RU2046838C1 - Apparatus for cooling substrates in vacuum - Google Patents
Apparatus for cooling substrates in vacuum Download PDFInfo
- Publication number
- RU2046838C1 RU2046838C1 RU93043978A RU93043978A RU2046838C1 RU 2046838 C1 RU2046838 C1 RU 2046838C1 RU 93043978 A RU93043978 A RU 93043978A RU 93043978 A RU93043978 A RU 93043978A RU 2046838 C1 RU2046838 C1 RU 2046838C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- substrate
- substrate holder
- heat pipe
- heat
- cooling
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к технологической обработке подложек в вакууме, в частности к устройствам для охлаждения подложек в вакууме. The invention relates to the processing of substrates in a vacuum, in particular to devices for cooling the substrates in a vacuum.
Известно устройство для охлаждения подложек в вакууме [1] содержащее охлаждаемый подложкодержатель и механические прижимы подложки. A device for cooling substrates in vacuum [1] containing a cooled substrate holder and mechanical clamps of the substrate.
Недостатком этого устройства является малая эффективность охлаждения из-за наличия зазора между подложкой и подложкодержателем. The disadvantage of this device is the low cooling efficiency due to the presence of a gap between the substrate and the substrate holder.
Наиболее близким к изобретению по технической сущности и достигаемому результату является устройство для охлаждения подложек в вакууме [2] содержащее охлаждаемый подложкодержатель, механические прижимы и теплопроводящее вещество, взаимодействующее с подложкой и подложкодержателем. В качестве теплопроводящего вещества используется серебряная паста. Недостатком данного устройства является малая эффективность охлаждения за счет малой площади контакта между подложкой и теплопроводящим веществом, а также за счет малой теплопроводности собственно подложкодержателя. Задача изобретения повышение эффективности охлаждения подложек в вакууме. The closest to the invention in technical essence and the achieved result is a device for cooling the substrates in vacuum [2] containing a cooled substrate holder, mechanical clamps and a heat-conducting substance interacting with the substrate and the substrate holder. As a heat-conducting substance, silver paste is used. The disadvantage of this device is the low cooling efficiency due to the small contact area between the substrate and the heat-conducting substance, and also due to the low thermal conductivity of the substrate holder itself. The objective of the invention is to increase the cooling efficiency of the substrates in a vacuum.
Для этого в подложкодержателе выполнено сквозное отверстие, в котором закреплена тепловая труба в форме диска, а теплопроводный материал расположен между подложкой и тепловой трубой, которые по диаметру выполнены одинаковыми. For this, a through hole is made in the substrate holder, in which a heat pipe in the form of a disk is fixed, and the heat-conducting material is located between the substrate and the heat pipe, which are identical in diameter.
В качестве теплопроводного материала может использоваться жидкий галлий. As the heat-conducting material, liquid gallium can be used.
Введение в устройство для охлаждения подложек тепловой трубы в форме диска, а также расположение теплопроводного материала между подложкой и тепловой трубой обеспечивает условия, при которых возрастает площадь контакта между подложкой и теплопроводным материалом, а также возрастает теплопередача от тепловой трубы к подложке, что обеспечивает повышение эффективности охлаждения подложек в вакууме. The introduction of a disk-shaped heat pipe into the substrate cooling apparatus, as well as the location of the heat-conducting material between the substrate and the heat pipe, provides conditions under which the contact area between the substrate and the heat-conducting material increases, and also the heat transfer from the heat pipe to the substrate increases, which improves efficiency cooling the substrates in a vacuum.
На чертеже представлено предлагаемое устройство для охлаждения подложек в вакууме. The drawing shows the proposed device for cooling the substrates in a vacuum.
Устройство для охлаждения подложек в вакууме содержит охлаждаемый подложкодержатель 1, посредством водяной рубашки 2, механические прижимы 3, подложки 4 и теплопроводный материал 5, взаимодействующий с подложкой 4. В подложкодержателе 1 выполнено сквозное отверстие 6, в котором закреплена тепловая труба 7 в форме диска, а теплопроводный материал 5, например жидкий галлий, расположен между подложкой 4 и тепловой трубой 7, которые по диаметру выполнены одинаковыми. A device for cooling substrates in a vacuum comprises a cooled substrate holder 1, by means of a water jacket 2, mechanical clamps 3, substrates 4, and heat-conducting material 5 interacting with the substrate 4. In the substrate holder 1, a through hole 6 is made in which a heat pipe 7 in the form of a disk is fixed, and heat-conducting material 5, for example liquid gallium, is located between the substrate 4 and the heat pipe 7, which are identical in diameter.
Устройство работает следующим образом. The device operates as follows.
Передача "холода" от водяной рубашки 2 осуществляется посредством тепловой трубы 7 через жидкий галлий. Обратная теплопередача, т.е. тепла от источника (не показан) не производится или производится незначительно, так как диаметры подложек 4 и тепловой трубы 7 равны, а сама подложка 4, выполненная из кремния, ситалла или поликора, является удовлетворительным теплоизолятором. The transfer of "cold" from the water jacket 2 is carried out by means of a heat pipe 7 through liquid gallium. Reverse heat transfer i.e. heat from a source (not shown) is not produced or is produced insignificantly, since the diameters of the substrates 4 and the heat pipe 7 are equal, and the substrate 4 itself, made of silicon, ceramic or polycor, is a satisfactory heat insulator.
Применение предлагаемого устройства для охлаждения подложек повышает эффективность охлаждения подложки за счет увеличения площади контакта между подложкой и теплопроводным материалом, а также за счет увеличения теплопередачи от тепловой трубы к подложке. The use of the proposed device for cooling substrates improves the cooling efficiency of the substrate by increasing the contact area between the substrate and the heat-conducting material, as well as by increasing the heat transfer from the heat pipe to the substrate.
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU93043978A RU2046838C1 (en) | 1993-09-07 | 1993-09-07 | Apparatus for cooling substrates in vacuum |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU93043978A RU2046838C1 (en) | 1993-09-07 | 1993-09-07 | Apparatus for cooling substrates in vacuum |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2046838C1 true RU2046838C1 (en) | 1995-10-27 |
RU93043978A RU93043978A (en) | 1996-06-10 |
Family
ID=20147250
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU93043978A RU2046838C1 (en) | 1993-09-07 | 1993-09-07 | Apparatus for cooling substrates in vacuum |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2046838C1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2808620C2 (en) * | 2022-02-28 | 2023-11-30 | Акционерное общество "Омский научно-исследовательский институт приборостроения" (АО "ОНИИП") | Device for attaching substrates during deposition of thin films (variants) |
-
1993
- 1993-09-07 RU RU93043978A patent/RU2046838C1/en active
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
1. Ивановский Г.Ф. и Петров В.И. "Ионно-плазменная обработка материалов. М.: Радио и связь, 1986, с.232, ил.с.194. * |
2. Ивановский Г.Ф. и Петров В.И. "Ионно-плазменная обработка материалов. М.: Радио и связь, 1986, с.232, ил.с.195. * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2808620C2 (en) * | 2022-02-28 | 2023-11-30 | Акционерное общество "Омский научно-исследовательский институт приборостроения" (АО "ОНИИП") | Device for attaching substrates during deposition of thin films (variants) |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4645218A (en) | Electrostatic chuck | |
FR2431187A1 (en) | CONCENTRATOR MODULE FOR ALIGNMENTS OF SOLAR CELLS | |
BR9705274A (en) | Heat sink for vacuum switch and vacuum switch. | |
RU2005110399A (en) | INTEGRAL THERMOELECTRIC MODULE | |
KR940012570A (en) | Low thermal expansion clamp device and clamping method | |
KR940006220A (en) | Heat treatment equipment | |
EP1195746A3 (en) | Semiconductor device, semiconductor module and hard disk | |
US3826957A (en) | Double-sided heat-pipe cooled power semiconductor device assembly using compression rods | |
EP1195813A3 (en) | Semiconductor device, semiconductor module and hard disk | |
RU2046838C1 (en) | Apparatus for cooling substrates in vacuum | |
RU2010114722A (en) | DEVICE FOR DISPOSING HEAT LOSSES, AND ALSO ION ACCELERATOR SYSTEM WITH SUCH DEVICE | |
ATE181199T1 (en) | ELECTRIC HEATING ELEMENT | |
KR880002241A (en) | High Temperature Chuck Assembly for Integrated Circuit Wafer | |
TW429480B (en) | The thermal processing apparatus for sheet-like workpieces | |
JPH0752749B2 (en) | Wafer holding mechanism | |
WO1995017765A3 (en) | Liquid cooled heat sink for cooling electronic components | |
GB8308751D0 (en) | Mounting of semiconductor devices | |
JPH06349722A (en) | Substrate heating device | |
RU2076390C1 (en) | Method for vacuum cooling of semiconductor plates | |
RU93043978A (en) | COOLING DEVICE FOR SUBSTRATES IN VACUUM | |
RU2089662C1 (en) | Cooling system of substrates in vacuum | |
JP2692162B2 (en) | Dry etching equipment | |
KR970063561A (en) | Electrode Plates for Plasma Etching | |
RU2089654C1 (en) | Device for cooling of substrates in vacuum | |
SU1248674A1 (en) | Method of cooling composite magnetostrictive transducer |