RU2035103C1 - Injection laser - Google Patents

Injection laser Download PDF

Info

Publication number
RU2035103C1
RU2035103C1 RU93003840A RU93003840A RU2035103C1 RU 2035103 C1 RU2035103 C1 RU 2035103C1 RU 93003840 A RU93003840 A RU 93003840A RU 93003840 A RU93003840 A RU 93003840A RU 2035103 C1 RU2035103 C1 RU 2035103C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
emitter layer
emitter
base
injection laser
layer
Prior art date
Application number
RU93003840A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU93003840A (en
Inventor
Е.И. Давыдова
В.В. Поповичев
М.Б. Успенский
С.Е. Хлопотин
В.И. Швейкин
В.А. Шишкин
Original Assignee
Швейкин Василий Иванович
Шишкин Виктор Александрович
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Швейкин Василий Иванович, Шишкин Виктор Александрович filed Critical Швейкин Василий Иванович
Priority to RU93003840A priority Critical patent/RU2035103C1/en
Publication of RU93003840A publication Critical patent/RU93003840A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2035103C1 publication Critical patent/RU2035103C1/en

Links

Images

Landscapes

  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

FIELD: quantum electronics. SUBSTANCE: injection laser is based on heterostructure of semiconductor compositions AIIIBIV and of their solid solutions with emitter layers and active region positioned between them, mesastrip with base placed into it with emitter layer closest to it and barrier layers of lead selenide. Shape and dimensions of mesastrip as well as size of opposite emitter layer are chosen properly. EFFECT: expanded field of application. 1 dwg

Description

Изобретение относится к полупроводниковой квантовой электронике, к лазерным и суперлюминесцентным источникам излучения, используемым в системах связи, считывания и записи информации, контрольно-измерительной аппаратуре, медицинской технике и т.д. The invention relates to semiconductor quantum electronics, to laser and superluminescent radiation sources used in communication systems, reading and recording information, instrumentation, medical equipment, etc.

Известна конструкция инжекционного лазера с гребневидным волноводом, сформированным в двойной гетероструктуре путем формирования мезаполоски с основанием, лежащим в ближайшем эмиттерном слое. В этом случае на боковых границах мезаполоски возникает скачок эффективного показателя преломления, обеспечивающий боковое оптическое ограничение излучения [1]
Наиболее близким по технической сущности и решаемой задаче является инжекционный лазер на основе гетероструктуры полупроводниковых соединений AlllBV и их твердых растворов с эмиттерными слоями и помещенной между ними активной областью, мезаполоской с основанием, расположенным в ближайшем к ней эмиттерном слое, и барьерными слоями из селенида цинка, расположенными на боковых поверхностях мезаполоски и прилегающих поверхностях эмиттерного слоя [2] Селенид цинка имеет более высокое объемное сопротивление (≈107 Ом ˙см) и меньший, чем у AlGaAs, показатель преломления (n 2,58 при длине волны λ= 0,83 мкм). В результате ток утечки сквозь барьерный слой снижается до ничтожного значения, а под полоской образуется устойчивый гребневидный волновод с хорошим боковым оптическим ограничением, причем поглощение излучения в более широкозонном материале (ZnSe) практически отсутствует.
A known design of an injection laser with a comb-shaped waveguide formed in a double heterostructure by forming a mesa strip with a base lying in the nearest emitter layer. In this case, a jump in the effective refractive index arises at the lateral boundaries of the mesoscale strip, providing lateral optical radiation limitation [1]
The closest in technical essence and the problem to be solved is an injection laser based on the heterostructure of semiconductor compounds Allll V V and their solid solutions with emitter layers and an active region placed between them, a mesa strip with a base located in the nearest emitter layer, and barrier layers of zinc selenide, disposed on the side surfaces and the adjacent surfaces mezapoloski emitter layer [2] zinc selenide has a higher volume resistivity (≈10 ˙sm 7 ohm) and less than that of AlGaAs, HALE refraction (n 2,58 at a wavelength of λ = 0,83 m). As a result, the leakage current through the barrier layer decreases to an insignificant value, and a stable comb-shaped waveguide with good lateral optical restriction is formed under the strip, and radiation absorption in the wider band gap material (ZnSe) is practically absent.

Отмеченные выше потенциальные возможности конструкции с барьерным слоем из ZnSe в данной работе полностью не реализованы. Можно выделить лишь высокое значение внешней квантовой эффективности (76%). Остальные параметры: пороговый ток 28 мА и линейность ватт-амперной характеристики до 15 мВт не удовлетворяют современным требованиям. Также в данной конструкции невозможно получить одномодовый характер генерации при уровнях мощности порядка 50-100 мВт. Максимальный скачок Δ nэфф 2,2˙10-3 недостаточен для создания оптимального оптического ограничения. Большая разность показателей преломления внутри волновода и вне его Δ n 3,5-2,6 из-за опасности возникновения поперечных колебаний не позволяет уменьшить ширину мезаполоски, необходимую для получения стабильного одномодового режима. Весьма затруднительно воспроизводимое изготовление приборов с мезаполоской конструкции, описанной в прототипе.The potential possibilities noted above for the design with a ZnSe barrier layer are not fully realized in this work. Only a high value of the external quantum efficiency (76%) can be distinguished. Other parameters: threshold current 28 mA and linearity of the watt-ampere characteristic up to 15 mW do not meet modern requirements. Also in this design it is impossible to obtain a single-mode character of generation at power levels of about 50-100 mW. The maximum jump Δ n eff 2.2˙10 -3 is insufficient to create the optimal optical limitation. The large difference in the refractive indices inside and outside the waveguide Δ n 3.5-2.6 due to the risk of transverse vibrations does not allow to reduce the width of the mesa strip required to obtain a stable single-mode regime. It is very difficult to reproduce the manufacture of devices with mesopole design described in the prototype.

Техническим результатом изобретения является стабилизация одномодового режима генерации при повышении мощности излучения и улучшение пространственной диаграммы излучения. The technical result of the invention is the stabilization of the single-mode generation mode with increasing radiation power and the improvement of the spatial radiation pattern.

В настоящем инжекционном лазере мезаполоска имеет в поперечном сечении форму прямоугольника шириной 1.3 мкм с плавным расширением, начинающимся на расстоянии от основания не более чем 0,3 мкм, причем отношение ширины основания мезаполоски к ширине ее прямоугольной части лежит в диапазоне 1,5.3,0, а толщина противоположного эмиттерного слоя составляет не менее 2,5 мкм. In the present injection laser, the messtrip has a cross-sectional shape of a rectangle 1.3 microns wide with a smooth expansion starting at a distance from the base of no more than 0.3 microns, and the ratio of the width of the messtrip base to the width of its rectangular part lies in the range 1.5.3.0, and the thickness of the opposite emitter layer is at least 2.5 μm.

На чертеже показан предлагаемый лазер. The drawing shows the proposed laser.

Лазер содержит гетероэпитаксиальную четырехслойную структуру 1, эмиттеры 2 и 3, контактный слой 4, мезаполоску 5, барьерный слой 6 из ZnSe, активную область 7, диаграмму 8 излучения в плоскости p-n-перехода, подложку 9, слои 10 и 11 оптических контактов, расширенный контакт 12 и трехслойный волновод 13. The laser contains a heteroepitaxial four-layer structure 1, emitters 2 and 3, a contact layer 4, a mesa strip 5, a barrier layer 6 of ZnSe, an active region 7, a radiation pattern 8 in the pn junction plane, a substrate 9, layers of optical contacts 10 and 11, an extended contact 12 and a three-layer waveguide 13.

П р и м е р. В пятислойной эпитаксиальной структуре на λ 0,85 мкм составе контактный слой 4 GaAsp++. Р-эмиттер 3 Al0,6Ga0,4As, волноводный слой Al0,3Ga0,7As, активная область 7 Al0,05Ga0,95As, волноводный слой Al0,3Ga0,4As, N-эмиттер 2 Al0,6Ga0,4As. Сформирована мезаполоска 5 шириной 2,8 мкм. Толщина Р-эмиттера 3 вне мезы составила 0,05 мкм, а начало плавного расширения мезы удалено от активной области на 0,2 мкм. Мезаструктура со сформированным полосковым омическим контактом слоя 10 была заращена слоем 6 ZnSе толщиной 0,4 мкм, а после его удаления со стороны эпитаксиальных слоев напылен расширенный контакт 12.PRI me R. In the five-layer epitaxial structure at λ 0.85 μm composition, the contact layer is 4 GaAsp ++ . P emitter 3 Al 0.6 Ga 0.4 As, waveguide layer Al 0.3 Ga 0.7 As, active region 7 Al 0.05 Ga 0.95 As, waveguide layer Al 0.3 Ga 0.4 As N-emitter 2 Al 0.6 Ga 0.4 As. Formed messtrip 5 with a width of 2.8 μm. The thickness of the P-emitter 3 outside the Mesa was 0.05 μm, and the beginning of the smooth expansion of the Mesa was 0.2 μm from the active region. The mesastructure with the formed strip ohmic contact of layer 10 was overgrown with a 0.4 μm thick ZnSe layer 6, and after its removal from the side of the epitaxial layers, the expanded contact 12 was sprayed.

Формирование сплошного контакта Au-Ge-Au производилось по стандартной технологии. Затем пластина разделялась на элементы, которые напаивались на медный теплоотвод для испытаний. The formation of a continuous contact Au-Ge-Au was carried out according to standard technology. Then the plate was divided into elements that were soldered to a copper heat sink for testing.

Измерения дали следующие результаты, существенно превосходящие параметры лазеров, описанных в прототипе:
Iпор 20-25 мА
ηэфф 60-70%
Линейность ВТАХ до 80-100 мВт
Предельная мощность до 200 мВт
Угловая расходимость излучения 10х25о
Астигматическая разность менее 5 мкм.
The measurements gave the following results, significantly superior to the parameters of the lasers described in the prototype:
I then 20-25 mA
η eff 60-70%
VTAC linearity up to 80-100 mW
Ultimate power up to 200 mW
Angular divergence of radiation 10х25 о
Astigmatic difference less than 5 microns.

Проведенные экспериментальные исследования предложенного инжекционного лазера, как и показано в примере, позволили снизить пороговые токи, увеличить квантовую эффективность, улучшить линейность ватт-амперной характеристики, что позволило стабилизировать одномодовый режим регенерации при повышенных мощностях излучения (до 200 мВт в непрерывном режиме) и улучшить пространственную диаграмма излучения, приближая ее к окружности при снижении астигматизма. The experimental studies of the proposed injection laser, as shown in the example, made it possible to reduce threshold currents, increase quantum efficiency, improve the linearity of the watt-ampere characteristic, which made it possible to stabilize the single-mode regeneration mode at increased radiation powers (up to 200 mW in continuous mode) and improve the spatial radiation pattern, bringing it closer to a circle with a decrease in astigmatism.

Claims (1)

ИНЖЕКЦИОННЫЙ ЛАЗЕР на основе гетероструктуры полупроводниковых соединений AI I I BV и их твердых растворов с эмиттерными слоями и помещенной между ними активной областью, мезаполоской с основанием, расположенным в ближайшем к ней эмиттерном слое, и барьерными слоями из селенида цинка, расположенными на боковых поверхностях мезаполоски и прилегающих поверхностях эмиттерного слоя, отличающийся тем, что мезаполоска имеет в поперечном сечении форму прямоугольника шириной 1 3 мкм с плавным расширением, начинающимся на расстоянии от основания не более 0,3 мкм, причем отношение ширины основания мезаполоски к ширине ее прямоугольной части лежит в диапазоне 1,5 3,0, а толщина противоположного эмиттерного слоя составляет не менее 2,5 мкм.INJECTION LASER based on the heterostructure of semiconductor compounds A I I I B V and their solid solutions with emitter layers and the active region placed between them, a mesa strip with a base located in the nearest emitter layer, and zinc selenide barrier layers located on the side surfaces mesapods and adjacent surfaces of the emitter layer, characterized in that the mesopodos has a cross-section in the form of a rectangle of 1 to 3 microns wide with a smooth expansion starting at a distance from the base not more than 0.3 μm, and the ratio of the width of the base of the mesa strip to the width of its rectangular part lies in the range of 1.5 to 3.0, and the thickness of the opposite emitter layer is at least 2.5 μm.
RU93003840A 1993-01-26 1993-01-26 Injection laser RU2035103C1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU93003840A RU2035103C1 (en) 1993-01-26 1993-01-26 Injection laser

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU93003840A RU2035103C1 (en) 1993-01-26 1993-01-26 Injection laser

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU93003840A RU93003840A (en) 1995-02-27
RU2035103C1 true RU2035103C1 (en) 1995-05-10

Family

ID=20136223

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU93003840A RU2035103C1 (en) 1993-01-26 1993-01-26 Injection laser

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2035103C1 (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2109382C1 (en) * 1996-08-19 1998-04-20 Швейкин Василий Иванович Semiconductor laser
RU2110874C1 (en) * 1996-04-24 1998-05-10 Закрытое акционерное общество "Полупроводниковые приборы" Injection semiconductor laser
WO2002052653A1 (en) * 2000-12-25 2002-07-04 Lev Vasilievich Kozhitov Nonplanar semiconductor devices provided with a cylindrical closed effective layer
RU2230411C2 (en) * 2002-04-16 2004-06-10 Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт "Полюс" им.М.Ф.Стельмаха Injection laser
RU2230410C1 (en) * 2002-12-23 2004-06-10 Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт "Полюс" им. М.Ф. Стельмаха Injection laser and laser diode strip
RU2272344C2 (en) * 2001-04-25 2006-03-20 Фудзи Фото Фильм Ко., Лтд. Semiconductor laser unit generating high-power radiation (alternatives) and its manufacturing process
RU2647565C1 (en) * 2016-11-17 2018-03-16 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого" (ФГАОУ ВО "СПбПУ") Method of producing mesa structure of strip laser

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1. ЕП 0376753, кл. H 01S 3/19, 1989. *
2. Appl.Phus.Lett., 1987, V.51, N12, p.877-879. *

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2110874C1 (en) * 1996-04-24 1998-05-10 Закрытое акционерное общество "Полупроводниковые приборы" Injection semiconductor laser
RU2109382C1 (en) * 1996-08-19 1998-04-20 Швейкин Василий Иванович Semiconductor laser
WO2002052653A1 (en) * 2000-12-25 2002-07-04 Lev Vasilievich Kozhitov Nonplanar semiconductor devices provided with a cylindrical closed effective layer
RU2272344C2 (en) * 2001-04-25 2006-03-20 Фудзи Фото Фильм Ко., Лтд. Semiconductor laser unit generating high-power radiation (alternatives) and its manufacturing process
RU2230411C2 (en) * 2002-04-16 2004-06-10 Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт "Полюс" им.М.Ф.Стельмаха Injection laser
RU2230410C1 (en) * 2002-12-23 2004-06-10 Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт "Полюс" им. М.Ф. Стельмаха Injection laser and laser diode strip
RU2647565C1 (en) * 2016-11-17 2018-03-16 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого" (ФГАОУ ВО "СПбПУ") Method of producing mesa structure of strip laser

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10303500A (en) High-output semiconductor laser diode
RU2035103C1 (en) Injection laser
JPS60150682A (en) Semiconductor laser element
US4821278A (en) Inverted channel substrate planar semiconductor laser
US4581743A (en) Semiconductor laser having an inverted layer in a stepped offset portion
JPS58225681A (en) semiconductor laser device
JPH029468B2 (en)
JPH0671121B2 (en) Semiconductor laser device
JPS62137893A (en) semiconductor laser
JPH03203282A (en) Semiconductor laser diode
KR100277936B1 (en) Compound semiconductor laser diode and manufacturing method thereof
JP2628638B2 (en) Semiconductor laser device
JPS6257271A (en) Semiconductor laser device
JPS61214591A (en) Semiconductor laser element
JPH01125570U (en)
JP2005340576A (en) Semiconductor laser device and method for manufacturing the same, optical disc apparatus, and optical transmission system
JPS60163484A (en) Semiconductor laser
JPH02254784A (en) semiconductor laser device
JPS58110085A (en) Buried type semiconductor laser
JPH01123492A (en) semiconductor laser equipment
JPH02196489A (en) Semiconductor laser
JPS58207691A (en) Semiconductor laser element
KR950010203A (en) Semiconductor laser diode with leakage waveguide structure
JPS59205788A (en) Semiconductor laser
JPH0513888A (en) Semiconductor light emitting device and method of manufacturing the same

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20100127