 (ru) | Устройство для получения плазмы с разомкнутым магнитопроводом и способ осуществления электрического разряда и получения плазмы в нем | |
RU2775363C1 (ru) | Электродуговой плазмотрон переменного тока | |
RU2379860C1 (ru) | Трансформаторный плазмотрон с диэлектрической разрядной камерой | |
US6967009B2 (en) | Ozone generator |